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Fターム[4K029BA62]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 有機質材 (1,119)

Fターム[4K029BA62]に分類される特許

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【課題】バイオスクリーニングにおいて標的物質を回収するために用いる構造体であって、加工性が高くまたは融点が低くかつ密度が小さなシリコンを用いて、表面積が大きくかつ磁気特性を帯びたシリコン構造体を提供する。
【解決手段】基材11と、基材11のシリコンを主成分とする表面に直接接合された二酸化珪素を主成分とする複数の繊維状突起物12とを備えたシリコン構造体10であり、繊維状突起物12に磁性体を担持させた。二酸化珪素からなる複数の繊維状突起物12を互いに絡み合うように密集して形成させることにより、表面積を増大しかつ、繊維状突起物12に磁性体13を担持させることにより磁気分離が可能で高効率な回収を可能とする。 (もっと読む)


【課題】水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムからなり、表面の算術平均粗さ(Ra)が10nm以上となる基材層1の上に、重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を含むアンカー層2と、SiOxCy(xは1.5以上2.0以下、yは0以上0.5以下)で表される酸化珪素からなり、厚さが10nm以上1000nm以下のガスバリア層3とを順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカー層2の厚みが0.1μm以上10μm以下、かつ、前記アンカー層2の表面の算術平均粗さ(Ra)が5nm以下であることを特徴とするガスバリア性積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】蒸着材料を通過させるための通過孔を精度良く形成することが可能な蒸着用マスクおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】蒸着用マスク1の製造方法では、金属薄膜10の両面に、反射防止膜30A,30Bを介してフォトレジスト膜12a,12bを形成したのち露光することにより、フォトレジスト膜12a,12bに通過孔10A−1のパターンを形成する。露光時に、フォトレジスト膜12a,12bを透過した照射光が金属薄膜10の表面もしくは裏面に到達する前に、反射防止膜30A,30Bにおいて吸収され、ハレーションの発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】シャドーマスクとガラス基板を重ね合わせて位置合わせを行ったのち、搬送機構による搬送中の衝撃等により発生する位置ズレを防止することのできる真空蒸着装置の重石板および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】マスク保持部材101に固定されたシャドーマスクとしてのテンションマスク520の上面にガラス基板104を重ね合わせて位置合わせする。そして、ガラス基板104に重石板109を載荷し、その重力により、押圧して一体化した合体搬送体500を形成する。重石板109の中空部には、合体搬送体500にかかる衝撃を緩衝するための液体金属が充填率25%以上85%未満で充填されるか、その他の緩衝機構が配置されている。 (もっと読む)


【課題】制御用膜厚センサーによる計測データを補正し、高精度な膜厚制御を行う。
【解決手段】基板31に蒸着させる蒸着材料の蒸気を発生させる蒸着源10と、蒸着材料の蒸気をモニターして蒸着源10を温度制御するための、水晶振動子を用いた制御用膜厚センサー20と、水晶振動子を用いた補正用膜厚センサー40と、を設ける。不連続的に蒸着レートを計測する補正用膜厚センサー40による補正値に基づいて、制御用膜厚センサー20の計測データを補正することで、膜厚制御の精度を向上させる。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、欠陥のない有機分子膜被覆ナノ結晶粒子を提供するのみならず、これを含む有機分子膜被覆ナノ粒子の製造工程を極めて簡便にすることができた製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、ナノ結晶粒子の表面が有機分子膜にて被覆されてなる有機分子膜被覆ナノ結晶粒子であって、前記ナノ結晶粒子の表面全体が有機分子膜にて被覆されていることを特徴とし、有機分子膜被覆ナノ粒子の製造方法であって、ナノ粒子の母材となるターゲット材料を表面修飾用の有機分子液中に浸漬した状態でレーザー照射し、前記ターゲット材料から前記有機分子液中にナノ粒子を放散させ、その表面に前記有機分子を結合させることを特徴とする。
本発明は、上記の製造方法において、前記ターゲット材料が、前記レーザー照射によって放散されたナノ粒子の表面に酸化膜が生じない性質を有することを特徴とし、前記ターゲット材料が、予め表面を水素終端化されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】保守管理を容易に行うことができる蒸発装置を提供する。
【解決手段】蒸発材料1を貯蔵するホッパ114と、内径を上方側ほど拡げるように円錐状に開口させた接続口部112aを上端側に有する第一の接続管112と、第一の接続管112の下方側とホッパ114とを接続する連絡管113と、外径を下方側ほど狭めるように円錐状に形成されて第一の接続管112の接続口部112aに着脱可能に嵌合する接続口部115aを下端側に有する第二の接続管115と、第二の接続管115の上端側に接続された坩堝116と、坩堝116を加熱する電熱ヒータ118と、坩堝116と共に電熱ヒータ118を包囲する冷却ジャケット120と、第一の接続管112の接続口部112aを冷却する冷却コイル121と、前記接続管112,115内に回転可能に配設されたスクリュシャフト122とを備えて蒸発装置100を構成した。 (もっと読む)


