【課題】蒸着材料が劣化しにくい真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の真空蒸着装置１は、真空槽１１とボックス２１とを有しており、真空槽１１はボックス２１に通路１４を介して接続されている。交換用の蒸着容器３１ｂは内部空間が蓋３３で密閉されている。蓋３３は、蒸着容器３１ｂをボックス２１内部に搬入し、該内部空間が不活性ガスで置換されてから開けられるので、有機材料３２が劣化しない。蒸着容器３１ｂはボックス２１に挿入されたグローブ３６で把持され、真空槽１１内部を移動する。 （もっと読む）

本発明は蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に係り、さらに詳しくは、有機物質が大容量で充填されて変質なしに保管されると共に、所望の量だけ有機物質を気化させて基板に供給することのできる蒸着物質供給装置およびこれを備えた基板処理装置に関する。
本発明に係る蒸着物質供給装置は、内部に原料物質が充填される貯留空間および原料物質が気化される気化空間が連通状に形成される坩堝と、前記坩堝に充填された原料物質を貯留空間から気化空間に連続的に又は周期的に搬送する搬送ユニットと、前記坩堝に形成される気化空間の外側に配設されて原料物質を気化させる熱を供給する発熱ユニットと、を備える。また、本発明に係る蒸着物質供給装置は、前記坩堝に形成される貯留空間の外側に配設されて前記貯留空間に貯留された原料物質の熱変質を防止する冷却ユニットをさらに備える。 （もっと読む）

粒子材料を計量し、気化するための装置が、計量デバイスであって、粒子材料を受け取るための貯蔵室と、内部容積を有し、第１の開口部２５４及び第２の開口部２００を有するハウジングと、内部容積内に配置され、滑らかな表面と、外周溝２７５とを有する回転可能シャフト２７０と、貯蔵室内に配置され、粒子材料を流動化して該粒子材料を貯蔵室から外周溝内に移送するために回転可能シャフトと協働する、複数の棒２９５を有する回転アジテーター２９０とを備え、粒子材料が溝によって移送されるように協働し、スクレーパー２８０が、その中に保持される粒子材料を取り除き、計量された量の粒子材料を第２の開口部を通して送達するように溝と協働し、回転可能シャフト及びスクレーパーは粒子材料を第２の開口部において流動化するように協働する、計量デバイスと、受け取った粒子材料をフラッシュ蒸発させるフラッシュ蒸発器とを備える。
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【課題】ルツボの有機材料への水分の混入を抑えるとともに、成膜時の成膜レートや圧力等の安定性を向上させる。
【解決手段】成膜室２の前段に設けられた材料前処理室１において、ルツボ４にて昇華精製された有機材料を前処理ヒーター６によって加熱し、水分量を低減した環境で溶融して固化させる。この材料前処理工程で、ルツボ４の有機材料から水分を除去するとともに、有機材料の材料充填率を高めて、成膜室２における成膜の安定性を向上させる。 （もっと読む）

【課題】同軸型アーク蒸着源のメンテナンスに要するコストを低減する技術を提供する。
【解決手段】本発明の蒸着源５は、蒸着材料１１と絶縁碍子１４とを有し、蒸着材料１１は、蒸発により主に消耗する部分である主蒸発部分１１ａと、消耗が少ない従蒸発部分１１ｂとに分離でき、絶縁碍子１４は、主として消耗するつば状碍子１４ｂと、消耗が少ない内筒碍子１４ａ等とに分離できるように構成されている。このため、蒸着材料１１や絶縁碍子１４が消耗して交換が必要になった場合でも、主として消耗する主蒸発部分１１ａやつば状碍子１４ｂのみを交換すればよいので、交換のたびごとに、消耗が少ない部分を含めて蒸着材料や絶縁碍子の全体を交換していた従来に比して、コストを低減することができる。 （もっと読む）

