【課題】チューブ全体を均一に加熱することができ、チューブの内周面に付着した材料を効率よく再蒸発させることができる蒸気案内管を提供する。
【解決手段】蒸気案内管１０は、蒸着材料を収容し、その材料を加熱して材料の蒸気を発生させる坩堝１２と、坩堝１２をその内部に設置し、坩堝１２から発生した蒸気を長手方向前方へ流動させるガラス管１１と、ガラス管１１の外周面を包被する金属管１３とを有する。この蒸気案内管１０では、所定の電気抵抗を有する透明導電性酸化スズ膜がガラス管１１の外周面に成膜され、ガラス管１１の外周面に所定の厚み寸法を有する電気抵抗薄膜を形成し、電気抵抗薄膜がその抵抗加熱によって発熱し、ガラス管１１を所定温度に加熱する。 （もっと読む）

【課題】酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れた、透明なガスバリア性積層フィルムを提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の少なくとも一方の面上に、ガスバリア層２と被膜層３を順次積層してなり、ガスバリア層２は酸化アルミニウムからなり、かつ、膜厚（厚さＸ）が０．００５μｍ以上０．１５μｍ以下であり、被膜層３は、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させてなり、かつ、膜厚（厚さＹ）が０．１μｍ以上２０μｍ以下であり、ガスバリア層２の厚さＸと被膜層３の厚さＹとの関係が、下記式を満たすガスバリア性積層フィルム。０．００２≦ＸＹ≦０．５ （もっと読む）

【課題】ビニリデンフルオライド系オリゴマー材料を用いた積層体の製造方法、その積層体、およびビニリデンフルオライド系オリゴマー膜を提供することを目的とする。
【解決手段】基板表面にビニリデンフルオライド系ポリマーを摩擦転写し、該ビニリデンフルオライド系ポリマー表面にビニリデンフルオライド系オリゴマーを蒸着することによって、ビニリデンフルオライド系オリゴマー膜を前記基板上に積層させる。ビニリデンフルオライド系ポリマーは、ビニリデンフルオライドとトリフルオロエチレンの共重合体（Ｐ（ＶｄＦ／ＴｒＦＥ）共重合体）を用いる。 （もっと読む）

本発明による蒸着装置は反応空間を形成する工程チャンバと、工程チャンバに連結された移送チャンバと、工程チャンバ内に位置して基板を安置する基板安置手段と、基板安置手段と対向配置されて原料物質を保存する蒸着源と、移送チャンバに設置されて基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さを直接測定する厚さ測定手段を含む。
本発明は厚さ測定手段を備える蒸着装置を利用して薄膜が蒸着される基板に形成された蒸着膜の実際の厚さを直接測定してモニタリングできる。これに、基板に蒸着された蒸着膜の実際の厚さをリアルタイムにモニタリングして、前記蒸着膜の実際の厚さを制御する蒸着制御の厚さをリアルタイムに補正することで、蒸着膜の厚さを正確に制御することができる。これにより、基板に形成される素子の信頼性及び生産収率を進めることができる。
（もっと読む）

【課題】
本発明は、低コストで高度なガスバリア性を有するガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
本発明のガスバリア性フィルムの製造方法は、 高分子フィルムの少なくとも一方の表面に１層以上の無機物からなる蒸着薄膜層を形成する工程と、
次いで、該無機物からなる蒸着薄膜層の上に、ジメチルポリシロキサンを含むポリマーを加熱気化させてなる未硬化のポリマー薄膜層を形成する工程と、
次いで、該ポリマー薄膜層にプラズマを照射してポリマーを硬化させる工程と、を同一真空容器内で行うものである。 （もっと読む）

【課題】優れたエッチング選択性及び微細加工性を示し、高密度プラズマ下においてもエッチング速度とエッチング選択性のバランスに優れたドライエッチングが可能であり、また、加熱処理を施しても応力緩和の小さいフルオロカーボン膜を成膜可能なプラズマ反応用ガスを提供すること。
【解決手段】パーフルオロ−(３−メチレンシクロペンテン)を含有してなるプラズマ反応用ガス。 （もっと読む）

