【課題】被処理基板の裏面端部や側面に付着した膜（汚染物質）を除去することを可能にする汚染物質除去方法等を提供する。
【解決手段】本発明の汚染物質除去方法は、表面に薄膜が形成された被処理基板７の裏面縁部及び側面に対して、真空中において、指向性を有するビームを照射することを含む。 （もっと読む）

【課題】磁性膜の作成において、良質の磁性膜を成膜できるようにする。
【解決手段】スパッタチャンバー１内に基板８を配置し、マグネトロンスパッタリングにより基板８の表面に磁性膜を作成するマグネトロンスパッタリング装置であって、磁性材のターゲット２１を保持するためのカソード２を、該ターゲット２１の中心軸と前記基板８の中心軸とが角度θで交差するように設置し、前記基板８の直径ｄと該ターゲット２１の直径Ｄとをｄ≧Ｄの関係を持つように設置すると共に、前記基板８を回転するための回転機構３３及び前記カソード２の背後に位置するカソードマグネット２２を有するマグネトロンスパッタリング装置とする。 （もっと読む）

【課題】成膜フィルムの熱負けを防止できる巻取式成膜装置を提供する。
【解決手段】基体フィルム２２を主ローラ１２と密着させながら、成膜源１６₁〜１６₃から導電性粒子を到達させ、基体フィルム２２上に導電性薄膜を形成する巻取式成膜装置において、導電性薄膜と接触するガイドローラ１３ｃを浮遊電位に置く。また、導電性薄膜が巻取軸１８と接触しないようにするか、巻取軸１８を絶縁性材料で形成する。導電性薄膜に電流が流れないので、ジュール熱の発生が無く、成膜フィルム２３に熱負けが発生しない。 （もっと読む）

【課題】磁気媒体の作成において、良質の磁気媒体を作製できるようにする。
【解決手段】マグネトロンスパッタリングのためのチャンバー１内に、基板８と第１及び第２ターゲット２１，２１とを、前記基板８の中心軸と前記第１及び第２ターゲット２１，２１の中心軸とが交差するように配置し、前記チャンバー１内を排気し、前記チャンバー１内にガスを導入し、前記排気及びガス導入された雰囲気下で、前記基板８を回転させながら、グネトロンスパッタリング法により前記基板８の上に磁性膜及び異種材料膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】その鋳込み成形時の鋳込み口あたりの早期凝固、及び、それによりその鋳込み成形されたビレットの鋳込み口あたりに生じる鋳込み巣をなるべく存在させないスパッタリングターゲット材の製造方法を提供することをその目的とする。
【解決手段】基材金属と添加金属とを溶融混練してから鋳込み成形をし、スパッタリング用ターゲット材を製造する方法において、前記溶融混練によりなる合金溶液を前記鋳込みをする鋳型に流し込ませる際、前記鋳型を冷却しながら前記鋳型の鋳込み口あたりを加熱し、鋳込み成形時の前記鋳込み口あたりの早期凝固及び鋳込み巣の発生を抑えることを特徴とするスパッタリング用ターゲット材の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】再現性よく安定して製造可能な吸収型多層膜ＮＤフィルターとその製造装置、製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基板15、16の少なくとも片面に酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層が交互に積層されて成る吸収型多層膜を具備し、この吸収型多層膜がグラデーション濃度分布を有している吸収型多層膜ＮＤフィルターであって、酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層はそれぞれスパッタリングにより成膜され、かつ各金属吸収膜層についてはスパッタリング成膜後に酸素を含むイオンビームが照射されて照射部位の透過率が非照射部位より高くなっていると共に、照射されたイオンビーム20の周辺部から中心部に向かって金属吸収膜層の消衰係数が連続的に減少して上記照射部位がグラデーション濃度分布を有していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】微細加工に適し、更に樹脂層と金属層との接着性が良好であり、また接着力のバラツキや低下を防止した積層体の製造方法、並びに積層体、配線板を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）


（式中、R1、R2はそれぞれ同一または異なっていてもよく２価の有機基を表し、M１〜M６はそれぞれ同一または異なっていてもよく１価の有機基を表す。ｎは0〜6の整数を示す。）で表されるジアミノシロキサン化合物を含むジアミノ化合物と酸二無水物から合成される、ガラス転移温度が８０℃以上３５０℃以下のポリイミド樹脂層に、スパッタリング法、めっき法、イオンプレーティング法、化学気相輸送法（ＣＶＤ法）から選ばれた少なくとも一つの方法によって形成された金属層を有する積層体を、該ポリイミド樹脂層のガラス転移温度より高い温度で加熱した積層体。 （もっと読む）

