【課題】樹脂製の光学部品に反射防止膜を形成してなる光学素子であって、ハンダ付け等によって熱履歴を受けても、反射防止膜にクラックや剥離や生じることを防止できる光学部品を提供する。
【解決手段】樹脂製光学部品の表面に、樹脂製の低屈折率層と樹脂に金属を分散してなる高屈折率層とを交互積層してなる反射防止膜を形成すること、および、低屈折率層を有機材料の蒸着で、高屈折率層を有機材料と金属との共蒸着で、それぞれ成膜することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

基板を取り扱う特にコーティングする装置において、プロセスチャンバ1と、その中で処理される基板12を格納するべく搭載開口6,7を介してプロセスチャンバ1に接続された、又は、処理プロセスで用いるマスク10,10'、10"、10'"を格納する少なくとも１つの格納チャンバ2,3と、搭載開口6,7を通して基板又はマスクをプロセスチャンバ1に搭載し又は取り出す搬送装置13と、開始物質をキャリアガスとともにプロセスチャンバ1に導入するべく温度制御可能なガス入口要素4と、処理される基板12を受容するべくガス入口要素4に対向して位置するサセプタ5と、遮蔽位置にあるときガス入口要素4とサセプタ5又はマスク10の間に位置して基板12又はマスク10をガス入口要素4からの熱の影響から遮蔽する遮蔽プレート11と、遮蔽プレート11を基板12の処理前にガス入口要素4に相対する遮蔽位置から格納位置へ移動させ基板12の処理後に格納位置から遮蔽位置に戻す遮蔽プレート移動装置15,16と、を有する。格納位置では遮蔽プレート11が格納チャンバの内部にある。
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【課題】多孔質の有機シリカガラス膜を製造するための堆積方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバーに、有機シラン又は有機シロキサンの１つの前駆体と、該前駆体とは異なるポロゲンであって、本質的に芳香族であるポロゲンとを含むガス状試薬を導入する工程、前記チャンバー中の前記ガス状試薬にエネルギーを適用して該ガス状試薬の反応を引き起こしてポロゲンを含有する膜を堆積させる工程、並びにＵＶ放射によって有機材料の実質的にすべてを除去して気孔を有しかつ２．６未満の誘電率を有する多孔質の膜を提供する工程を含む多孔質の有機シリカガラス膜を製造するための堆積方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】優れた耐候性及び耐摩耗性、耐擦傷性を有し、しかもシンプルで且つ低コストな工程によって量産可能な自動車用樹脂ガラスを提供する。
【解決手段】透明な樹脂基板１２の少なくとも一方の面上に積層形成されたハードコート層１４を、真空蒸着重合によって形成された有機高分子薄膜１６を含んで構成した。 （もっと読む）

【課題】処理室１に２種類の原料モノマーガスを流入させ、基板Ｓの表面に高分子膜を形成する蒸着重合装置であって、組成分布及び膜厚分布の均一な高分子膜を形成でき且つ生産性に優れた装置を提供する。
【解決手段】基板Ｓに対向する処理室１の面に設けられるシャワープレート４と、シャワープレート４を挟んで処理室１に隣接するガス導入室５とを備える。ガス導入室５に、その内部空間を２種類の原料モノマーガスを個別に供給する２つのガス導入通路５１Ａ，５１Ｂに仕切る隔壁５２が設けられる。隔壁５２は、２つのガス導入通路５１Ａ，５１Ｂがシャワープレート４の板面に沿って所定ピッチで交互に並ぶように形成される。また、シャワープレート４に、各ガス導入通路５１Ａ，５１Ｂに沿わせて吹出し孔４１Ａ，４１Ｂが多数形成される。 （もっと読む）

【課題】有機高分子薄膜を、基体表面上に、高い成膜効率で、再現性良く且つ安定的に形成し得る技術を提供する。
【解決手段】真空状態の複数の蒸発源容器３２ａ，３２ｂ内で蒸発させた複数種類の原料モノマーを、真空状態の成膜室１０内に導入して、成膜室１０内に配置された基体１２の表面上で重合させることにより、基体１２の表面上に有機高分子薄膜を形成する真空蒸着重合操作を繰り返し行うに際して、毎回、原料モノマーの蒸発操作の開始時に、原料モノマーが、蒸発源容器３２ａ，３２ｂ内に液体状態で一定の量だけ存在するようにした。 （もっと読む）

【課題】より耐薬品性に優れたポリ尿素膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】脂環式ポリアミンと脂環式ポリイソシアナートを蒸着重合法により重合してなるポリ尿素によって形成された被膜。２つの蒸発源２１Ａ、２１Ｂにそれぞれ注入された２種の原料モノマーＡ、Ｂを加熱し気化させて得られた原料ガスを混合して混合ガスとし、該混合ガスを真空チャンバ１２内へ導入し、被処理体１３の表面にて、前記２種の原料モノマーを蒸着重合させて、前記被処理体の表面にポリ尿素膜からなる被膜を形成するポリ尿素膜の成膜方法。 （もっと読む）

