【課題】基板が移動する系において当該基板上に蒸着される化合物の組成を制御する。
【解決手段】基板２上に第ＩＩＩＢ族元素（Ｙ）、第ＶＩＢ族元素（Ｚ）を蒸着する製膜ゾーン１１とこのゾーン１１で形成された薄膜に第ＩＢ族元素（Ｘ）、第ＶＩＢ族元素を蒸着する製膜ゾーン１２を経た薄膜に第ＩＩＩＢ族元素、第ＶＩＢ族元素を蒸着させる製膜ゾーン１３を有する製膜方法及びその装置において、ゾーン１２において検出されたＸＹＺ₂が化学量論的組成比となる基板の位置に基づきゾーン１２の終点における薄膜の第ＩＢ族元素と第ＩＩＩＢ族元素の組成比の予測値を算出し、ゾーン１３の終点におけるＸＹＺ₂化合物薄膜の組成比が予め設定されたゾーン１３の終点におけるＸＹＺ₂薄膜の第ＩＢ族元素と第ＩＩＩＢ族元素の組成比の目的値となるように、前記予測値に基づきゾーン１３における第ＩＩＩＢ族元素の蒸着量を制御する。 （もっと読む）

本発明は、基板が加熱されることを予防し、しかも、余剰の蒸着材料を効率よく捕集することのできる基板処理装置及び方法に係り、特に、本発明の一実施の形態による基板処理装置は、引込み区間と、成膜区間及び引出し区間がこの順に画成される内部空間を有するチャンバー部と、前記チャンバー部の成膜区間に位置して搬送される基板に蒸着材料を吹き付ける少なくとも１以上の材料噴射ノズル部と、前記チャンバー部の成膜区間を囲繞するように位置して成膜区間の内部を冷却する冷却プレート部と、を備える。また、前記基板処理装置は、前記材料噴射ノズル部の下方に位置して前記材料噴射ノズル部から吹き付けられる蒸着材料のうち基板に蒸着できなかった余剰の蒸着材料を捕集する少なくとも１以上のコールドトラップ部をさらに備える。 （もっと読む）

【課題】基材上に多層膜を形成する際に、より高精度な膜厚制御が可能な成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】基材上に多層膜を形成する成膜方法であって、前記多層膜の膜原料源を備える真空槽の内部に、基材と、基材上に形成される多層膜をモニタリングするためのモニタ基板とを配置する配置ステップと、真空中で膜原料源にエネルギーを付与して、基材上に膜原料を堆積させて多層膜のうちの３層以上の層を形成するとともに、モニタ基板上に、単層膜および、複数の互い異なる層構成の多層膜を同時に形成する形成ステップと、形成ステップにおいて、単層膜の光学膜厚を測定する光学膜厚測定ステップと、モニタ基板上の多層膜の分光光学特性を測定する分光光学測定ステップ、および測定された光学膜厚および／または分光光学特性から、基材上に形成される多層膜の残りの各層の厚みを再設定する再設定ステップを含む成膜方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基板が移動する系において当該基板上に蒸着される化合物の組成を制御する。
【解決手段】基板２上に第ＩＩＩＢ族元素（Ｙ）、第ＶＩＢ族元素（Ｚ）を蒸着する製膜ゾーン１１とこのゾーン１１で形成された薄膜に第ＩＢ族元素（Ｘ）、第ＶＩＢ族元素を蒸着する製膜ゾーン１２を経た薄膜に第ＩＩＩＢ族元素、第ＶＩＢ族元素を蒸着させる製膜ゾーン１３を有する製膜方法及びその装置において、製膜ゾーン１２にて検出したＸＹＺ₂が化学量論的組成比となるゾーン１２における基板２の位置に基づきゾーン１２の終点における薄膜の第ＩＢ族元素と第ＩＩＩＢ族元素の組成比の予測値を算出する。製膜ゾーン１２の終点におけるＸＹＺ₂化合物薄膜の組成比が予め設定されたゾーン１２の終点におけるＸＹＺ₂薄膜の第ＩＢ族元素と第ＩＩＩＢ族元素の組成比の目的値となるように前記予測値に基づきゾーン１２における第ＩＢ族元素の蒸着量を制御する。 （もっと読む）