【課題】搬送チャンバを小型化できる、生産性の高い、あるいは、稼働率の高い有機ELデバイス製造装置または成膜装置あるいはシャドウマスク交換装置または同交換方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバであって、基板とシャドウマスクとのアライメントを行い、真空チャンバ内で蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する真空蒸着チャンバと大気雰囲気部とに隣接し、前記2つの隣接部を介して前記真空蒸着チャンバに前記シャドウマスクを搬入出する手段を有するシャドウマスク交換室を設けたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は基材の両面に加工を行う場合に、電子ペーパーや有機ELなどのFPD向けとして好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層1−1の両面上に、一方の面上にアンカーコート層2−1とガスバリア層3−1を順次積層し、もう一方の面上にアンカーコート層2−2とガスバリア層3−2を順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカーコート層を、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を前記基材層上に成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させて形成することを特徴とするガスバリア性積層フィルムの製造方法とする。 (もっと読む)


微粒子材料を気化するための装置100であって、計量装置であって、微粒子材料を受け取るための貯留室130と、なお、該貯留室は該微粒子材料を気化チャンバ210内に吐出するための開口部160を有し、貯留室内に配置される回転可能なワイヤホイールブラシ170とを備え、該貯留室及び該ワイヤホイールブラシの寸法は、該ワイヤホイールブラシが該貯留室の内壁と協動して微粒子材料を流動化するように選択され、微粒子材料の計量された部分がワイヤホイールブラシの先端に同伴され、その後、貯留室開口部内に強制的に放出される、計量装置と、計量された材料を受け取り、気化するフラッシュ蒸発器120とを備える、微粒子材料を気化するための装置。
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【課題】回転成膜が可能で膜厚分布の向上が可能で、マスク本体の複数の開口部を任意の順序で開口させて種々の条件の蒸着が可能な技術を提供する。
【解決手段】本発明の真空処理装置1は、真空槽2内において複数の開口部8を有するマスク7を介して基板50上に蒸着を行う。マスク7には、所定の基準配列方向に沿って複数の開口部8の列が設けられたマスク本体9を有し、マスク本体9には、複数の開口部8の列と対応し基準配列方向に延びる複数のマスクシャッター10A〜10Dが一体的に設けられている。真空槽2内に把持部25、26を挿入してマスク7の所定のマスクシャッター10を保持して基準配列方向に移動させ所定の開口部8を開口させる。蒸着時には把持部25、26を真空槽2外に取り出して基板50をマスク7と共に一体的に回転させる。 (もっと読む)


【課題】真空蒸着法が可能な有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイスの提供。
【解決手段】下記一般式(1)


(式中、Ar〜Arは芳香族基、縮合多環芳香族基よりなる群からそれぞれ独立して選ばれた基である。)で示されることを特徴とする有機ラジカル化合物、それを用いた有機デバイス。 (もっと読む)


【課題】蒸着工程時基板の重量によりマスク組立体のパターンが変形されることを防止して、蒸着精密度を向上させることができるマスク組立体及びこれを利用した平板表示装置用蒸着装置を提供する。
【解決手段】開口部120及び開口部を囲んだフレーム110を含むフレームマスク100と;一つまたは複数のパターンが形成されるパターン部及び引張されてフレームと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される接合部を含むパターンマスク200;及び開口部を横切って、パターンマスクと接合(溶接、半田付け、ロウ付け等)される支持台300を含むマスク組立体に関する。チャンバーと;チャンバーの下側に位置する蒸着源;及び蒸着源上に位置し、基板を支持するためのマスク組立体を含むことを特徴とする平板表示装置用蒸着装置に関する。 (もっと読む)


