【課題】
Ｎｉ−Ｍｏ系合金ターゲット板を用いたスパッタリングにおいて、スパッタリング時間の増加に伴うＮｉ−Ｍｏを含んだパーティクルの発生を抑制することができる技術を提供する。
【解決手段】
Ｎｉ−Ｍｏ系合金のスパッタリングターゲット板であって、前記スパッタリングターゲット板の板面の表面から厚さ方向に１０μｍの位置におけるＮｉ濃度及びＭｏ濃度をそれぞれ質量％でＮｉ（１０）及びＭｏ（１０）とし、表面から厚さ方向に１００μｍの位置におけるＮｉ濃度、Ｍｏ濃度を質量％でＮｉ（１００）及びＭｏ（１００）として、次式の関係を満たすことを特徴とするＮｉ−Ｍｏ系合金スパッタリングターゲット板。
−２．０≦ΔＮｉ≦０．２、 −０．２≦ΔＭｏ≦２．０
且つ、
−０．２≦ΔＮｉ＋ΔＭｏ≦０．２
ここで、ΔＮｉ＝Ｎｉ（１０）−Ｎｉ（１００）、ΔＭｏ＝Ｍｏ（１０）−Ｍｏ（１００）
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【課題】 スパッタリング膜のバラツキを抑制すべく、均一な組織を有するＮｉ合金ターゲット材を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ）から選ばれる１種または２種以上を１０〜３０質量％含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなるＮｉ合金ターゲット材の製造方法において、前記Ｎｉ合金を溶解鋳造したインゴットを温度８００〜１３００℃、圧下率５０％以上で塑性加工を施した後、８００〜１３００℃で０．５〜３時間の再結晶化熱処理を行うＮｉ合金ターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 グラデーション濃度分布を有する吸収型多層膜ＮＤフィルターについて、光が透過する位置により平均透過率が変化しても分光透過特性の形状変化を最小限に抑えることができる吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】 樹脂フィルム基板の少なくとも片面に酸化物誘電体膜層と金属吸収膜層が交互に積層されてなる吸収型多層膜を具備し、光軸中心から離れるにつれて透過率が徐々に低くなるグラデーション濃度分布を有しており、金属吸収膜層が膜厚分布を有すると同時に、酸化物誘電体膜層は該金属吸収膜層の膜厚分布に対し反対の膜厚分布を有している。 （もっと読む）

【課題】 工程を煩雑なものとすることなく、かつ産業廃棄物として取扱いが煩雑なものとなる酸洗用の薬液等を使用することなく、最表面に不動態被膜を有する金属基材の表面に、その不動態被膜の酸洗除去等を施さずとも、良好なはんだ濡れ性およびはんだ付けに対する接合強度を付与してなる、表面処理金属材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 この表面処理金属材は、最表層に不動態被膜を有する金属基材１の表面上に、当該金属基材１の表面側から順に、クロム（Ｃｒ）を主成分とするスパッタ膜からなり、当該膜の内部残留応力が圧縮応力または略ゼロである密着層２と、銅（Ｃｕ）、銅とニッケル（Ｃｕ−Ｎｉ）の混合状態、銅と亜鉛（Ｃｕ−Ｚｎ）の混合状態、銅とニッケルと亜鉛（Ｃｕ−Ｎｉ−Ｚｎ）の混合状態のうちの少なくともいずれか一種類を主成分とするスパッタ膜からなる接着層３とを形成してなるものである。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリング法などの真空成膜法により樹脂フィルムに金属膜を成膜する際に、樹脂フィルムのシワの発生を抑制することができ、実質的にシワのない金属積層樹脂フィルム基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】 樹脂フィルム上に真空成膜法により金属膜を形成する際に、内部に温度１２０〜３００℃の温媒を循環させたキャンロール４に樹脂フィルムＦの裏面を接触させながら、樹脂フィルムＦの表面に金属膜を成膜する。樹脂フィルムＦは１５０℃以上のガラス転移点を有するものが好ましく、特にポリイミドフィルムが好ましい。 （もっと読む）

