第一のデバイスが提供される。そのデバイスはプリントヘッドを含む。更に、プリントヘッドは、第一のガス源に気密的に密閉された第一のノズルを含む。第一のノズルは、その第一のノズルの流れ方向に垂直な方向において０．５から５００マイクロメートルの最小寸法を有するアパーチャを有する。第一のノズルのアパーチャの最小寸法の５倍であるアパーチャから第一のノズル内への距離における流れ方向に垂直な最小寸法は、第一のノズルのアパーチャの最小寸法の少なくとも二倍である。
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【課題】ガラス基板等の薄い基板上に形成される薄膜の内部応力に起因する薄い基板の反りの発生を防止する成膜方法を提供すること。
【解決手段】大板１に成膜し、この成膜後の大板１を切断分割して複数の短冊の基板とする成膜方法であって、前記大板１とこの大板１を保持するための保持部材２とを前記大板１の少なくとも外周縁より内側に配置した接合部３で接合する接合工程と、この接合した前記大板１を前記保持部材２とともに成膜装置内に配置される被装着部材６の窓部６１に取り付ける取付工程と、前記窓部６１に取り付けた前記大板１に成膜する成膜工程と、この成膜した前記大板１を切断して前記短冊の基板に分割するとともに、前記短冊の基板と前記保持部材２とを分離する切断分割工程と、を実施する。 （もっと読む）

【課題】制御用膜厚センサーによる計測データを補正し、高精度な膜厚制御を行う。
【解決手段】基板３１に蒸着させる蒸着材料の蒸気を発生させる蒸着源１０と、蒸着材料の蒸気をモニターして蒸着源１０を温度制御するための、水晶振動子を用いた制御用膜厚センサー２０と、水晶振動子を用いた補正用膜厚センサー４０と、を設ける。不連続的に蒸着レートを計測する補正用膜厚センサー４０による補正値に基づいて、制御用膜厚センサー２０の計測データを補正することで、膜厚制御の精度を向上させる。 （もっと読む）

【課題】 高反射光学素子の性能を改善するための適切な高／低屈折率コーティング系を提供する。
【解決手段】 選択された基体およびこの基体上の式（Ｈ_oＬ_o）ⁱＨ_oの非晶質コーティングを有してなる光学素子であって、（Ｈ_oＬ_o）ⁱは、基体上のＨ_o層およびＬ_o層からなる複数ｉのコーティング周期の積層体であり、ｉは１４〜２０の範囲にあり、Ｈ_oは非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄であり、Ｌ_oは非晶質ＳｉＯ₂であり、それによって、基体上に非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄−ＳｉＯ₂コーティングを形成し、第１の周期のＨ_o層が基体に接触しており、ｉの周期の厚さが６００ｎｍから１２００ｎｍの範囲ある。 （もっと読む）

【課題】基板の表面状態の影響を低減して微細構造を所定の位置に形成でき、かつ基板に効率よく高周波を伝送できる微細構造物の蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】圧電体１１の表面に間隔を隔てて位置する少なくとも１対の電極１２，１３を有する表面弾性波素子１０と、表面弾性波素子の表面に２以上の物質Ａ，Ｂを真空蒸着可能な真空蒸着装置２０と、表面弾性波素子の電極間に高周波電圧を印加する高周波印加装置３０とを備え、前記高周波電圧の印加により表面弾性波素子の表面に表面弾性波の定在波を発生させた状態で、複数の薄膜層を構成し、定在波の特定位置に微細構造物を蒸着する。 （もっと読む）

【課題】チップやドリル、エンドミルなどの切削工具や鍛造金型や打ち抜きパンチなどの冶工具などに形成する硬度と潤滑性に優れた硬質皮膜およびその関連技術を提供する。
【解決手段】（Ａｌ_1-a-d-ｅＶ_aＭｏ_dＷ_ｅ）（Ｃ_1-XＮ_X）からなる硬質皮膜であって、０．２≦ａ≦０．７５、０＜ｄ＋ｅ≦０．３、０．３≦Ｘ≦１（式中、ａ、ｄ、ｅおよびＸは互いに独立して原子比を示す：なおｄおよびｅは、一方が０であってもよいが、両方が０になることはない）である組成を特徴とする硬質皮膜を、例えば、チャンバー１、アーク式蒸発源２、支持台３、バイアス電源４、ターゲット６、アーク電源７、磁界形成手段８、排気口１１、ガス供給口１２、被処理体ＷからなるＡＩＰ装置を用いて成膜する。 （もっと読む）