【課題】基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法を提供する。
【解決手段】ポリマー層により表面をコーティングする方法であって、該方法はモノマー飽和有機化合物を含むパルスされたプラズマに前記表面を曝露することを含んでなり、前記化合物がハロ置換アルカン等の任意にヘテロ原子により介在された少なくとも５個の炭素原子の任意に置換されたアルキル鎖を含んでなり、前記基材上に撥水又は撥油性コーティングを形成する方法。この方法により得られる布等の基材。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ素子の発光層を蒸着する方法を提供する。
【解決手段】複数の相異なるカラーを備えたサブピクセルの組み合わせを単位ピクセルとし、行方向に複数のサブピクセルが順に交互に配置され、列方向に同一カラーのサブピクセルが配された有機ＥＬ素子の発光層を蒸着する方法であって、サブピクセルのうち、奇数行（または偶数行）に配された同一カラーのサブピクセルの位置に対応する開口部を備えたマスクを利用して発光層を１次蒸着するステップと、マスクを移動させて、１次蒸着ステップで発光層が蒸着されたサブピクセルに直接隣接するサブピクセルには、１次蒸着ステップで蒸着された発光層を蒸着するのに使われたマスクの同一開口部により蒸着されないように発光層を２次蒸着するステップと、を含む有機ＥＬ素子の発光層蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】蒸着源がレールに沿って移動するスライディング走行方式の有機物蒸着装置を提供する。
【解決手段】チャンバ内の一側に配置され、基板を保持する基板保持部と、チャンバ内の他側に配置されたレールと、レールに沿って移動し、レールと交差する方向に移動する第１プレートおよび第２プレートを備える移送部と、第１プレート上に配置され、基板に蒸着させる有機物を収容するとともに蒸発させる第１蒸着源および第１補助蒸着源と、第２プレート上に配置され、基板に蒸着させる有機物を収容するとともに蒸発させる第２蒸着源および第２補助蒸着源と、を備える。第１蒸着源および第２蒸着源にそれぞれ収容した有機物がなくなると、第１蒸着源および第１補助蒸着源の位置と、第２蒸着源および第２補助蒸着源の位置とがそれぞれ変更され、第１補助蒸着源および第２補助蒸着源にそれぞれ収容した有機物を蒸発させて基板に蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】基板をマスクに押圧する際、基板とマスクの面方向の位置ずれが少なく、寸法精度の良好な画像パターンを形成することのできる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜装置は、真空チャンバー５内に配備された、基板１とマスク２との位置合わせを行う位置合わせ機構（不図示）と、押圧体３の一端に配備された低摩擦部材３ｂによって基板１をマスク２に押圧する押圧機構を備えている。位置合わせ機構によりとマスク２の位置合わせを行った後に、押圧機構によりマスク２の反対側から基板１に押圧体３の低摩擦部材３ｂを接触させて押圧する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法により防湿膜を蒸着する際、蛍光体層13に塵埃等が付着しにくいシンチレータパネル11の製造方法を提供する。
【解決手段】シンチレータパネル11の蛍光体層13を下向きとして、基板12の周辺部を支持台21の複数の支持針24により支持する。この支持状態で、ＣＶＤ法により基板12および蛍光体層13の表面全体を覆う防湿膜を蒸着する。防湿膜の蒸着後に、支持台21の支持針24上からシンチレータパネル11を外す。 （もっと読む）

【課題】加圧エアーにより弁体を開閉するエアー駆動装置に加圧エアー及び電気を供給する小型化された連結部品を提供する。
【解決手段】エアー駆動装置３００に使用する連結部品６００は、内部で分岐することにより一の入口に対して複数の出口を持つ空間が形成された中間継手６０５と、中間継手６０５の入口ｉｎに取り付けられ、エアー駆動装置３００と連通する第１の継手６１０と、中間継手６０５の複数の出口ｏｕｔのうち、第１の出口ｏｕｔ１に取り付けられ、中間継手６０５及び第１の継手６１０を経由して加圧エアーをエアー駆動装置３００に供給するエアー供給経路Ｐａを形成する第２の継手６１５と、中間継手６０５の第２の出口ｏｕｔ２に取り付けられ、エアー供給経路Ｐａの少なくとも一部を利用して配線されたヒーター線Ｌをエアー供給経路Ｐａの気密を保ちながら貫通させる第３の継手６２０と、を有する。 （もっと読む）