有機材料を気化させるための蒸発器について記載する。その蒸発器は、被覆すべき基板に向けられるように構成されるノズルを有する第１のチャンバーと、有機材料を気化させるための少なくとも１つの第２のチャンバーと、気化有機材料を少なくとも１つの第２のチャンバーから第１のチャンバーへ案内するための少なくとも１つの蒸気チャネルとを包含し、第１のチャンバーは、第１の仮想昇華表面に対応するノズルに気化有機材料を提供するように構成され、少なくとも１つの第２のチャンバーは、操作の間は第２の昇華表面積を提供するように構成され、第２の昇華表面積は、第１の仮想昇華表面の少なくとも７０パーセントに相当する。
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【課題】 固まり状の粉末を排出させない粉末供給装置を提供する。
【解決手段】 粉末供給装置は、回転可能な攪拌羽根８と粉末落下孔７Ｓが備えられた粉末収容室７、粉末落下孔７Ｓに対向する箇所を含む円周上に溝１１´が設けられた粉末供給盤１２´、粉末落下孔７Ｓに対向する箇所以外の溝内の箇所にその先端部が挿入された粉末吸引パイプ２３を備えており、粉末吸引パイプ２３の先端部が挿入された溝１１´内の箇所の少なくとも一部にキャリアガスが吹き付けられる様に成してある。 （もっと読む）

【課題】良好な保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】成膜装置が備えるハース２０３への成膜材料２０２の供給がシューター２１２を通じて行われる成膜装置であって、シューター２１２の先端とハース２０３に存在している成膜材料２０２の表面とのクリアランスＨが、成膜材料の最大長Ｌの３倍以上である成膜装置である。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームが走査された蒸発源から、基板に向かって成膜を行う薄膜の製造方法において、長時間安定成膜に有効な、棒状の供給材料を先端より順次溶解して供給する供給方法を長時間安定に実現する。
【解決手段】 蒸発源の上方に棒状供給材料３２を差し向け、前記棒状供給材料３２に前記電子ビームを照射することにより前記蒸発源の材料の溶解供給を行うものであって、かつ、前記棒状供給材料３２を前記蒸発源の両側に配し、前記電子ビームの走査範囲は、前記棒状供給材料上および前期蒸発源上であって、前記蒸発源上の電子ビームの走査範囲は一定であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、その形状が、直径（φ）と厚み（ｔ）との比（ｔ／φ）が、０．５以上の円柱形状である成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好なプラズマディスプレイパネルの保護層の形成を可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルの実現を可能とする成膜材料（蒸着材料）を提供することを目的とするものである。
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、六面体形状の成膜材料と、その他の形状の成膜材料とが混合されて構成された成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマディスプレイパネルの保護層を良好に形成することを可能とし、もって良好な画像表示を行うプラズマディスプレイパネルを実現することを可能とする成膜材料（蒸着材料）の提供を目的とするものである。
【解決手段】この目的を実現するために本発明は、成膜装置への供給がシューター（材料補給路）を通じて行われる成膜材料であって、その形状が、主面が楕円形状で、厚み（ｔ）を有する楕円柱形状である成膜材料２０２である。 （もっと読む）

【課題】例えば銅などの高融点材料を含む原料粉体を加熱して得られる気体を用いてウェハにこの銅膜を成膜するにあたって、原料粉体中の化合物中に含まれる有機物などの不純物が銅膜に取り込まれることを抑えると共に、簡便に固体状の原料粉体から気体が得られるようにして原料粉体のコストを抑えること。
【解決手段】固体状の原料粉体を貯留する原料貯留部から粉体導入路を介してキャリアガスと共にこの原料粉体を処理容器へと供給し、この粉体導入路に介設された粉体気化部において原料粉体をプラズマ化して気体状の原料を得る。 （もっと読む）

【課題】転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができ、転写中に材料等の劣化が起きにくい方法を用いることにより、高精細で発光特性が高く、長寿命である発光装置の作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】第１の基板の材料層が形成された一方の面から所定の条件式を満たす第１の光を照射することにより、材料層をパターン形成し、次いで第１の基板の他方の面から所定の条件式を満たす第２の光を照射することにより、パターン形成した材料層を被成膜基板である第２の基板上に蒸着させる発光装置の作製方法である。 （もっと読む）

