【課題】材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。
【解決手段】材料容器１０において気化した成膜材料を放出口２０へ輸送するための輸送管１４と材料容器１０の間は、材料容器１０を輸送管１４から取り外し交換可能とする連結部１３によって接続されている。輸送管１４を加熱する加熱手段を複数に分割し、連結部１３の近傍の輸送管１４の温度を残りの部位から独立して制御するための連結部加熱手段１６を設ける。材料容器交換等のために成膜を停止するときは、材料容器加熱手段１１及び連結部加熱手段１６を輸送管加熱手段１５より先に停止する。 （もっと読む）

【課題】基体５８上に有機薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を大気圧未満で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】高密度な有機薄膜をマスク成膜で成膜する
【解決手段】本発明に用いるマスク７０は、貫通孔７２の内壁面が傾斜し、貫通孔７２は基板７側程狭く、放出装置５０側程広くなっている。従って、マスク本体７１の厚さが５０μｍ以上２００μｍ以下と厚い場合であっても、貫通孔７２の底面７４縁部分に斜めに入射する蒸気も基板７に到達可能であり、膜厚均一な有機薄膜８が形成される。マスク本体７１が厚いため、マスク７０は変形し難く、洗浄等によって再利用が可能であり、成膜精度も落ちない。 （もっと読む）

【課題】基板上に有機発光層等の薄膜を成膜する際に、この基板上の異物に対する薄膜の回り込みを改善することにより、電極間のリーク等の異物に起因する不具合を防止することができ、異物に起因する暗点欠陥等の欠陥が生じる虞の無い薄膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は、基板Ｗを水平に保持した状態で搬送し収納する真空容器２と、この真空容器２内に基板Ｗの成膜領域Ｗ１の下方かつ基板Ｗの搬送方向と直交する方向に配設され蒸着材料Ｍを収納するルツボ３、４とを備え、これらのルツボ３、４は、基板Ｗ上の成膜領域Ｗ１より外側の位置に、それぞれ配設されている。 （もっと読む）

【課題】複数の有機蒸着材料を一定の比率で含む蒸着材料粒子を得る技術を提供する。
【解決手段】本発明では、第１及び第２の有機蒸着原料をそれぞれ真空中で加熱して不純物を分離除去して純化し（プロセスＰ１ａ、プロセスＰ１ｂ）、この純化された第１及び第２の有機蒸着原料を溶剤に分散させて原料分散液を調製し（プロセスＰ２）、さらに、この原料分散液を真空中で凍結乾燥させて粒子状に形成する（プロセスＰ３）。本発明は、有機ＥＬ素子の有機膜を形成するためのホスト材料とドーパント材料の造粒に好適である。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ用マスクに付着した蒸着物を除去するクリーニングを行うときに、基板に対して完全に非接触状態で蒸着物を除去しつつ、基板から飛散した遊離生成物を有機ＥＬ用マスクに再付着させないようにすることを目的とする。
【解決手段】有機ＥＬ用マスク２に付着した蒸着物質ＶＭを除去する有機ＥＬ用マスククリーニング装置であって、有機ＥＬ用マスク２を立てた状態で保持するマスク保持手段３と、有機ＥＬ用マスク２の表面に直交する方向からレーザ光を照射して蒸着物質ＶＭを破砕して生じる遊離生成物を有機ＥＬ用マスク２から飛散させるレーザ洗浄手段４と、を備えている。有機ＥＬ用マスク２は立てられた状態に保持され、遊離生成物は有機ＥＬ用マスク２から離間した方向に向けて飛散して自由落下するため、遊離生成物が有機ＥＬ用マスク２に再付着しなくなる。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Ｂを収容可能な真空チャンバ１と、該真空チャンバ１内に設けられて蒸着材料Ｍを収容する坩堝１２と、該坩堝１２を加熱して蒸着材料Ｍを気化させる加熱源３とを備え、該加熱源３は、坩堝１２への加熱量を坩堝１２の位置に応じて異ならせていることを特徴とする。 （もっと読む）

エッジシーリングされ、かつカプセル化された環境感応性素子の生成方法が提供される。一つの方法は、基板上で接触部と共に環境感応性素子を提供する段階；印刷工程を用いて、不連続領域を有し、環境感応性素子をカバーしつつ、接触部をカバーしないデカップリング層を、環境感応性素子に隣接して蒸着する段階；デカップリング層の不連続領域より広い第１領域を有し、デカップリング層をカバーし、接触部をカバーする第２領域を有する第１バリア層を、デカップリング層に隣接して蒸着する段階であって、前記デカップリング層は、第１バリア層と、基板またはオプションとしての第２バリア層の端部との間でシーリングされる段階；接触部から第１バリア層の第２領域を除去する段階；を含む。 （もっと読む）