bcc金属またはbcc金属合金からスパッターターゲットを製造する方法。当該インゴットは、電子ビーム溶解され、真空アーク再溶解される。次に、当該インゴットを三軸鍛造し、当該三軸鍛造ステップ中、当該インゴットの中心線が当該インゴットの中心に保たれる。次に、当該インゴットを真空焼鈍して、クロックローリングする。このクロックローリング中、当該インゴットの中心線は、当該インゴットの中心に保たれ、かつ当該クロックローリング時に使用される圧縮力に垂直である。次に、クロックローリングされたインゴットは、真空焼鈍され、スパッターターゲットとしての使用のためのニアネットシェイプとされる。少なくとも99.5%の純度と約25 ppmよりも小の格子間不純物(CONH)濃度とを有するタンタルターゲット材料を開示する。本発明によるタンタルターゲットは、約50〜100μmの結晶粒径と厚さの中心に向かって割合に大きな%{111}勾配を有する{100}/{111}混合集合組織とを有する。 （もっと読む）

【課題】湿式のエッチング加工が施しやすく、明るさがあり高級感のある金色色調を呈し、長期に渡って腐食が発生せず（耐蝕性に優れ）、かつ、高硬度および高耐傷性を有する装飾品を得ることを目的としている。
【解決手段】本発明の装飾品は、装飾品用基材と、この装飾品用基材に被覆された、チタン（Ｔｉ）、ハフニウム（Ｈｆ）またはジルコニウム（Ｚｒ）からなる密着層と、この密着層に被覆された積層被膜と、この積層被膜に被覆された、０.１〜０.３μｍの厚みを有する窒化ハフニウム（ＨｆＮ）からなる金色硬質被膜と、この金色硬質被膜に被覆された、０.０２〜０.０４μｍの厚みを有し、かつ、金（Ａｕ）または金合金から成る、金色色調を呈する金色最外被膜とから構成され、該積層被膜は、０.０１〜０.０２μｍの厚みを有する第１の窒化物層と、この第１の窒化物層上に被覆された、０.０１〜０.０２μｍの厚みを有する第２の窒化物層とが、これらの層を１組として、１０〜２０組積層されており、かつ、該第１の窒化物層と、該第２の窒化物層とが、それぞれ（１）窒化ハフニウム（ＨｆＮ）と窒化チタン（ＴｉＮ）、（２）窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）と窒化チタン（ＴｉＮ）、または（３）窒化ハフニウム（ＨｆＮ）と窒化ジルコニウム（ＺｒＮ）であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 樹脂フィルム基板上に、物理気相成長法により酸化物誘電体膜層と吸収膜層を交互に積層してなり、可視波長域における各波長の透過率の均一性に優れた吸収型多層膜ＮＤフィルターを提供する。
【解決手段】 酸化物誘電体膜層がＳｉＣ及びＳｉを主成分とする成膜材料を原料として成膜されたＳｉＣｙＯｘ（ただし、０＜ｙ≦０.１、１.５＜ｘ＜２）膜であり、吸収膜層がＮｉ−１８〜３２重量％Ｗ合金の成膜材料を原料として成膜された金属膜でであって、吸収型多層膜の最外層及び最内層が酸化物誘電体膜層で構成されている。この吸収型多層膜ＮＤフィルターの可視波長域（４００〜７００ｎｍ）における透過率均一性は１０％以下である。 （もっと読む）

【課題】 両面積層基板の生産効率を低下させることなく、第１の金属膜の表面と第２の金属膜の表面とがくっつく不具合や、しわが生じる不具合等を防ぐことができる成膜方法を提案する。
【解決手段】 減圧雰囲気下においてロール・ツー・ロールで搬送される有機樹脂フィルムＦの両面に金属膜を成膜する両面積層基板の成膜方法であって、有機樹脂フィルムＦの一方の面に乾式めっき法である成膜手段１３ａ、１３ｂにより第１の金属膜を成膜し、この第１の金属膜の表面に乾式表面処理手段１１により酸化膜を形成した後、有機樹脂フィルムＦの他方の面に乾式めっき法である成膜手段１３ａ、１３ｂにより第２の金属膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】Ｎｉ−Ｐｔ合金インゴットの硬度を低下させて圧延を可能とし、圧延ターゲットを安定して効率良く製造する技術を提供する。
【解決手段】３Ｎレベルの原料Ｎｉを電気化学的に溶解する工程、電解浸出した溶液をアンモニアで中和する工程、活性炭を用いてろ過し不純物を除去する工程、炭酸ガスを吹き込んで炭酸ニッケルとし、還元性雰囲気で高純度Ｎｉ粉を製造する工程、３Ｎレベルの原料Ｐｔを酸で浸出する工程、浸出した溶液を電解により高純度電析Ｐｔを製造する工程からなり、これらの製造された高純度Ｎｉ粉と高純度電析Ｐｔを溶解する工程からなる。 （もっと読む）