【課題】チャンバ内で第１基板に対する基板の移送及びアライン工程の実行と同時に、第２基板に対する蒸着工程を行えるようにすることで、基板の移送及びアライン工程時に消耗する有機物質材料の損失を減らして材料効率を最大化し、工程のタックタイムを最小化できる有機物蒸着装置及び蒸着方法を提供する。
【解決手段】有機物蒸着装置は、内部が第１基板蒸着領域及び第２基板蒸着領域に区分されるチャンバと、前記第１又は第２基板蒸着領域内のから第１方向に移動して第１基板又は第２基板上に有機物粒子を噴射させる有機物蒸着源と、前記有機物蒸着源がそれぞれ第１又は第２基板蒸着領域に位置するように前記有機物蒸着源を第２方向に回転移動させる第２移動手段とを含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】成膜される膜の膜厚均一性に優れた成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】容器１３１と，容器１３１内を加熱するヒータ１３７と、容器１３１内に設けられ、液体状または固体状の成膜材料１３５がその内部に置かれ、気体状となった成膜材料を容器１３１内に供給する成膜材料供給部１３３と、容器１３１に設けられた開口部１３６と、被成膜体１１を開口部１３６の最外部よりも内側に位置させる回転ドラム１１０と、開口部１３６と連通する真空容器１０２と、真空容器１０２を排気する真空ポンプ１０３と、を備える。 （もっと読む）

【課題】より耐薬品性に優れたポリ尿素膜およびその成膜方法を提供する。
【解決手段】脂環式ポリアミンと脂環式ポリイソシアナートを蒸着重合法により重合してなるポリ尿素によって形成された被膜。２つの蒸発源２１Ａ、２１Ｂにそれぞれ注入された２種の原料モノマーＡ、Ｂを加熱し気化させて得られた原料ガスを混合して混合ガスとし、該混合ガスを真空チャンバ１２内へ導入し、被処理体１３の表面にて、前記２種の原料モノマーを蒸着重合させて、前記被処理体の表面にポリ尿素膜からなる被膜を形成するポリ尿素膜の成膜方法。 （もっと読む）

【課題】２以上の物質の組成比率を高精度に調整して、ＣＩＧＳ膜などの薄膜を形成する。
【解決手段】多源蒸着薄膜の組成制御方法では、チャンバ１１内に第１物質（Ｓｅ）を供給して加熱した状態において、同じ成膜工程においてチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，Ｉｎ）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された振動子２５の付着物による発振周波数の変化に基づいて検出することにより制御し、異なる成膜工程において多段的にチャンバ１１内へ供給される２以上の物質（Ｇａ，ＩｎとＣｕと）の組成比率を、チャンバ１１内に配設された計測板３３の付着物の膜厚を光の薄膜干渉により検出することにより制御する。 （もっと読む）