本発明の教示内容は、ＯＬＥＤや他の種類のディスプレイ装置の一部を成す１以上の基材の上に、１以上の材料（例えば、１種以上の固体など、１以上の薄膜）を積層するための装置および方法に関する。いくつかの実施の形態での開示内容は、１以上の基材の上にインクを積層するための装置および方法に関する。こうした装置には、例えば、インクを格納する１以上のチャンバと、１以上のチャンバ内にあってインクの液滴を噴射するように構成された複数の開口部と、例えば矩形配列の形を取る微細孔配列を有する放出ノズルと、を有し、各微細孔は入口ポートと出口ポートと有し、放出ノズルはチャンバから開口部を介して入口ポートで複数のインク液滴を受け取り、出口ポートから放出する。インク液滴は、放出ノズルの入口ポート上に間隔をあけて定められた固有の位置で受け取られる。いくつかの実施の形態では、複数（例えば３つ）の開口部を有する単一の液体インク格納チャンバが、複数の粒子が懸濁した液体の状態のインクを受け取り、インク液滴はチャンバからほぼ同時に、放出ノズル上の間隔をおいた別々の位置に向けて放出され、放出ノズルはキャリア液を蒸発させてから、固体の粒子を１以上の基材に積層する。 （もっと読む）

【課題】簡素な構成で温度分布の均一化を図ることができ、材料の余分な充填を低減することができる真空蒸着装置及び温度調整方法を提供する。
【解決手段】外部より搬入される被蒸着体Ｂを収容可能な真空チャンバ１と、該真空チャンバ１内に設けられて蒸着材料Ｍを収容する坩堝２と、該坩堝２を加熱して前記蒸着材料Ｍを気化させる加熱源３と、坩堝２の底部２ｃに分散配置され坩堝２を支持すると共に、坩堝２と真空チャンバ１の床部１ａとの間で伝熱する複数の支持部５とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】アスペクト比が高くて幅が狭い凹状フィーチャーに誘電層を形成するための新規方法を提供する。
【解決手段】間隙に流動性重合膜をプラズマ強化化学気相成長（ＰＥＣＶＤ）法によって形成した後で、当該膜を誘電材料に変換するためのインサイチュ（ｉｎ−ｓｉｔｕ）処理を実行することを含む。インサイチュ処理は、純粋な熱処理プロセスまたはプラズマ処理プロセス。堆積−インサイチュ処理−堆積−インサイチュ処理というプロセスを実行して、間隙に誘電層を形成する。この一連の手順は、間隙をボトムアップ式に充填するべく必要なだけ繰り返される。エクサイチュ処理後プロセスは、間隙の充填が完了した後で実行される。特定の実施形態によると、誘電率が３．０未満の膜が形成される。上記プロセスは、フロントエンドおよびバックエンドの間隙充填に利用可能である。 （もっと読む）

【課題】光による加熱成膜法により正確なパターンで、かつ良質な膜を成膜し、高繊細な発光装置を生産性よく作製できる技術を提供することを課題の一とする。
【解決手段】光による加熱成膜法において、光吸収層への光照射工程を、光照射時間を０．１ミリ秒以上１ミリ秒未満（より好ましくは０．２ミリ秒以上０．５ミリ秒未満）とし、かつ光源から光吸収層に向かって照射されるエネルギー密度を２×１０^３Ｗ／ｃｍ^２以上２×１０^５Ｗ／ｃｍ^２以下（より好ましくは２×１０^３Ｗ／ｃｍ^２以上１×１０^５Ｗ／ｃｍ^２以下）とする。さらに、成膜する材料層（有機化合物材料を含む層）が設けられた成膜用基板と、対向して配置される被成膜基板とを、材料層表面と被成膜面との間隔ｄを０＜ｄ≦１０μｍ（より好ましくは０＜ｄ≦５μｍ）とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において、被処理基板２０の搬送経路に沿って
、蒸着源１２０および蒸着用マスク１３１、１３２を備えた第１蒸着エリア１１０と、蒸
着源２２０および蒸着用マスク２３１、２３２を備えた第２蒸着エリア２１０と設けてお
き、被処理基板２０を第１蒸着エリア１１０および第２蒸着エリア２１０において蒸着用
マスク１３１、１３２、２３１、２３２と重なる位置で一時停止させながら被処理基板２
０を搬送経路に沿って搬送する。 （もっと読む）

【課題】固体原料を加熱して蒸発させて成膜用の原料ガスを得るにあたって、熱による劣化や変質を抑えながら長時間に亘って安定した量の原料ガスを得ること。
【解決手段】固体原料を貯留する粉体貯留部と、この粉体貯留部から供給される固体原料を溶融させて液体原料を得る粉体受け入れ室と、この粉体受け入れ室から取り出した液体材料を気化させることにより原料ガスを得る気化室と、を設けて、気化室では成膜処理に必要な生成量となるように液体材料に大きな熱量を加えて原料ガスを発生させる一方、粉体受け入れ室では固体原料が溶融できる程度の小さな熱量を加えて熱劣化を抑えながら液体原料を得て、この液体原料を粉体受け入れ室から気化室に向かって通流させる。 （もっと読む）