本発明は、基板(6)上へのポリマーフィルムの化学気相蒸着法に係り、該方法は、以下の2つの別々の、連続する段階を含む：ガス相のフォトン活性化段階、ここではフォトン活性化エネルギー(42、43)が、主としてガス状組成物中に存在する少なくとも一つのガス状ポリマープリカーサに供給され；および化学気相蒸着段階、ここでは前記フォトン活性化段階から得られる、該活性化されたガス状ポリマープリカーサが、基板(6)上にポリマーフィルムを生成するように、該基板上に堆積され、またここで該ガス相の全圧力は、10²〜10⁵Paなる範囲内にある。本発明は、またこのような方法を使用するためのデバイス(1)にも係る。
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【課題】蒸着重合により均一に成膜することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】チャンバー内に設置された基板に、気化した複数の物質を化学反応させることにより、前記基板上に前記化学反応により生成された物質からなる膜を形成する成膜装置において、前記チャンバー内には、前記基板に対向して設けられた前記気化した複数の物質を供給するための供給口を有する材料供給器を有し、前記供給口は前記複数の物質の各々に対し、複数設けられていることを特徴とする成膜装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】基体の表面における原料モノマーの滞留時間を考慮することなく、基体の表面を平坦化することができる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、２つの蒸発源２１Ａ、２１Ｂにそれぞれ注入された２種の原料モノマーＡ、Ｂを加熱し気化させて得られた原料ガスを混合して混合ガスとし、この混合ガスを真空チャンバ１２内へ導入し、被処理体１３の一方の面１３ａにて、２種の原料モノマーＡ、Ｂを蒸着重合させて、被処理体１３の一方の面１３ａに被膜を形成する成膜方法であって、２種の原料モノマーＡ、Ｂとして、融点が室温よりも低いものを用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】熱が伝わりにくい真空中においても、被処理体の冷却効率を向上させ、成膜速度を向上させた成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の成膜方法は、真空排気されたチャンバ内において、非処理体上に被膜を形成する成膜方法であって、被処理体を前記チャンバ内に搬入する工程Ａと、前記チャンバ内を真空排気する工程Ｂと、前記チャンバ内に不活性ガスを導入し、前記被処理体を冷却する工程Ｃと、前記チャンバ内から前記不活性ガスを排気するとともに、該チャンバ内に被膜形成用の原料ガスを導入し、前記被処理体上に被膜を形成する工程Ｄと、を少なくとも順に備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板フィルムの両面及び片面への蒸着を行なうことができ、装置の大型化及び複雑化を回避できる蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板フィルムに蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、基板フィルムを送り出すように回転駆動する第１の駆動部と、搬送された基板フィルムを巻き取るように回転駆動する第２の駆動部と、第１駆動部と第２駆動部との間で搬送される基板フィルムの搬送経路に設けられ、基板フィルムの一方の面を周面に支持する複数の成膜ローラと、基板フィルムの成膜ローラに支持された面の反対側の面に蒸着膜を成膜する複数の蒸着部と、第１の駆動部及び第２の駆動部の一方と切り換えられて駆動する第３の駆動部とを備え、第３の駆動部への切り換えの有無によって基板フィルムの両面又は片面に蒸着が行われるように搬送経路が変更される。 （もっと読む）

【課題】固体表面の改質方法及び表面改質された基材を提供する。
【解決手段】基材の表面に、環状、枝状、又は直鎖構造からなる有機分子を共有結合を介して被覆し、分子膜を形成し、それにより、液体と固体表面の相互作用を著しく抑制して、前進接触角（θ_Ａ）と後退接触角（θ_Ｒ）の差（θ_Ａ−θ_Ｒ、ヒステリシス）を小さくすることで、液滴の滑落・滑水性、耐水性、固体表面からの液滴の除去性を向上させて耐食性あるいは防食性にして、ヒステリシスが５°以下の撥水性、超撥水性を示す表面に改質する、固体表面の改質方法、及びその表面改質された基材。
【効果】固体表面を極めて小さいヒステリシスを有する表面に改質することを可能とする固体表面の改質方法、及び動的接触角の差が極めて小さいため、塩水が表面に残存しにくい、優れた耐食性を示す基材を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】反応容器内で第１及び第２の原料ガスを反応させ、基板表面に薄膜を成膜する場合において、第１及び第２の原料ガスを、インジェクタの近傍で均一に混合してから基板に到達させることができ、成膜する薄膜の膜質、膜厚を基板間及び面内で均一に揃えることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】反応容器内に第１及び第２の原料ガスを吐出する第１及び第２のインジェクタ１１、１２を備え、第１及び第２のインジェクタ１１、１２は、第１及び第２の原料ガスを基板に向けて吐出する複数の第１の吐出口Ｎ１、Ｎ２が設けられ、第１の吐出口Ｎ１から吐出された第１の原料ガスの流路ＦＬ１が、対応する第２の吐出口Ｎ２から吐出された第２の原料ガスの流路ＦＬ２と略同一であり、第１の原料ガスは、第１の吐出口Ｎ１から吐出された後、基板に到達する前に、第２の原料ガスと混合されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】固体原料を昇華して発生させた原料ガスを成膜装置へ供給する場合において、十分な気化量を継続して安定的に供給することができる気化器を提供する。
【解決手段】固体原料ＲＭを加熱して昇華させ、原料ガスＲを発生させる加熱部２と、加熱部２の上方に設けられ、加熱部２に固体原料ＲＭを供給する供給部１と、加熱部２で発生させた原料ガスＲを搬送するキャリアガスＣを導入するガス導入部３と、発生させた原料ガスＲをキャリアガスＣとともに導出するガス導出部４とを有する。ガス導入部３から導入されたキャリアガスＣが、加熱部２を通過する。 （もっと読む）

