【課題】ｐ型の導電膜及びｐ型の透明導電膜としての酸化物膜の高性能化を図る。
【解決手段】
本発明の１つの酸化物膜は、チタン（Ｔｉ）とアンチモン（Ｓｂ）とからなる酸化物の膜（不可避不純物を含み得る）である。また、この酸化物膜は、前述のチタン（Ｔｉ）に対する前述のアンチモン（Ｓｂ）の原子数比が、そのチタン（Ｔｉ）の原子数を１とした場合にそのアンチモン（Ｓｂ）の原子数が０．０８以上０．１８以下である。さらに、この酸化物膜は、微結晶の集合体、微結晶を含むアモルファス状、又はアモルファス状であるとともにｐ型の導電性を有する。 （もっと読む）

【課題】厚い部分と薄い部分を有する活物質膜を用い、それにリチウムを附与した際の組成不均一に起因する劣化を防止することが出来るリチウム二次電池用負極の製造装置を提供すること。
【解決手段】排気ポンプで減圧されている真空槽内に配置され基板を搬送する搬送系と、基板近接に配置され前記基板に材料蒸気を付与するための開口面を有する半密閉構造の材料付与源と、前記付与源を加熱する加熱源と、前記付与源の開口面近傍に配置され材料蒸気に指向性を付与するスリット構造とを有し、前記スリット構造は、成膜領域における前記基板の搬送に伴って、前記基板に向かう前記材料蒸気の入射方向が前記基板法線を挟んで逆転する構造であることを特徴とする電気化学素子の成膜装置。 （もっと読む）

【課題】波長ムラが生じにくく低屈折率の薄膜、及び、薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】薄膜１１は、基板１２上に形成されている。薄膜１１は、蒸着材料からなる蒸着膜により形成されている。また、薄膜１１は、基板１２に形成された複数のナノ構造体１３の集合層から構成されている。ナノ構造体１３は、基板１２の略垂直方向に柱状に延びるように形成されている。また、ナノ構造体１３の集合層は、薄膜１１全体として、蒸着材料と空気とが一定割合で混合しており、この割合（薄膜の膜充填密度）により、薄膜１１全体の屈折率が決定される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し、かつ装置の改良を行うことなく昇華した蒸着材料に指向性を付与し得る蒸着材及び該蒸着材を用いて成膜された蒸着膜を提供する。
【解決手段】上面に１又は２以上の突起１１が形成された基部１０ａと、少なくとも突起１１と同数の貫通孔１２が突起１１と対応する位置に設けられ基部１０ａの上面にすべての突起１１を貫通孔１２が収容するように設置されたマスク１０ｂとを含み、突起１１は基部１０ａ表面からの最大高さｈが１〜１０ｍｍであり、基部１０ａ表面から突出する部分の最大幅ｗが１〜１０ｍｍであり、マスク１０ｂに設けられた貫通孔１２は高さＨが突起１１の最大高さｈの１．２〜３倍であり、かつ幅Ｗが突起１１の最大幅ｗの１〜４倍であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化インジウムを主成分としセリウムを含むと共に表面から内部まで同一の組成を有する蒸着用酸化物タブレット（酸化物蒸着材）を提供し、かつこの酸化物蒸着材を用いて製造される蒸着薄膜とこの薄膜を電極に用いた太陽電池を提供すること。
【解決手段】この蒸着用酸化物タブレットは、酸化インジウムを主成分としセリウムを含み焼結後の表面研削加工がされていない焼結体により構成されており、焼結体表面から５μｍの深さまでの表面層におけるセリウム含有量をＣｅ／Ｉｎ原子数比（Ｃｏｍｐ^Ｓ）とし、焼結体全体におけるセリウム含有量の平均値をＣｅ／Ｉｎ原子数比（Ｃｏｍｐ^Ａ）とした場合、Ｃｏｍｐ^Ｓ／Ｃｏｍｐ^Ａ＝０．９〜１．１であることを特徴とする。また、蒸着薄膜は本発明の蒸着用酸化物タブレットを用いて成膜されていることを特徴とし、太陽電池は上記蒸着薄膜を電極に用いたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】吸湿性が低く、電子ビーム蒸着法などの物理気相成長法により安定した条件でストロンチウムとカルシウムとを含む酸化物膜を製造することができる蒸着材を提供する。
【解決手段】ストロンチウムとカルシウムとをモル比で０．２：０．８〜０．８：０．２の範囲となる割合で含む酸化物の結晶粒子から形成された多結晶体であり、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム及び希土類元素からなる群より選ばれる一種以上の金属元素を、ストロンチウムのモル量とカルシウムのモル量との合計を１００モルとしたときに、０．０００５〜２０モルの範囲となる量にて含み、かつ平均細孔直径が０．０１〜０．５０μｍの範囲にある蒸着材。 （もっと読む）