【課題】シャドー現象を抑制して有機ＥＬ表示装置の画素領域を高精細に形成することが可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置は、蒸着用の有機物を飛出する蒸着源と、被蒸着基板を搬送する搬送手段と、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板を覆うと共にその被蒸着基板と共に搬送されるように設けられ且つ蒸着用の開口部が形成された蒸着マスクと、を備え、該蒸着源からの有機物を、該搬送手段によって搬送される被蒸着基板に、該蒸着マスクの開口部を介して蒸着させるように構成されている。上記蒸着マスクは、開口部における上記搬送手段による搬送方向に直交する方向の蒸着源位置に対する内側内壁が、蒸着源側から被蒸着基板側に向かうマスク厚さ方向において、内側から外側に向かう方向に傾斜した傾斜面に形成されている。 （もっと読む）

【課題】被処理体の成膜材料を吹き出す蒸着ヘッドを成膜位置と収納位置との間にて移動させることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】６層連続成膜装置１０は、成膜材料が収納された複数の蒸着源１５５と、複数の蒸着源１５５に連結され、蒸着源１５５にて気化された成膜材料を搬送する複数の連結管１５０と、複数の連結管１５０にそれぞれ連結され、高さ方向にそれぞれ離隔しながら配設された複数の蒸着ヘッド１２５と、複数の蒸着ヘッド１２５から吹き出された成膜材料により、内部にて被処理体を連続成膜する処理室１００と、を備える。複数の蒸着ヘッド１２５は、複数の連結管１５０を搬送した成膜材料を基板Ｇに向けて吹き出すために収納位置と成膜位置との間を移動する。 （もっと読む）

【課題】基体５８上に有機薄膜を形成する方法を提供する。
【解決手段】基体５８上に有機薄膜を形成する方法であって、その方法は、複数の有機前駆物質（１４、４８）を気相で与え、前記複数の有機前駆物質（１４、４８）を大気圧未満で反応させる工程を有する。そのような方法により製造された薄膜及びそのような方法を実施するのに用いられる装置も含む。本方法は、有機発光デバイスの形成及び他のディスプレイ関連技術によく適している。 （もっと読む）

【課題】基板上に有機発光層等の薄膜を成膜する際に、この基板上の異物に対する薄膜の回り込みを改善することにより、電極間のリーク等の異物に起因する不具合を防止することができ、異物に起因する暗点欠陥等の欠陥が生じる虞の無い薄膜を成膜することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置１は、基板Ｗを水平に保持した状態で搬送し収納する真空容器２と、この真空容器２内に基板Ｗの成膜領域Ｗ１の下方かつ基板Ｗの搬送方向と直交する方向に配設され蒸着材料Ｍを収納するルツボ３、４とを備え、これらのルツボ３、４は、基板Ｗ上の成膜領域Ｗ１より外側の位置に、それぞれ配設されている。 （もっと読む）

【課題】材料容器から放出口まで連なる輸送管温度の影響が、輻射あるいは伝導により材料容器に及ぶことにより、材料容器への材料補充や交換のための装置停止期間が長時間に及び、装置の稼動効率が低下するのを防ぐ。
【解決手段】材料容器１０において気化した成膜材料を放出口２０へ輸送するための輸送管１４と材料容器１０の間は、材料容器１０を輸送管１４から取り外し交換可能とする連結部１３によって接続されている。輸送管１４を加熱する加熱手段を複数に分割し、連結部１３の近傍の輸送管１４の温度を残りの部位から独立して制御するための連結部加熱手段１６を設ける。材料容器交換等のために成膜を停止するときは、材料容器加熱手段１１及び連結部加熱手段１６を輸送管加熱手段１５より先に停止する。 （もっと読む）

【課題】生産性の低下を抑えつつ組成の異なる合金薄膜を形成可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１０は、外部より低圧な雰囲気に維持可能なチャンバ１２と、チャンバ１２内で基材１４を保持する保持部１６と、保持部１６で保持された基材１４に周面が対向するように設けられた回転可能な回転陰極１８であって、表面のターゲット材料をスパッタリングするための電力が供給される筒状の回転陰極１８と、回転陰極１８の表面に金属材料を供給可能な複数の補助陰極３２０，３３０と、を備える。複数の補助陰極３２０，３３０は、互いに異なる金属材料を回転陰極１８の表面に供給する。 （もっと読む）