【課題】ＣＩＧＳなどの多元素膜を真空蒸着する際に多元素膜の組成を一定に制御する。
【解決手段】光透過性の第１の窓１０ａと第２の窓１０ｂを有する成膜チャンバー１０内における多元素膜の成膜対象の基板１４と多元素膜形成用の複数個の蒸着源（１３ａ〜１３ｄ）の間の空間に、第１の窓から所定の波長域の連続光を入射する光源１６と、第２の窓から開口部と基板の間の空間を通過した連続光を受光して２次元的に分光して、２次元画像信号を得る分光部１７と、２次元画像信号を画像処理して原子吸光スペクトルを得て多元素膜を構成する各元素の原子のレートをモニターする信号処理部１８を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、熱力学的平衡条件下では合成出来ない単相のＴ^*構造をもつＬａ₂ＣｕＯ₄を、薄膜合成手法をベースとする方法により製造する方法、及び同一組成式（Ｌａ₂ＣｕＯ₄）を有し、３種類の異なる結晶構造（Ｔ構造、Ｔ^*構造、Ｔ’構造）を持つ物質を、別々の基板上に一度の成膜過程で合成する方法を提供する。
【解決手段】超高真空中で構成元素を別々に供給し、適切に加熱した単結晶基板上に薄膜成長を行う（ＭＢＥ法）際に、ＬａＳｒＡｌＯ₄単結晶基板と、格子定数の異なる第１のＲＥＳｃＯ₃単結晶基板と、更に格子定数の異なる第２のＲＥＳｃＯ₃単結晶基板とを同一のＭＢＥ装置に装着し、基板温度５７５℃〜６００℃で、Ｌａ及びＣｕの原子線を供給してＬａ₂ＣｕＯ₄薄膜を成膜することにより、同一組成式Ｌａ₂ＣｕＯ₄を有しＴ、Ｔ^*、Ｔ’の３つの異なる結晶構造を持つ単結晶薄膜を、一度に成長させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、連続成膜設備において、化学量論的組成勾配を有する形で基板に成膜するための方法及び装置を提供する。
【解決手段】本発明では、それぞれ一つの蒸発器チューブを有する少なくとも二つの蒸発機器が配備され、両方の蒸発器チューブは、互いに独立して傾斜可能な形に構成されており、そうすることによって、両方の蒸気ビームの移行領域を勾配形態の要件に適合させることができる。 更に、基板に対する蒸発器チューブの間隔及び蒸発器チューブの互いの間隔を調整することができる。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】大型基板の量産工程にさらに適し、高精細のパターニングを可能にするためのものであり、被蒸着用基板を静電チャックに固定させるローディング部；真空に維持されるチャンバと、チャンバの内部に配され、基板と所定程度離隔されて静電チャックに固定された基板に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリを含む蒸着部；静電チャックから、蒸着が完了した基板を分離させるアンローディング部；基板が固定された静電チャックを、ローディング部、蒸着部及びアンローディング部に順次移動させる第１循環部；アンローディング部から、基板と分離された静電チャックを、ローディング部に送り戻す第２循環部；を含み、第１循環部は、蒸着部を通過するとき、チャンバ内部に貫通するように備わった薄膜蒸着装置、及びこれによって製造された有機発光表示装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板５００に薄膜を蒸着する薄膜蒸着アセンブリ１００を含む真空に維持される複数のチャンバにおいて、被蒸着用基板と接し、基板を支持する支持面を具備した本体と、本体に内蔵され、支持面に静電気力を生成させる電極と、電極に電気的に連結され、本体に備わった電池を有する静電チャック６００がチャンバを通過するように移動させるキャリアを含む薄膜蒸着装置、及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】基板上に膜厚が均一な薄膜を形成可能な有機ELデバイス製造装置及び成膜装置を提供する。
【解決手段】有機ＥＬデバイスの製造装置において、蒸発させた蒸着材料を線上に配置した複数のノズルを介して真空槽の内部に放出させる蒸発源の各ノズルからの有機ＥＬ材料の蒸発量を、蒸発量モニタ手段で各ノズルにモニタし、このモニタした各ノズルの有機ＥＬ材料の蒸発量の情報を用いて制御手段で蒸発源を制御するようにした。 （もっと読む）

【課題】高精細のパターニングを有する大型基板の量産工程に適した薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本体６０１に内蔵され、本体の互いに異なる位置に備わった複数の電源ホール６０３ａ，６０３ｂを含む基板５００を支持する静電チャック６００で、キャリアのチャンバ７３１通過時に電源ホールへの着脱自在の、電極に電力を提供する移動経路の上流の第１電源フィン６０４ａと他の電源ホールに着脱自在の下流に位置する第２電源フィン６０４ｂを含む薄膜蒸着装置及びこれを利用した有機発光表示装置の製造方法である。 （もっと読む）