【課題】成膜不良を抑制する成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理基板Wを収納する真空容器2と、真空容器2内において被処理基板Wを戴置すると共に、所定の搬送方向に搬送するホルダー3と、搬送される被処理基板Wに対向して真空容器2内に設けられるハース4A,4Bと、ハースにプラズマビームを照射するプラズマガン6,7と、ハースに対向するとともに、被処理基板Wを挟んでハースと反対側に設けられる歪曲手段15Aと、を備え、歪曲手段15Aは、電極と、該電極に接続され電圧を印加する電源装置と、を有し、電極には、ハースから飛来する膜材料が有する電荷と逆の電荷を生じる電位が印加される。 (もっと読む)


【課題】特に耐筆記性などの耐久性を向上させた透明導電性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 透明なプラスチックフィルムからなる基材層(A)上の一方の面に0.2μm以上20μm以下のハードコート層(H)、反対の面に重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物(b)を硬化してなる厚さ0.1μm以上20μm以下の被膜層(B)、前記被膜層(B)上に透明導電膜層(C)が積層されてなり、前記被膜層(B)を形成する前記重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物(b)の硬化収縮率が0.2%以上10%以下であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。 (もっと読む)


【課題】シャドー現象を抑制して有機EL表示装置の画素領域を高精細に形成することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着用の有機物を飛出する蒸着源と、被蒸着基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板を覆うと共にその被蒸着基板と共に搬送されるように設けられ且つ蒸着用の開口部が形成された蒸着マスクと、を備え、該蒸着源からの有機物を、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板に、該蒸着マスクの開口部を介して蒸着させるように構成されている。上記蒸着マスクは、開口部における上記搬送手段による搬送方向に直交する方向の蒸着源位置に対する内側内壁が、蒸着源側から被蒸着基板側に向かうマスク厚さ方向において、内側から外側に向かう方向に傾斜した傾斜面に形成されている。 (もっと読む)


【課題】平坦でないワーク被成膜面であっても膜厚分布のばらつきを抑えることができるプラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法を提供する。
【解決手段】処理室10内に生起されたプラズマ中で、凹凸を有するワーク30に成膜を行うプラズマ成膜装置であって、処理室10内に設けられ、ワーク30を保持可能なワーク保持部12と、処理室10内でワーク保持部12に対向して設けられ、ワーク30の凹部32の内側に位置させることが可能な凸部23を有する電極21と、を備える。 (もっと読む)


【課題】真空チャンバーを大気開放することなく、膜厚センサーの振動子を繰り返し再生して使用することを可能にする。
【解決手段】複数の振動子5を振動子ホルダー6上に設置し、検知部3に位置する振動子5の表面にある程度の膜厚の蒸着膜が堆積したら、振動子ホルダー6を回転させ、誘導電極9を有する再生部8に移動させる。誘導加熱によって振動子5の表面の蒸着膜を再蒸発させて再生する間、検知部3に位置する振動子5を測定に使用する。この工程を繰り返すことで、真空チャンバーを大気開放せずに膜厚センサーを再使用して蒸着を続けることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】シャドウマスクの反りの影響を低減し、高精度に蒸着できる有機ELデバイス製造装置及び成膜装置並びにそれらの製造方法及び成膜方法を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置あるいは配線を敷設することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し、生産性の高い有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、真空チャンバ内で基板とシャドウマスクとのアライメントを行ない、蒸発源内の蒸着材料を基板に蒸着する際に、前記基板を保持し、立てた姿勢に保持する基板ホルダーと、前記シャドウマスクを前記立てた姿勢の前記基板に対面するように保持するシャドウマスク保持手段とを有し、シャドウマスクの反りによる蒸着時の影響を低減することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】被処理体の成膜材料を吹き出す蒸着ヘッドを成膜位置と収納位置との間にて移動させることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】6層連続成膜装置10は、成膜材料が収納された複数の蒸着源155と、複数の蒸着源155に連結され、蒸着源155にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管150と、複数の連結管150にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッド125と、複数の蒸着ヘッド125から吹き出された成膜材料により、内部にて被処理体を連続成膜する処理室100と、を備える。複数の蒸着ヘッド125は、複数の連結管150を搬送した成膜材料を基板Gに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 (もっと読む)


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