【課題】印加される磁場の方向や膜の部位によらずに、量子化磁束の動きが効果的に抑制された酸化物超電導膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】レーザー蒸着法で酸化物超電導膜を製造する方法であって、エキシマレーザー光１８ａ及びＹＡＧレーザー光１８ｂを同時にターゲット１５に照射することで、基材１２上に常電導部分となる不純物の比率を０．３〜６質量％含む酸化物超電導膜を形成する工程を有することを特徴とする酸化物超電導膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】正負極層間に短絡を生じさせたり、サイクル特性を低下させたりすることがなく、固体電解質電池の歩留まりを低下させない固体電解質膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に集電体、正極活物質、固体電解質、負極活物質、集電体の各膜が積層された固体電解質電池における固体電解質膜の製造方法であって、密度１．５〜２．０ｇ／ｃｍ^３の蒸発源を用いて、正極活物質表面に、抵抗加熱蒸着法により、０．０１〜１．０μｍ／分の成膜レートで成膜する。得られた固体電解質膜は、スプラッシュ数が１０〜３００個／□３００μｍである。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム、このガスバリア性フィルムを用いた装置、このガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】ガスバリア性フィルム１は、含有されるオリゴマー量が１質量％以下であるプラスチックフィルム２、プラスチックフィルム２上に設けられた紫外線硬化型樹脂からなる有機層３、及び有機層３の上に設けられた無機層４、を有し、有機層３の厚さが、プラスチックフィルム表面における最大高低差よりも大きくなっている。これによりガスバリア性に優れるガスバリア性フィルム１を提供することができる。 （もっと読む）

【課題】２次電池に適用可能な高結晶性、高均一性、高純度の自己支持形金属硫化物系２次元ナノ構造体の負極活物質及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による自己支持形金属硫化物系２次元ナノ構造体の負極活物質は、金属硫化物系物質からなる凝集体が剥離され、金属基板上に金属硫化物系２次元ナノ構造体として直接成長することを特徴とし、自己支持形金属硫化物系２次元ナノ構造体の負極活物質の製造方法は、金属硫化物系物質からなる凝集体を製造するステップと、凝集体をパルスレーザー蒸着用電気炉内のチューブに挿入装着するステップと、チューブ内に金属基板を挿入し、凝集体から離れて位置させるステップと、チューブ内の圧力を０．０１〜０．０３Ｔｏｒｒの真空状態に下げ、電気炉の温度を５９０〜６１０℃に上げるステップと、チューブ内にパルスレーザーを注入して凝集体を剥離するステップと、を含み、金属硫化物系物質を金属基板上に２次元ナノ構造体として直接成長させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】成膜時に導入する酸素量が少なくても、低抵抗で可視〜近赤外域における高透過性の高屈折率透明膜が安定して製造できる酸化物蒸着材と、この酸化物蒸着材を用いて製造される高屈折率透明膜を提供すること。
【解決手段】この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分とし、Ce/In原子数比で0.110を超え0.538以下のセリウムを含む焼結体により構成され、CIE1976表色系におけるＬ^＊値が62〜95であることを特徴とする。上記Ｌ^＊値が62〜95である本発明の酸化物蒸着材は最適な酸素量を有するため、成膜真空槽への酸素ガス導入量が少なくても波長550nmにおける屈折率が2.15〜2.51の低抵抗で可視〜近赤外域における高透過性の高屈折率透明膜を真空蒸着法で製造でき、酸素ガスの導入量が少ないため膜と蒸着材との組成差を小さくすることができ、量産時の膜組成の変動や特性の変動も低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】成膜時に導入する酸素量が少なくても、低抵抗で高い光透過性を有する透明導電膜が安定して製造できる酸化物蒸着材と、この酸化物蒸着材を用いて製造される透明導電膜とこの透明導電膜を電極に用いた太陽電池を提供すること。
【解決手段】この酸化物蒸着材は、酸化インジウムを主成分とし、Ce/In原子数比で0.001〜0.110のセリウムを含む焼結体により構成され、CIE1976表色系におけるＬ^＊値が62〜95であることを特徴とする。上記Ｌ^＊値が62〜95である本発明の酸化物蒸着材は最適な酸素量を有するため、成膜真空槽への酸素ガス導入量が少なくても低抵抗で可視〜近赤外域における高透過性の透明導電膜を真空蒸着法で製造でき、酸素ガスの導入量が少ないため膜と蒸着材との組成差を小さくすることができ、量産時の膜組成の変動や特性の変動も低減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】耐摩擦性に優れた車両用窓ガラスを提供する。
【解決手段】真空槽２０内に有機ケイ素化合物の気体を導入しながら蒸着源２１からＳｉＯ₂の蒸気を放出させ、ＰＣ基板２５表面に炭素を含有するシリコン酸化物薄膜から成る保護膜を形成する。この保護膜は、耐摩耗性が高く、ヘーズの値が小さい。ＰＣ基板２５を保持する基板ホルダ２３に交流電圧を印加しながら保護膜を形成すると、耐摩耗性と密着性が高くなる。また、真空槽２０内に導入した炭化ケイ素化合物のガスをプラズマ化して保護膜を形成することもできる。 （もっと読む）

