【課題】乾式めっき法および電気めっき法を使用したフレキシブル配線板の製造における上記の問題点を解決し、絶縁体フィルム上に乾式めっき処理によって下地金属層を形成する時に生ずるピンホールに起因する銅被膜部の欠落がなく、かつ絶縁体フィルムと下地金属層との密着性、耐食性に優れ、絶縁信頼性の高い銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の２層フレキシブル基板は、絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに直接下地金属層を形成し、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成する２層フレキシブル基板において、前記下地金属層は、乾式めっき法により形成された、チタンの割合が５〜２２重量％、モリブデンの割合が２〜４０重量％で残部がニッケルのニッケル−チタン−モリブデン合金を主として含有する膜厚３〜５０ｎｍの下地金属層からなり、次いで該下地金属層上に銅被膜層を形成する。 （もっと読む）

【課題】下地金属層を形成する時に生ずるピンホールに起因する銅被膜部の欠落がなく、かつ絶縁体フィルムと下地金属層との密着性、耐食性に優れ、絶縁信頼性の高い銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板を提供する。
【解決手段】絶縁体フィルムの少なくとも片面に、接着剤を介さずに、乾式めっき法により、チタンの割合が３〜２２重量％、クロムの割合が５〜２２重量％で残部がニッケルのニッケル−チタン−クロム合金を主として含有する膜厚３〜５０ｎｍの下地金属層を形成し、次いで該下地金属層上に湿式めっき法により銅被膜層を形成した２層フレキシブル基板とその製造方法。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、従来と同等以上の記録再生特性を確保しつつ、トラック密度を大幅に増加させ、ひいては面記録密度を増加させようとすることを目的とする。
【解決手段】 本発明は、成膜装置１０内に、非磁性基板１１、ターゲット材１２、マグネット板２１を平行に配置し、ターゲット材には高周波電圧を印加し、マグネット板の表面には交互に異なる極性を等間隔で生じさせ、ターゲット材の周囲にプラズマを発生させ、非磁性基板にスパッタリング法により薄膜を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高信頼性の半導体素子を得るために高融点金属、高融点金属からなる合金、高融点金属の珪化物、Ｔｉ，Ｔａ，Ｗ，Ｔｉ−Ｗ合金の窒化物からなる膜をコンタクトバリアー層またはゲート電極などに用い、半導体素子のリーク電流を抑える。
【解決手段】Ｔｉ原料からＡｌを除去してＡｌ濃度が３ｐｐｍ以下であるマグネトロンスパッタリング装置用Ｔｉ材を調製し、このＴｉ材を用いてＡｌ含有量が原子数で１×１０^１８個／ｃｍ^３以下であり結晶質または非晶質であるコンタクトバリアー又はゲート電極層をスパッタリング法により形成することを特徴とするソース−ドレイン領域の接合深さが０．３μｍ以下である半導体素子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 電気クロムメッキに近い外観を有し、明るさおよび色調を調整する必要がある新しい顔料のニーズにも対応でき、優れた耐食性および耐薬品性を有する塗膜を得ることができる耐食光輝性顔料を、提供する。
【解決手段】 Ｃｒ合金、Ｔｉ合金およびＮｉ合金から選ばれた少なくとも１種類の金属膜であり、表面反射率が１０％〜４９％である第１の金属膜と、Ａｌ、Ａｌ合金およびＮｉ合金から選ばれた１種類の金属膜であり、表面反射率が５０％〜９５％である第２の金属膜とが積層されているフレーク状金属片を含有する。 （もっと読む）