【課題】例えば銅などの高融点材料を含む原料粉体を加熱して得られる気体を用いてウェハにこの銅膜を成膜するにあたって、原料粉体中の化合物中に含まれる有機物などの不純物が銅膜に取り込まれることを抑えると共に、簡便に固体状の原料粉体から気体が得られるようにして原料粉体のコストを抑えること。
【解決手段】固体状の原料粉体を貯留する原料貯留部から粉体導入路を介してキャリアガスと共にこの原料粉体を処理容器へと供給し、この粉体導入路に介設された粉体気化部において原料粉体をプラズマ化して気体状の原料を得る。 （もっと読む）

薄膜電気デバイスを基板上に製造するシステムを使用する方法が一実施例により与えられる。本システムはチャンバ及び気体ゲートを含む。チャンバはその中に集積装置を含む。集積装置はチャンバ内にて基板の一部分を集めるべく構成される。気体ゲートは、チャンバの圧力領域と第２圧力領域との流体連通を与える。
（もっと読む）

【課題】成膜レートを安定に維持することができるプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の一形態に係るプラズマ処理方法は、エッチング工程と保護膜形成工程とを交互に繰り返し実施することでシリコン基板に高アスペクト比のビアを形成する。そして、保護膜の形成工程にはスパッタ法が適用される。スパッタ工程では、アンテナコイル２３に高周波電力（ＲＦ１）を供給して、真空槽２１内にスパッタ用ガスのプラズマを形成する。このとき、アンテナコイル２３に供給する高周波電力を２ｋＷ以上とする。アンテナコイル２３に供給する高周波電力が２ｋＷ以上の場合、当該高周波電力が２ｋＷ未満である場合と比較して、ターゲット３０の使用時間に依存しない安定した成膜レートを得ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めるとともに、蒸着材料の加熱の均一性を向上させて蒸着レートを安定して制御できるようにする。
【解決手段】真空チャンバ２内で、蒸着材料を加熱して昇華または蒸発させて基板９上に蒸着する真空蒸着装置１において、蒸着材料である有機材料を、有機材料よりも融点が高く、かつ、有機材料よりも熱伝導性がよい多孔質体に担持して蒸着源３としている。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第１の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第１の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】被蒸着材の広い被蒸着面に、より均一に蒸着可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸発された蒸発材料をガラス基板Ｗに付着させる蒸着装置において、ガラス基板Ｗに対向して配置される蒸発材料通路１３の出口１３ａに連通して、内部に拡散空間１６を有する放出用容器１５を設け、放出用容器１５のガラス基板Ｗ側で、蒸発材料通路１３の出口１３ａの対向部位を除く所定位置に複数の放出孔１７を穿設し、拡散空間１６に、蒸発材料通路１３の出口１３ａに対向して蒸発材料粒子を反射する反射面板６１Ａを設ける。 （もっと読む）

【課題】被処理体に蒸着する成膜材料の蒸気を均熱化することができる有機ＥＬ成膜装置を提供する。
【解決手段】減圧された処理室３０内において、被処理体に成膜材料を蒸着して成膜処理する成膜装置であって、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口８０が処理室３０に配置された蒸着ヘッド６５を備える。蒸着ヘッド６５の内部には、処理室３０内に対して封止されたヒータ収納部１０２が形成されるとともに、ヒータ収納部１０２と処理室３０の外部とを連通させる連通路１０１が設けられる。ヒータ収納部１０２に収納されるヒータ１００の電力供給線１０４が、連通路１０１内に配置されて処理室３０の外側へ延びている。 （もっと読む）

【課題】材料容器内の材料の充填密度を高める。
【解決手段】蒸着源１００は、有機材料ｍａを収納する材料容器１１０と、材料容器１１０に収納された有機材料ｍａを加熱するヒータ１０５と、複数の貫通孔が形成された平板１１５ａを有し、平板１１５ａの押圧面１１５ａ１により材料容器１１０に収納された有機材料ｍａを押圧しながら、ヒータ１０５の加熱により気化した有機分子を複数の貫通孔に通す押圧部材１１５と、弾性力を用いて押圧部材１１５による有機材料ｍａへの押力を緩和するベローズ１２０とを備える。 （もっと読む）