【課題】高温環境下においてもベースフィルムと中間層との接合強度の低下が少なく、信頼性の高いフレキシブル積層板を提供する。
【解決手段】ベースフィルムと、このベースフィルム上に積層された中間層と、この中間層上に積層された導電層と、を備えたフレキシブル積層板であって、前記ベースフィルムは、少なくとも前記中間層が積層される表面が、ポリイミド樹脂で構成されており、前記中間層は、Ｎｉを５５重量％以上、Ｃｒを４重量％以上含有するとともに、Ｃｒよりも酸化しやすい易酸化元素を含有しており、この易酸化元素の濃度は、積層方向において前記ベースフィルム側が高く設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の装置に大きな変更を加えることなく高いスループットと高い保磁力およびＳ／Ｎ比を両立させることが可能な磁気記録媒体およびその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明の代表的な構成は、基板上に配向制御層１６、非磁性の下地層１８、磁気記録層２２を備える磁気記録媒体において、配向制御層１６は、ニッケルまたはニッケルよりもイオン化傾向が小さい元素を主成分とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどのシャッター羽根または絞り羽根やプロジェクタの光量調整装置の絞り羽根などの光学機器部品として用いられ、遮光性、耐熱性、摺動性、低光沢性、導電性に優れた耐熱遮光フィルムとその製造方法、及びそれを用いた絞り又は光量調整装置を提供する。
【解決手段】 ２００°Ｃ以上の耐熱性を有する樹脂フィルム基材（Ａ）と、樹脂フィルム基材（Ａ）の片面もしくは両面にスパッタリング法で形成された５０ｎｍ以上の硬質性の金属遮光膜（Ｂ）とからなり、金属遮光膜（Ｂ）が非晶質相を実質的に含まず完全に結晶相で構成されていることを特徴とする耐熱遮光フィルムなどにより提供する。 （もっと読む）

【課題】金属箔に蒸着等の表面処理を施す場合に、通箔速度を落とさずシワの発生を容易に防止できる真空装置の冷却用ドラムを提供し、そのドラムを用いた金属箔の通箔方法を提供する。
【解決手段】表面処理で熱の発生を伴う巻取式の真空処理装置において、被表面処理材の熱膨張率との差が−１×１０^−６〜２０×１０^−６／℃である熱膨張率を有する表面材質である金属箔用冷却ドラム、該ドラムを用いた巻取式真空処理装置と表面処理方法。表面材質が、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ａｕ、Ｐｔのいずれか１種、またはそれらの元素を含んだ合金から成り、表面の算術平均粗さＲａが０．２μｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】耐熱ピール強度に優れた銅積層ポリイミドフィルムを得ることができる被銅メッキ処理材の製造方法を提供する。
【解決手段】帯状のポリイミドフィルムｗ１の少なくとも片面に、ニクロムスパッタ層と銅スパッタ層とが順に積層されてなるスパッタ膜を形成する被銅メッキ処理材の製造方法において、上記スパッタ膜を成膜するＤＣマグネトロンスパッタリング装置１内に搬送された上記ポリイミドフィルム上に、ニクロムターゲットに６Ｗ／ｃｍ²以上の高電力を印加することによって上記ニクロムスパッタ層を直接形成した後に、このニクロムスパッタ層上に、銅ターゲットに３Ｗ／ｃｍ²以上の高電力を印加することによって上記銅スパッタ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンエンジン用のタービン動翼又は静翼等の物品を修復又は再生するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】該システムは、堆積チャンバ１０２内で動作可能に位置決めされた第一の陰極１０４及び第二の陰極１０６を含む。第一の陰極１０４は、残存基板の材料と実質的に同じ組成の第一の堆積材料を含む。第二の陰極１０６は、修復／再生した部品上に環境皮膜を形成し得る第二の堆積材料を含む。第一及び第二の陰極は、堆積チャンバ内の真空条件を遮ることなく、連続的に動作させ得る。物品を修復又は再生する方法は、残存基板上に第一の堆積材料の層を堆積させるために第一の陰極１０４を利用する段階と、その後、環境皮膜を付与するために第二の陰極を利用する段階と含む。両堆積では、堆積間に真空条件を中断させることなく、共通の堆積チャンバ１０２を利用する。 （もっと読む）