【課題】複数のノズルに供給される複数の坩堝から蒸発した材料の量を正確に制御する堆積供給源を提供する。
【解決手段】堆積供給源１００であって、ａ）堆積材料を収容する複数の坩堝１０２と、ｂ）複数のコンダクタンスチャネルを備える本体１１２と、ｃ）坩堝とコンダクタンスチャネルと熱的な連通をするように配置されたヒータと、ｄ）複数の坩堝のうちの少なくとも１つに、部分的な熱分離を提供する熱シールドと、ｅ）複数のノズルからなり、該ノズルの各々の入力は該複数のコンダクタンスチャネルの出力に連結され、蒸発した堆積材料は、該複数の坩堝から、該コンダクタンスチャネルを通って該ノズルまで移送され、該蒸発した堆積材料は該ノズルから排出され堆積フラックスを形成する。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高い精度で制御できるとともに、蒸着パターンが異なる蒸着を連続して行
なう場合でも蒸着用マスクの枚数が少なく済むインライン式蒸着装置、マスク蒸着方法、
および有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】インライン式蒸着装置１００において、被処理基板２０の搬送経路に沿って
、蒸着源１２０および蒸着用マスク１３１、１３２を備えた第１蒸着エリア１１０と、蒸
着源２２０および蒸着用マスク２３１、２３２を備えた第２蒸着エリア２１０と設けてお
き、被処理基板２０を第１蒸着エリア１１０および第２蒸着エリア２１０において蒸着用
マスク１３１、１３２、２３１、２３２と重なる位置で一時停止させながら被処理基板２
０を搬送経路に沿って搬送する。 （もっと読む）

【課題】プラズマアシスト源を用いたイオンプレーティング法による成膜を行いながら、第３元素を膜中に添加することができる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜空間に所定ガスのプラズマ105を生成し、成膜材料12の蒸気をプラズマ105を通過させた後、基板14上に堆積させることにより圧電膜を成膜する。圧電膜に添加すべき元素を含む部材16をプラズマ105から所定の距離に配置し、部材16に所定のバイアス電圧を印加することにより。プラズマ105により部材16をスパッタリングし、スパッタ蒸発した元素を圧電膜に添加する。 （もっと読む）

【課題】 基板（７）上に金属合金被膜を蒸着するための真空蒸着設備を提供する。
【解決手段】 この設備は、閉鎖容器の形態の真空室（６）を含む蒸気発生器−混合器を備え、外部環境に対してその中に真空状態を確保するための手段を備え、かつ外部環境に対してなお本質的に封止されていながら、基板（７）の入口及び出口のための手段を備えており、前記閉鎖容器が、基板（７）の表面に向けてかつそれに垂直に音速で金属合金蒸気のジェットを作るように構成された、エジェクター（３）と称される蒸着ヘッドを含み、前記エジェクター（３）が別個の混合装置（１４）と封止連通され、混合装置（１４）が液体形態の異なる金属Ｍ１とＭ２を含む少なくとも二つのるつぼ（１１，１２）にそれぞれ上流でそれ自身連結されており、各るつぼ（１１，１２）が混合器（１４）にそれ自身のパイプ（４，４′）により連結されている。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着法を採用し、安定した膜厚分布が得られるインライン蒸着装置、有機ＥＬ装置の製造装置、有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例のインライン蒸着装置としての有機蒸着部は、減圧可能なチャンバーとしての有機蒸着室１２５と、有機蒸着室１２５内において基板Ｗを所定の搬送方向に搬送する基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃと、基板Ｗの搬送方向に複数の蒸着室１２５ｅとを有し、それぞれの蒸着室１２５ｅにおいて、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの数を３本とするとき、３＋１個の蒸着源１１０を搬送方向に直交する方向において、基板搬送経路１２５ａ，１２５ｂ，１２５ｃの直下を避けた位置に等間隔に設けた。 （もっと読む）

基板上に薄膜を堆積するための方法及びシステムは、基板上方に位置付けた蒸気供給流源からの蒸発可能材料を導入することを含む。蒸発可能材料は蒸発され、蒸気供給流源から蒸気供給流として基板から離れる方向に向けられる。蒸気供給流は、リディレクタから基板の方へ向きなおされて、基板上に薄膜として堆積される。 （もっと読む）

【課題】共蒸着を行う場合、蒸着材料を収納する容器を取り囲むヒータまでも傾けることになるため、容器同士の間隔が大きくなってしまい、蒸着材料を均一に混合することが困難になることに鑑み、容器同士の間隔を狭め、均一に混合しながら蒸着することを課題とする。
【解決手段】各蒸着材料の蒸発中心が被蒸着物の一点に合うように、容器が有する開口を調節する。図１０（Ｄ）に示す共蒸着においては、開口８１０ａと開口８１０ｂの両方を向かい合わせる。また、図１０（Ｅ）に示す共蒸着においては、開口８１０ｃは垂直方向に蒸発するような上部パーツを使用し、その方向に合わせて傾いた開口８１０ｄを有する上部パーツを使用して蒸発させる。 （もっと読む）

【課題】ＮＤフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム３５上にＮＤ膜を形成したＮＤフィルタ２１の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面２１ａの切断方向が透明樹脂フィルム３５の主延伸方向と略直交方向になるように、ＮＤフィルタ２１を切断加工する。 （もっと読む）