【課題】インゴット間若しくはターゲット間又は薄膜間のバラツキが少なく、エッチング性を向上させ、かつアルファ粒子を放射するＵ、Ｔｈ等の同位体元素を厳格に低減させた９９．９ｗｔ％以上の純度を持つ高純度Ｎｉ−Ｖ合金、同Ｎｉ−Ｖ合金からなるターゲット及び同Ｎｉ−Ｖ合金薄膜並びにこれらの不純物を効果的に低減できる高純度Ｎｉ−Ｖ合金の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性体となる組成のＮｉ−Ｖ合金であって、ガス成分を除いたＮｉ−Ｖ合金の純度が９９．９ｗｔ％以上であり、金属間化合物であるＮｉ８Ｖの析出がなく、Ｃｒ、Ａｌ、Ｍｇの不純物含有量がそれぞれ１０ｐｐｍ以下、Ｕ、Ｔｈの不純物含有量がそれぞれ１ｐｐｂ未満、Ｐｂ、Ｂｉの不純物含有量がそれぞれ０．１ｐｐｍ未満、不純物であるＮ含有量が１〜１００ｗｔｐｐｍ、さらに合金インゴットのＶ含有量のバラツキが０．４％以内であることを特徴とする高純度Ｎｉ−Ｖ合金。 （もっと読む）

【課題】 電子部品となるような短冊状基板の両面に同時に成膜する方法であって、均一に成膜された短冊状基板の成膜方法の提供を目的とする。
【解決手段】 マグネトロン方式スパッタリング装置を使用し、短冊状基板を取り付けた基板固定冶具を基板ホルダーに設置し、同時に短冊状基板の両面に成膜する方法であって、短冊状基板をスパッタ源の法線方向に対して0度±10度の範囲となるように設置し、基板ホルダーを回転させ、基板に負のパルスバイアス電圧を印加し、負のパルスバイアス電圧を100V以上1000V以下の範囲とし、かつ電源offの継続時間t-offと電源onの継続時間t-onの比であるt-off/t-onを0.1≦ t-off/t-on ≦ 1の範囲として、短冊状基板の両面へ同時に成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ほぼ無限に存在する架線等の淡水と、海等の塩水との塩分濃度差を利用した発電システムにおいて、コンパクトなシステムで、大容量の電気エネルギーを取り出したり、任意の高電圧を容易に得られるようにする。
【解決手段】
淡水と塩水をそれぞれ水滴として落下させて空気の絶縁性を利用したり、絶縁体製弁体、弁座、弁箱を用いた弁を会在させたりして、給水路や排水路を介しての電気的短絡を防止し、単位起電力を発生する多数のセル間の電気的短絡を防止する構成を用いる等で解決する。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、ＳｉおよびＢを総量として０．１〜１０％含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−（Ｓｉ，Ｂ）系中間層膜を製造するスパッタリングターゲット材。また、上記ＳｉおよびＢの組成比が２：８〜６：４である、スパッタリングターゲット材、および薄膜製造用スパッタリングターゲット材を用いて製造した薄膜にある。 （もっと読む）

【課題】反応性ガスによって金属ターゲット表面に急激な酸化物層が形成されることを抑え、反応性スパッタリングで金属酸化物組成の金属酸化物膜を再現性よく形成し、３８０〜７８０ｎｍの可視光域において高遮光性、低反射率化、低光沢化が達成された耐熱遮光フィルムを提供すること。
【解決手段】耐熱性の樹脂フィルム上に金属膜を形成し、さらに金属膜上に金属酸化物膜を順次形成する耐熱遮光フィルムの製造方法において、金属膜を形成した後、金属膜の成膜に用いた金属ターゲットのスパッタリングを停止することなく、連続的に金属酸化物膜形成のために所定の反応性ガス流量／スパッタリングガス流量比により所定時間、初段プレスパッタリング、中段プレスパッタリング及び後段プレスパッタリングを順次行い、後段プレスパッタリング終了時のガス流量比で本スパッタリングを行うようにした。 （もっと読む）