【課題】汎用の製造設備を用いて製造可能なフッ化物からなる光学薄膜であって、波長２００ｎｍ以下において高屈折率を示す、緻密な構造の光学薄膜および光学薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】光学薄膜は、ランタンとガドリニウムのフッ化物を含み、前記ランタンと前記ガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．０１〜０．９５である。光学薄膜の製造方法は、基板を用意することと、ランタンとガドリニウムの合計モル数に対する前記ガドリニウムのモル数の比が０．１〜０．９５となるように、フッ化ランタンとフッ化ガドリニウムを混合した蒸着原料を用意することと、前記基材上に前記蒸着原料を蒸着することを含む。 （もっと読む）

【課題】プラズマ式の蒸着法により蒸着膜を成膜する際、特に蒸着材の昇華が始まる初期段階において、従来よりも低エネルギーでの成膜を実現し得る蒸着材の製造方法及び該方法により製造された蒸着材を提供する。
【解決手段】蒸着材１０の表面に突起１１を１又は２以上形成する第５工程を含み、突起１１の蒸着材１０表面から最大高さが１〜５ｍｍであって、突起１１の蒸着材１０表面から突出する部分の最大幅が１〜５ｍｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高いバリア性を有するとともに、クラックの発生も抑制可能な透明バリアフィルムを提供する。
【解決手段】透明基材１０２の少なくとも片面に、少なくとも１層のバリア性薄膜１０４を積層してなる透明バリアフィルム１０において、前記バリア性薄膜１０４が、酸化反応性ガスを導入しながら行なう真空成膜により形成され、かつ前記バリア性薄膜１０４のクラック発生開始歪量［％］が、２．５％以上３．３％以下であることを特徴とする透明バリアフィルム１０。 （もっと読む）

【課題】ハースやハースの材料受け部上の成膜材料量を常に一定として、安定した蒸着が可能な成膜材料供給装置を提供する。
【解決手段】回転する材料受け部３３を有するハース２３に成膜材料２２を供給する成膜材料供給装置であって、内壁面に螺旋溝を有する回転体を備えた材料フィーダ４３と、材料フィーダ４３から材料受け部３３に成膜材料２２を滑落させて供給するシューター４５と、材料受け部３３に残留する成膜材料２２の量を検出する検出部３４と、検出部３４からの出力情報に基づいて回転体の回転数を制御する回転制御部３５とを有している。 （もっと読む）

【課題】高さ寸法が比較的高くかつ相対密度が抑制された酸化亜鉛系酸化物ペレットを歩留まりよく量産可能な製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉を湿式混合かつ噴霧乾燥して第一造粒粉を製造する第一工程、第一造粒粉を仮焼して仮焼粉を製造する第二工程、仮焼粉と未仮焼原料粉を湿式混合かつ噴霧乾燥して第二造粒粉を製造する第三工程、第二造粒粉を加圧して圧粉体を製造する第四工程、圧粉体を破砕して成形体用粉末を製造する第五工程、成形体用粉末を加圧成形して成形体を製造する第六工程、成形体を焼成して酸化亜鉛系酸化物ペレットを製造する方法であって、第四工程の第二造粒粉に対する加圧条件を50MPa以上150MPa以下に設定して第五工程で製造される成形体用粉末の嵩密度が1.4g/cm³以上2.0g/cm³以下となるようにし、第六工程の成形体用粉末に対する加圧条件が100MPa以上200MPa以下とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、前記増反射ミラーコートは、基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の皮膜よりも耐酸化性および耐摩耗性に優れた硬質皮膜を提供する。
【解決手段】（Ａｌ_ａ，Ｍ_ｂ，Ｃｒ_{１−ａ−ｂ}）（Ｃ_１−ｅＮ_ｅ）からなる硬質皮膜（但し、ＭはＷ及び／又はＭｏ）であって、
０．２５≦ａ≦０．６５、
０．０５≦ｂ≦０．３５、
０．５≦ｅ≦１
（ａ，ｂ，ｅはそれぞれＡｌ，Ｍ，Ｎの原子比を示す。）
であることを特徴とする硬質皮膜。 （もっと読む）