【課題】固体の粒子を安定的にを昇華させることが可能な気化器を有する成膜装置を提供する。
【解決手段】チャンバー内に設置された基板に、気化した第１の物質と気化した第２の物質とを供給し反応させることにより前記基板上に第３の物質の膜を形成する成膜装置において、常温では固体である前記第１の物質を気化させて供給するための気化器を有しており、前記気化器は、前記第１の物質の粒子を供給するための供給部と、前記供給部の下部に設けられた段部を有する傾斜状の加熱部と、を有し、前記第１の物質の粒子は、前記段部を有する傾斜状の加熱部において気化されるものであることを特徴とする成膜装置を提供することにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】特に耐筆記性などの耐久性を向上させた透明導電性積層フィルムを提供する。
【解決手段】 透明なプラスチックフィルムからなる基材層（Ａ）上の一方の面に０．２μｍ以上２０μｍ以下のハードコート層（Ｈ）、反対の面に重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）を硬化してなる厚さ０．１μｍ以上２０μｍ以下の被膜層（Ｂ）、前記被膜層（Ｂ）上に透明導電膜層（Ｃ）が積層されてなり、前記被膜層（Ｂ）を形成する前記重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物（ｂ）の硬化収縮率が０．２％以上１０％以下であることを特徴とする透明導電性積層フィルム。 （もっと読む）

【課題】一つの成膜装置で蒸着重合法及びスパッタリング法を行うことができる複合型の成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜対象を設置する真空成膜室と、前記真空成膜室中の前記成膜対象にスパッタリング法により膜を形成するスパッタリング手段３０と、前記真空成膜室中の前記成膜対象に蒸着重合法により膜を形成する蒸着重合手段２０ａ、２０ｂとを備え、前記スパッタリング手段３０は、スパッタリングターゲット３１が設けられたターゲット室３２からなり、当該ターゲット室３２は、前記真空成膜室に可動遮蔽手段を介して接続され、前記蒸着重合手段２０ａ、２０ｂは、原料モノマーが封入されている蒸発源容器２１ａ、２１ｂと、蒸発源容器２１ａ、２１ｂに設けられた加熱手段２２ａ、２２ｂとからなる。 （もっと読む）

【課題】 成膜室に流入される蒸発ガスの供給量を制御して成膜レートを一定に保ち、かつ、高品質な高分子膜を形成できる成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜対象Ｓが設置される真空成膜室１０と、原料モノマーＭａ、Ｍｂが封入されている蒸発源２１ａ、２１ｂと、前記蒸発源に設けられた加熱手段２２ａ、２２ｂとを備え、前記真空成膜室と前記蒸発源とを接続する原料管にコンダクタンス可変バルブ３１ａ、３１ｂ及び圧力計３２ａ、３２ｂを設けると共に、当該コンダクタンス可変バルブには、前記圧力計で測定された圧力値が前記コンダクタンス可変バルブの設定された圧力値と等しくなるようにコンダクタンス可変バルブの開度を制御する制御部３３ａ、３３ｂを設ける。 （もっと読む）

【課題】クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用することにより、処理容器自体や被処理体を保持する保持手段にダメージを与えることなく不要な高分子薄膜のみを選択的に且つ効率的に除去することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】被処理体Ｗの表面に高分子薄膜を形成する成膜装置において、被処理体を収容する処理容器４と、処理容器内で被処理体を保持する保持手段６と、処理容器内を真空引きする真空排気系３０と、処理容器内へ高分子薄膜の複数の原料ガスを供給するガス供給手段２０と、処理容器内へクリーニングガスとしてフッ素ガスを供給するクリーニングガス供給手段２６と、処理容器を加熱する容器加熱手段１４とを備える。これにより、処理容器内をクリーニング処理するに際して、クリーニングガスとしてフッ素系ガスを使用する。 （もっと読む）