【課題】ＣＦＯ等のファインピッチ化に好適なエッチング性に優れ、特にエッチング残渣が残らない金属被覆ポリイミドフィルム基板を提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルムの表面に、スパッタリング法又は蒸着法により形成したＮｉ−Ｃｒ合金からなる第１金属層と、スパッタリング法又は蒸着法により形成した銅からなる第２金属層と、電気めっき法及び／又は無電解めっき法により形成した銅めっき被膜とを、この順に積層した構造を有する金属被覆ポリイミドフィルム基板であって、銅からなる第２金属層の結晶子径が４２０〜５５０Åに制御してある。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜用合金および薄膜製造用スパッタリングターゲット材、およびこれを用いて製造した薄膜を提供する。
【解決手段】 ａｔ％で、Ｗを１〜２０％、Ｐおよび／またはＺｒを合計０．１〜１０％を含み、残部Ｎｉからなる垂直磁気記録媒体におけるＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系中間層膜製造用スパッタリングターゲット材。また、上記スパッタリングターゲット材はガスアトマイズ法により作製した原料粉末を固化成形したもの、およびそれら上記スパッタリングターゲット材を用いて製造したＮｉ−Ｗ−Ｐ，Ｚｒ系薄膜。 （もっと読む）

【課題】配線パターンの更なる精細化に寄与できる積層基板の製造方法を提供する。
【解決手段】樹脂フィルムＦに薄膜を成膜して積層基板を製造する際は、樹脂フィルムＦのうち、巻出ロール１４からニップロール３１までの間の部分に２５Ｎ以上８０Ｎ以下の範囲内の張力を作用させると共に、ニップロール３１から巻取ロール１６までの間の部分に１０Ｎ以上２５Ｎ以下の範囲内の張力を作用させながら、スパッタリングカソード４１，４２を非稼動状態にしておき、スパッタリングカソード４３，４４，４５を稼動させる。スパッタリングカソード４３を稼動させることにより、樹脂フィルムＦの接触部分の表面にはニッケル薄膜が成膜される。この薄膜は下地層となるものであり、この下地層の上に重ねて銅薄膜をスパッタリングカソード４４で成膜し、続いて、この銅薄膜の上に重ねて銅薄膜をスパッタリングカソード４５で成膜する。 （もっと読む）

【課題】層間接着性に優れるとともに、燃料や冷媒等に対する低透過性にも優れた燃料・冷媒用低透過部材およびその製法を提供する。
【解決手段】ポリフェニレンサルファイドおよびフッ素系樹脂の少なくとも一方からなる内層１の外側面に、無機系酸化膜を備えた中間層２が形成され、その外側に、高アミノ価のポリアミド系樹脂または下記の（Ａ）〜（Ｄ）を必須成分とするゴム組成物からなる外層３が形成されてなる燃料・冷媒用低透過部材であって、上記内層１の外側面がプラズマ処理により改質され、その改質面上に、化学的蒸着法（ＣＶＤ）または物理的蒸着法（ＰＶＤ）により、上記無機系酸化膜が成膜されている。
（Ａ）エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体およびエチレン−プロピレン共重合体の少なくとも一方。
（Ｂ）過酸化物加硫剤。
（Ｃ）レゾルシノール系化合物。
（Ｄ）メラミン樹脂。 （もっと読む）

【課題】よりバリア性の高いバリア性フィルム基板を提供する。
【解決手段】支持体上に有機領域と無機領域とを有するバリア性フィルム基板を、支持体を搬送しながら製造する方法であって、有機領域を設ける工程と、無機領域を設ける工程と、支持体上の一部または全部に磁性層を設ける工程とを含み、かつ、支持体を搬送する工程の全部または一部を、前記磁性層と反対の磁極を示す磁性部分３１を有する搬送体を用いて、磁性層の磁力と磁性部分の磁力とが引き合うようにしながら行うことを特徴とする、製造方法。 （もっと読む）