【課題】室内の気密を保持しながら成膜材料を補充する材料供給装置を提供する。
【解決手段】材料供給装置１００は、有機材料３０５が収納された材料容器３００と、材料容器３００を投入する材料投入室１１０と、蒸着源ヘッド２００ａに連結された連結管１２０ｂの内部通路と連通し、その連通した部分を材料気化部として、投入された材料容器３００を材料気化部まで搬送させる搬送路１２０ａを有し、材料気化部にて気化された有機分子を連結管１２０ｂの内部通路を介して蒸着源ヘッド２００ａに向けて送り出す材料輸送室１２０と、材料輸送室１３０から材料容器３００を取り出す材料取出室１３０と、を有する。材料投入室１１０と材料輸送室１２０と材料取出室１３０とは、それぞれ所望の減圧状態に維持されている。 （もっと読む）

【課題】基板やマスクの撓みを低減し、高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置並びに成膜装置並びに液晶表示基板製造装置を提供することである。あるいは、駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵やガスの発生を低減し生産性の高い、あるいは保守性を高め稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】本発明は、基板を立てた姿勢に保持する基板保持手段と、シャドウマスクを垂下した姿勢に保持するシャドウマスク垂下手段と、前記基板とシャドウマスクに設けられたアライメントマークを撮像するアライメント光学手段と、前記垂下姿勢の状態で前記シャドウマスクを駆動するアライメント駆動手段と、前記アライメント光学手段の結果に基づいて前記アライメント駆動手段を制御する制御手段とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】精度よくアライメントできるアライメント装置及びアライメント方法並びにそれらを用いて高精度に蒸着できる有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
または、アライメントに必要な駆動部等を大気側に配置することで真空内の粉塵や発熱を低減した生産性の高い、あるいは、保守性を高めて稼働率の高い有機ＥＬデバイス製造装置及び成膜装置を提供することである。
【解決手段】シャドウマスクはアライメント用の貫通孔を有し、アライメント部は、前記貫通孔の一端側から光を入射する光源と前記他端を撮像する撮像手段とを有するアライメント光学系と、前記撮像手段の出力に基づいてアライメントを行なう制御部とを有することを特徴とする。さらに、上記特徴に加え、前記貫通孔は前記シャドウマスクの前後に貫通した孔であり、前記アライメント光学系は前記少なくとも前記基板への処理時に前記貫通孔への処理材の付着を遮蔽する遮蔽手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】洗浄液や異物の残留を抑えることが可能な蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】枠体４０に、マスク本体５０と対向する面に、開口４１に沿って段差部４２を設け、この段差部４２により、枠体４０およびマスク本体５０の間に隙間Ｇを形成する。隙間Ｇには、段差部４２と同じ高さの間隙保持部４３を点在させる。蒸着用マスク１を洗浄する際、洗浄液は隙間Ｇを流れ、隙間Ｇまたは貫通孔４５から排出される。よって、洗浄液がリンス液に置換されずにマスク本体５０と枠体４０との間に残ってしまい、表面張力でマスク本体５０と枠体４０とが密着してしまうことによる精度悪化が抑えられる。また、残った洗浄液や異物などからのガス発生により、蒸着のための真空室内にフッ素系の材料などが混入し、有機発光素子の寿命に影響を及ぼすおそれも小さくなる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法を採用し、安定した膜厚分布が得られるインライン蒸着装置、有機ＥＬ装置の製造装置、有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のインライン蒸着装置としての有機蒸着部は、減圧可能なチャンバーとしての有機蒸着室１２５と、有機蒸着室１２５内において基板Ｗを所定の搬送方向に搬送する基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと、基板Ｗの搬送方向に複数の蒸着室１２５ｅとを有し、それぞれの蒸着室１２５ｅにおいて、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの数を３本とするとき、３＋１個の蒸着源１１０を搬送方向に直交する方向において、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの直下を避けた位置に等間隔に設けた。 （もっと読む）

【課題】水晶振動子の電極に薄膜を形成する薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】無機膜形成装置は、処理チャンバ、処理チャンバ内において複数の水晶振動子９の第１電極９１および第２電極９２に処理蒸気を付与する処理蒸気付与部、および、処理チャンバの底部に設けられて複数の水晶振動子９の下方から処理チャンバ内のガスを排気する排気部を備える。無機膜形成装置では、水晶振動子９の第１電極９１および第２電極９２の斜め上方にそれぞれ位置する処理蒸気付与部の噴出口１４３４ｂ，１４３４ａから、第１電極９１および第２電極９２に向けて処理蒸気が噴出される。これにより、第１電極９１および第２電極９２の表面に薄膜を形成する際に、第１電極９１および第２電極９２以外の部位に処理蒸気が付与されることを抑制することができ、両電極以外の部位に処理材料が付着することを抑制することができる。 （もっと読む）