本発明は、基材上に蒸着されたメラムの、高湿度に対する耐性が求められる用途（レトルト処理もしくは金属堆積を含むさらなる処理等）または太陽電池やディスプレイ等の用途における使用に関する。バリア層のメラム対メラミン比（ｗ／ｗ）は、３：１〜５０：１の範囲にある。レトルト耐性を有する積層体は、２枚のプラスチックフィルムとその間に結晶性メラム層とを有し、積層体の、９０°引張試験で３０ｍｍ／分で測定されたラミネート強度は約２Ｎ／インチ以上である。 （もっと読む）

【課題】処理むらを防止して、良好な被膜を安定的に形成できるようにした表面処理装置および表面処理方法を提供する。
【解決装置】本発明の表面処理方法は、大気圧よりも低い圧力下でシランカップリング剤Ｙ１を気化させ、気化したシランカップリング剤Ｙ２の雰囲気に無機膜１０を有する基板Ｗを晒すことで無機膜１０上にシランカップリング剤の被膜を形成する表面処理工程を有する。また、本発明の表面処理装置１は、上記表面処理方法に用いられる装置であって、シランカップリング剤Ｙ１を気化させる処理剤気化装置２１と、処理剤気化装置２１に対してキャリアガスを供給するガス供給装置２２と、無機膜１０を有した基板１０を配置するとともに気化したシランカップリング剤Ｙ２が供給される成膜室３と、成膜室３内を減圧するポンプ５とを有する。 （もっと読む）

【課題】樹脂表面と反射膜用の金属薄膜の密着性を向上させることができる反射膜形成技術を提供する。
【解決手段】本発明は、成膜対象物の樹脂からなる成膜面上に真空中で緩衝用重合体膜を形成する緩衝用重合体膜形成工程（Ｐ２）と、緩衝用重合体膜上に真空中でプラズマによる処理を施すプラズマ処理工程（Ｐ４）と、当該プラズマ処理された緩衝用重合体膜上に、真空蒸着によって光反射性の金属薄膜を形成する反射膜形成工程（Ｐ６）とを有する。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュの発生が抑制され、また、蒸着レートが安定した蒸着源、および蒸着装置を提供すること。
【解決手段】ルツボ８には、導電体からなる複数の加熱板１が間隙を持って重なって配置されている。各加熱板１には、膜材料５が搭載可能に設けられている。最上段の加熱板１には、膜材料５がセットされていない。誘電コイル１０によって磁界が形成されると、各加熱板１自体が誘電加熱によって斑なく発熱し、載せられた膜材料５も均一に加熱されるため、蒸着レートが安定する。また、膜材料５が薄く形成されているため、当該材料内における温度分布が略均一となり、スプラッシュの発生が抑制される。 （もっと読む）

基材上に無機又はハイブリッド有機／無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。
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【課題】高温及び高真空の環境下において安全性を高めることができる移送装置及びこれを備える有機物蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバと、真空チャンバ内に設けられ、基板が装着されるステージと、基板に有機物を蒸発させる蒸着源と、蒸着源に連結され、真空チャンバの外側に引き出される工程ユーティリティラインと、蒸着源を基板と平行に移動させ、工程ユーティリティラインが内設される移送装置とを備える。 （もっと読む）

【課題】有機EL表示装置において、有機EL層、上部電極、補助電極等、蒸着によって形成する薄膜の形成精度を向上させる。
【解決手段】回路基板101に近接させて蒸着マスク21を設置する。回路基板101の上側には、マグネット103、磁界強度を調整するための中間板102が配置されている。蒸着マスク21はマスクシート23とマスクフレーム22から構成されている。回路基板101の熱膨張係数をα(S)とし、マスクフレーム22の熱膨張係数をα(F)とした場合、(α(S) -5×10^-6℃^-1) ≦ α(F) ≦ (α(S) +10×10^-6℃^-1)の関係とし、かつ、マスクフレーム22の熱膨張係数を前記マスクシート23の熱膨張係数よりも大きくすることによって高精度のマスク蒸着を可能とする。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】高品質な有機薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】蒸発槽４１の内部に所定量の有機材料を供給し、蒸発槽４１を密閉して有機材料蒸気を放出させる。蒸発槽４１内が設定圧力まで上昇した後、放出口４３を開け、蒸発槽４１から蒸気放出装置１４に有機材料蒸気を移動させ、真空槽１１内に放出させる。有機材料が二種類以上の有機化合物の混合物であっても、大きな圧力差で移動するから、移動速度の相違による有機材料蒸気の組成変化はなく、膜厚方向で均一な有機薄膜を形成することができる。溶剤に有機化合物が溶解又は分散された液体状の有機材料を用いる場合、蒸発槽４１内で有機化合物の蒸気を発生させる前に、溶剤を蒸発除去しておくとよい。 （もっと読む）

【課題】気相潤滑方法用の装置を提供すること。
【解決手段】チャンバー、配列した開口部を有するディフューザープレート、ディフューザープレートの開口部とほぼ同じパターンの開口部を有するシャッタープレート、チャンバー内で被気相コーティング目的物を保持するホルダー、及びシャッタープレートを動かしてシャッタープレートの配列した開口部をディフューザープレートの配列した開口部に合わせるか、またはシャッタープレートでディフューザープレートの配列した開口部を少なくとも部分的に塞ぐアクチュエータを含む気相潤滑用装置。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】蒸着用基板である第１の基板に、マスク基板である第２の基板を介して第１の光（レーザ光）を照射することにより、第１の基板上の材料層をパターン形成する蒸着用基板の作製方法である。また、上述した方法によりパターン形成された材料層を有する第１の基板に第２の光を照射することにより、材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させることが可能な発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】均一な膜を成膜することを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する成膜方法において、式（１）または式（２）を満たす条件で成膜する。