【課題】
接着剤を用いないメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルムにおいて、ポリイミドフィルムと該ポリイミドフィルム上の導電性金属層との界面における密着耐久性、即ち常態密着力、耐熱密着力および高温高湿密着力に優れたメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルムとその製造方法を提供する。
【解決手段】
ポリイミドフィルムの片面または両面に、金属蒸着層を設け、その金属蒸着層上に銅からなる導電性金属層を積層し一体化したメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルムであって、その導電性金属層をエッチングにより除去した後の表面改質深さ指数が２５以下であり、そしてその表面改質強度指数が１．１以上のメッキ法２層銅ポリイミド積層フィルム。
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【課題】アンダーコート層を設けずに基材上に金属を強固に蒸着するとともに、製造工程においてチリやゴミが混入する機会を軽減する金属蒸着加工物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】透明又は半透明の基材と、前記基材の上層にアンダーコート層を形成することなく直接金属が蒸着された金属蒸着膜とで構成された金属蒸着加工物。好ましくは、金属蒸着加工物は、アクリル等の透明又は半透明のプラスチック材で構成される基材１と、この基材１上にホットスタンプ加工等で模様等を描画して形成される描画層２と、その基材１上に金属を蒸着することにより形成される金属蒸着膜３と、その金属蒸着膜３の保護のためにこの膜３上に形成される内側保護膜４と、金属蒸着加工物全体を外気や水等から保護するためにその内側保護膜４上に形成される外側保護膜５とを有して構成される。 （もっと読む）

【課題】デジタルカメラ、デジタルビデオカメラのレンズシャッターなどのシャッター羽根または絞り羽根やプロジェクターの光量調整用絞り装置の絞り羽根などの光学機器部品として用いられ、遮光性、耐熱性、摺動性、低光沢性、導電性に優れた耐熱遮光フィルムとその製造方法、及びそれを用いた絞り又は光量調整装置を提供する。
【解決手段】２００℃以上の耐熱性を有する樹脂フィルム基材（Ａ）と、樹脂フィルム基材（Ａ）の片面もしくは両面にスパッタリング法で形成された５０ｎｍ以上の膜厚を有するＮｉ系金属膜（Ｂ）と、Ｎｉ系金属膜（Ｂ）上に、スパッタリング法で形成された、低反射性のＮｉ系酸化物膜（Ｃ）からなり、かつ表面粗さが０．１〜０．７μm（算術平均高さＲａ）であることを特徴とする耐熱遮光フィルムなどにより提供する。 （もっと読む）

【課題】抵抗性メモリ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】抵抗性メモリ素子は、トランジスタのソース２０２またはドレイン２０３上の層間絶縁膜２０６を貫通して形成されたコンタクトプラグ２０７と、コンタクトプラグ２０７に接続された下部電極２１と、下部電極２１上に遷移金属固溶体で形成された固溶層２４と、固溶層２４上に形成された遷移金属酸化物による抵抗層２２と、抵抗層２２上に形成された上部電極２３と、を備える。これにより、電圧及び抵抗特性が安定化した信頼性のあるメモリ素子を具現できる。 （もっと読む）

【課題】磁気データ記録粒状層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成すること。
【解決手段】磁気記録媒体２００の基板２０２上に、ニッケル（Ｎｉ）と、面心立方ニッケル（Ｎｉ）相に対する溶解度が室温以上で５０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ³/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるシード層２０４を付着し、続いて下地層２０６、磁気データ記録粒状層２０８を順次付着する。前記合金化元素は、ホウ素（Ｂ）、炭素（Ｃ）、マンガン（Ｍｎ）、銅（Ｃｕ）、イットリウム（Ｙ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、ロジウム（Ｒｈ）、銀（Ａｇ）、カドミウム（Ｃｄ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、ハフニウム（Ｈｆ）、イリジウム（Ｉｒ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）、ビスマス（Ｂｉ）及びトリウム（Ｔｈ）から選択される。 （もっと読む）

【課題】反射率が小さく、透過率が高い優れた反射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材上における、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐摩耗性及び耐アルカリ性に優れ、生産性も良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種の無機物質と、常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層である光学部材である。 （もっと読む）

本方式は、１１より多い元素を含む非晶質金属源を提供するステップと、１１より多い元素を含む非晶質金属を表面にスプレーで塗布するステップとを含む。１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む皮膜。堆積室と、堆積スプレーを生成する堆積室の堆積源であって、１１より多い元素を含む非晶質金属製の複合材料を含む堆積源と、構造物に堆積スプレーを向ける系とを含む、構造物に耐食性非晶質金属皮膜を生成する装置。 （もっと読む）