高真空処理チャンバー、高真空処理チャンバーと連結されたトランスフォーマー型プラズマトロン、及び、トランスフォーマー型プラズマトロンに少なくとも１つのガスを導入するための、トランスフォーマー型プラズマトロンに連結された少なくとも１つのガス源とを具備するプラズマ発生装置であって、前記高真空処理チャンバーは少なくとも１つのエントリーポートを有し、前記トランスフォーマー型プラズマトロンは、交流電流を発生させるためのラジオ周波数電力源と、該ラジオ周波数電力源と接続された複数の導体と、前記ガスを閉じ込める閉ループ・ディスチャージチャンバーと、該閉ループ・ディスチャージチャンバーの周りに取り付けられ前記導体と接続された複数の透磁性の高い磁気鉄心と、該閉ループ・ディスチャージチャンバーの内側に沿って配置した複数の開口と、内側部分と外側部分とを連結する少なくとも２つの絶縁ガスケットを具備し、前記エントリーポートは、前記内側部分が前記高真空処理チャンバーに物理的に貫通するよう該内側部分を受け取るように構成され、前記導体は前記複数の透磁性の高い磁気鉄心の周りに１次巻き線を形成し、前記閉ループ・ディスチャージチャンバー中のガスは前記複数の透磁性の高い磁気鉄心の周りに２次巻き線を形成し、前記トランスフォーマー型プラズマトロンは、前記導体に前記交流電流が供給されたとき、それぞれのプラズマの少なくとも１つのガスに点火し、前記開口は、前記内側部分から該それぞれのプラズマを前記高真空処理チャンバーに放出することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ａｌ合金等の軟質被削材の切削加工において、すぐれた化学的安定性と潤滑性を発揮する表面被覆切削工具を提供すること。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金製工具基体表面に、 下部層として、平均層厚０．５〜３μmを有するＣｒとＡｌの複合窒化物（組成式：（Ｃｒ_１−ＸＡｌ_Ｘ）Ｎで表した場合、好ましくは、０．４≦Ｘ（原子比）≦０．７）層、上部層として、平均層厚０．５〜２μmを有するＦｅとＴｉの複合酸化物（組成式：Ｆｅ_２Ｔｉ_ＹＯ_２＋２Ｙで表した場合、好ましくは、０．８≦Ｙ（原子比）≦１．２）層からなる硬質被覆層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】大型基板の量産工程に容易に適用され、製造収率が向上した薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】複数個の蒸着アセンブリ１００、２００、３００を含み、蒸着アセンブリそれぞれは、蒸着物質を放射する蒸着源１１０と、蒸着源の一側に配され、第１方向に沿って複数個の蒸着源ノズル１２１が形成される蒸着源ノズル部と、蒸着源ノズル部と対向するように配され、第１方向に沿って複数個のパターニングスリットが形成されるパターニングスリット・シート１５１と、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間に、第１方向に沿って配され、蒸着源ノズル部とパターニングスリット・シートとの間の空間を複数個の蒸着空間に区画する複数枚の遮断板１３１を具備する遮断板アセンブリとを含み、該薄膜蒸着装置は、基板４００と所定距離離隔されるように形成され、薄膜蒸着装置と基板は、いずれか一側が他側に対して、相対的に移動自在に形成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、前記真空を破壊し前記のノズル及び周辺のクリーニング頻度を少なくし、稼働率の高いまたは均一な成膜ができる成膜装置及び成膜方法を提供するものである。
【解決手段】本発明は、蒸発源の内部に有する蒸発材料を蒸発(昇華)させ、前記蒸発源の複数のノズルから噴出させて基板に蒸着する前記蒸発源を移動させる蒸発源移動手段を具備する真空蒸着チャンバを有する成膜装置において、前記真空蒸着チャンバは、前記ノズルまたはノズル付近に析出した析出蒸発材料を除去するクリーニング部を具備するノズルクリーニング手段を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金属薄膜等からなる反射層を形成することなく反射率を高められ、しかも球状の結晶粒子によって反射層が形成されている場合よりも高い反射率を発揮できるシンチレータパネルおよび放射線イメージセンサを提供する。
【解決手段】シンチレータパネル１０は、入射した放射線を光に変換するシンチレータ層２が基板１上に形成されている。シンチレータ層２は、光を基板１側に反射させる反射層４を表面側に有し、反射層４は、シンチレータの結晶が螺旋状に積層した螺旋構造を有している。 （もっと読む）