【課題】 明るさおよび色調を調整する必要がある新しい意匠のニーズにも対応でき、優れた耐食性および耐薬品性を有する塗膜を得ることができる耐食光輝性顔料を、提供する。
【解決手段】 Ｃｒ合金、Ｔｉ合金、Ｎｉ合金およびＡｌ合金から選ばれた少なくとも１種類であり金属外観を有する金属外観膜と、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｙ、Ｌａ、ＣｅおよびＵから選ばれた少なくとも１種類の金属の窒化膜またたは炭化膜であり有色である有色金属化合物膜とが積層される。あるいは、Ｃｒ合金、Ｔｉ合金、Ｎｉ合金およびＡｌ合金から選ばれた少なくとも１種類であり金属外観を有する金属外観膜と、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｗ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｙ、Ｌａ、ＣｅおよびＵから選ばれた少なくとも１種類の金属であり有色である有色金属膜とが積層されたフレーク状金属片を含有される。 （もっと読む）

窒化チタン基光学コーティングにおいて、窒化チタン層（１８）と基層（１２）との間に損傷遅延基層（１６）を施与することにより、コーティングの構造的安定性が向上される。光学コーティングがソーラー制御を与える場合には、窒化チタン層は主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の光学的特性を達成するために選択される。損傷遅延層の厚さは主として所望の機械的特性を達成するために選択される。損傷遅延層は灰色金属から形成され、ニッケルクロムが好ましい金属である。灰色金属層は窒化チタン層が割れる可能性を低減する。そのような層が割れれたり虫跡を形成する傾向は、基層をプラズマプレグロー（８８）に露光するかおよび／または層が形成される基層の側に滑剤（１４）を用いることにより、さらに低減される。
（もっと読む）

Ｐｔ含有量が０．１〜２０ｗｔ％であるＮｉ−Ｐｔ合金であって、ビッカース硬度が４０〜９０である加工性に優れたＮｉ−Ｐｔ合金及び同ターゲット。３Ｎレベルの原料Ｎｉを電気化学的に溶解する工程、電解浸出した溶液をアンモニアで中和する工程、活性炭を用いてろ過し不純物を除去する工程、炭酸ガスを吹き込んで炭酸ニッケルとし、還元性雰囲気で高純度Ｎｉ粉を製造する工程、３Ｎレベルの原料Ｐｔを酸で浸出する工程、浸出した溶液を電解により高純度電析Ｐｔを製造する工程からなり、これらの製造された高純度Ｎｉ粉と高純度電析Ｐｔを溶解する工程からなる加工性に優れたＮｉ−Ｐｔ合金の製造方法。Ｎｉ−Ｐｔ合金インゴットの硬度を低下させて圧延を可能とし、圧延ターゲットを安定して効率良く製造する技術を提供することを目的とする。 （もっと読む）

【課題】光学コーティングの腐食・傷耐性バリアを提供すること。
【解決手段】酸化可能な金属珪素化合物又は金属アルミニウム化合物を、光学コーティングの外層の１つとして使用する。この層は、未酸化又は一部酸化状態で付着され、この化学状態で、下の層を腐食から保護する。該金属化合物又は合金の層は、大多数の金属を超える硬さを有し、それにより傷からの保護を提供する。
（もっと読む）

本発明は、高温時の腐食及び酸化から構造部材を保護する保護層に関する。この保護層は、重量％にて０．５〜２％のレニウム、２４〜２６％のコバルト、１５〜２１％のクロム、９〜１１．５％のアルミニウム、０．０５〜０．７％のイットリウム及び／又はスカンジウムと希土類の元素とを含む群からの少なくとも１つの等価金属、０〜１％のルテニウム、残りニッケル並びに製造に由来する不純物からなる。本発明による保護層は、クロム−レニウム析出物により殆ど脆弱化を示すことはない。従って本発明は、腐食及び酸化時に耐高温性に優れ、十分に長期安定性であり、更に高温時のガスタービン内に予想される機械的応力に格別良好に適合する保護及びその製造方法を提供する。
（もっと読む）

【課題】 高保磁力で、熱揺らぎの影響を受けにくく、かつ大幅なＳ／Ｎ比の改善をもたらす磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも、下地層及び磁性層を順次積層してなる磁気記録媒体において、前記下地層と前記基板との間にプリコート層を介在させ、前記プリコート層がＮｉとＰとを含む下層と、Ｃｒ合金からなる上層とを順次積層することにより構成されることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）