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【課題】有機電界発光表示装置の製造装置及び製造方法を提供すること。
【解決手段】上記有機電界発光表示装置の製造装置は、チャンバと、基板がその上面に載置するように上記チャンバ内部に配置され、所定パターンの開口が形成されているマスクと、上記マスクの下側に配置されて上記マスクの開口を通して上記基板に膜が形成されるように蒸着物質を上記マスク側に供給する蒸着物質供給源と、上記基板の底面に上記マスクが密着されるように上記基板の上面を上記マスク側に加圧し、上記基板の曲がった形状に沿って変形して上記基板の上面を加圧する基板−マスク密着ユニットとを含む。 （もっと読む）

【課題】有機発光素子の発光層を成膜する工程において、基板とマスクを密着させるためのマグネットの磁力による影響が発光層に及ぶのを防ぐ。
【解決手段】基板２０に対して、複数のパターニング開口領域３１とフレーム領域３２から構成されたマスク３０をマグネット１０を用いて密着させて、有機発光素子の発光層を蒸着する。マグネット１０は、基板２０の裏面側において、マスク３０のフレーム領域３２のみを吸着する。マスク３０のパターニング開口領域３１にはマスク１０の磁力が作用しないため、磁力によって発光層に発光ムラが発生するのを防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ装置の製造工程において、基板に付着した異物を効果的に除去する製造装置および製造方法を提供すること。
【解決手段】有機ＥＬ装置の製造装置１００は、基体２０の表面に薄膜を形成する少なくとも一つの成膜装置１３０と、成膜装置１３０に接続され、基体２０に外力を加えることにより基体２０の表面に付着した異物を除去する除去手段が設けられた処理装置１４０と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】膜質が良好な有機層および無機層を、高い生産効率で成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、長尺の基板を長手方向に所定の搬送経路で搬送しながら、基板の表面に有機層を形成し、有機層上に無機層を形成するものである。この成膜装置は、基板を長手方向に所定の搬送経路で搬送する搬送手段と、有機層を基板の表面に形成する第１の成膜手段が設けられた第１の成膜室と、第１の成膜室の搬送経路の下流側に配置されるとともに有機層上に無機層を形成する第２の成膜手段が設けられた第２の成膜室と、第１の成膜室内および第２の成膜室内を所定の圧力に減圧する真空排気手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】特性の向上した多孔性シリカガラスフィルムを提供する化学気相蒸着方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバーに、オルガノシランおよびオルガノシロキサンからなる群から選択される少なくとも１つの前駆体、および前駆体とは区別されるポロゲンを含めたガス状試薬を導入すること（ここに、ポロゲンは非−分岐構造、および２と等しい、またはそれ未満の不飽和の度合いを有するＣ₄〜Ｃ₁₄環状炭化水素化合物である）；エネルギーを真空チャンバー中のガス状試薬に適用してガス状試薬の反応を誘導し、基材上に予備的フィルムを蒸着させること（ここに、予備的フィルムはポロゲンを含有する）；および不安定有機物質の実質的に全てを予備的フィルムから除去して細孔および２．６未満の誘電定数を有する多孔性フィルムを供することを含む、多孔性有機シリカガラスフィルムを製造するための化学気相蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】 ２種類以上の液体状のモノマーを異なるエバポレータで気化させて混合することができるフラッシュ蒸着方法及び装置を提供する。
【解決手段】フラッシュ蒸着装置１０は、反応室３０と、連続搬送されるフィルム２０を支持するためのドラム３２と、複数のエバポレータ４０，５０と、各エバポレータ４０，５０に接続され、液体状のモノマーを保持するモノマータンク４６，５６と、モノマータンク４６，５６からモノマーをエバポレータ４０，５０に送液するための送液ポンプ４４，５４と、エバポレータ４０，５０から排出される気化されたモノマーを合流させる合流部８０と、合流部８０に接続された混合機８２と、混合機８２に接続されたノズル８４を備えている。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】膜質の良い有機薄膜を成膜可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】基板ホルダ４０は基板７が水平にされた水平状態から起こされ、基板ホルダ４０に保持された基板７は、基板ホルダ４０と一緒に起立し、水平面から傾いた起立状態にされる。放出装置５０は起立状態の基板７と対面し、該基板７に有機材料の蒸気を噴出して、基板７表面に有機薄膜が成長する。有機薄膜が成長する間、基板７を起立状態にしておけば、有機薄膜に塵等の不純物が混入しない。 （もっと読む）

【課題】線膨張係数の異なる光学部材同士を接合することができるとともに波面収差のバラツキのない光学物品を提供する。
【解決手段】それぞれ水晶からなり線膨張係数の異なる第一光学部材１１及び第二光学部材１２と、これらの第一光学部材１１と第二光学部材１２とを分子接合する接合層１３とを備え、接合層１３をプラズマ重合膜１３１から構成した。そのため、第一光学部材１１と第二光学部材１２とが分子接合されることで接着剤が不要となり、その結果、第一光学部材１１と第二光学部材１２との接合部分に厚さのバラツキがなくなって波面収差がなくなる。しかも、接着剤を使用しないことで、耐光性が向上する。そして、プラズマ重合膜１３１が第一光学部材１１，２１，３１，４１と第二光学部材１２，２２，３２，４２との接合面の微小な凹凸面や熱膨張の差を追従することができる。 （もっと読む）

【課題】所望の領域の材料のみが成膜されることを可能にし、微細パターンの形成を可能にすることを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、金属窒化物を含む光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する。 （もっと読む）