【要 約】
【課題】高品質な有機薄膜を形成できる技術を提供する。
【解決手段】蒸発槽４１の内部に所定量の有機材料を供給し、蒸発槽４１を密閉して有機材料蒸気を放出させる。蒸発槽４１内が設定圧力まで上昇した後、放出口４３を開け、蒸発槽４１から蒸気放出装置１４に有機材料蒸気を移動させ、真空槽１１内に放出させる。有機材料が二種類以上の有機化合物の混合物であっても、大きな圧力差で移動するから、移動速度の相違による有機材料蒸気の組成変化はなく、膜厚方向で均一な有機薄膜を形成することができる。溶剤に有機化合物が溶解又は分散された液体状の有機材料を用いる場合、蒸発槽４１内で有機化合物の蒸気を発生させる前に、溶剤を蒸発除去しておくとよい。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置において、蒸着材料の供給及び回収動作を安定させる。
【解決手段】真空槽、蒸着材料を加熱蒸発させる蒸発源、蒸着材料を収容する容器、容器を複数積載して収納する収納器、および、容器を収納器と蒸発源の間を移動させる移載手段を備える真空装置であって、収納器を少なくとも棒材からなる枠組みで構成した。 （もっと読む）

【課題】高融点の金属材料または非昇華性材料からなる蒸着性材料からなる薄膜を被成膜体に対して安定して形成することが可能な真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空成膜装置１０は、被成膜体１３が配置された真空チャンバー１２と、蒸着性材料２０を収納するるつぼ１９と、プラズマビーム２２をるつぼ１９内の蒸着性材料２０に向けて照射する圧力勾配型プラズマガン１１とを備えている。るつぼ１９に、蒸着性材料２０を１５０℃乃至２０００℃の範囲内で加熱できる加熱機構４０が設けられ、るつぼ１９近傍に、るつぼ１９内に蒸着性材料２０を供給する材料供給装置５０が設られている。プラズマビーム２２を蒸着性材料２０の表面に導き、真空チャンバー１２内の被成膜体１３上に薄膜２０ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】均一な膜を成膜することを目的とする。また、成膜に要する時間を短縮し、生産性を向上させることを目的とする。
【解決手段】一方の面に、光吸収層と、光吸収層に接して形成された材料層と、を有する第１の基板を用い、第１の基板の材料層が形成された面と、第２の基板の被成膜面とを対向させ、第１の基板の他方の面側から周波数１０ＭＨｚ以上、パルス幅１００ｆｓ以上１０ｎｓ以下のレーザ光を照射し、光吸収層と重なる位置にある材料層の一部を選択的に加熱し、材料層の一部を第２の基板の被成膜面に成膜する成膜方法において、式（１）または式（２）を満たす条件で成膜する。


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本発明は、蒸気分配器（３）によって基板（４）をコーティングするための装置に関する。この蒸気分配器（３）は、入口（５）を介して蒸発器るつぼ（７）と接続されている。少なくとも１つのバルブ（１３）がるつぼ（７）と入口（５）の間に配置されている。蒸発器るつぼ（７）は、真空バルブ（１１）によって排気又は注入可能なチャンバ（１２）内に位置している。
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【課題】カソード電極とトリガ電極との間の短絡を効果的に抑止でき、メンテナンスフリーの状態における使用期間をより長期間とする（または使用回数をより多くする）ことのできるアーク蒸着装置を提供する。
【解決手段】カソード電極１と、これを包囲する絶縁ガイシ４と、この外周に設けられたＣリング３と、この外周に設けられたトリガ電極２と、が一つのユニット体を形成して筒状のアノード電極６内に収容され、これが減圧容器８内に収容されてできるアーク蒸着源１０を具備するアーク蒸着装置１００であり、カソード電極１を構成する蒸着材料の消耗に応じて該カソード電極１を絶縁ガイシ４に対して相対的に移動させる第１の送り出し手段９Ａと、少なくとも絶縁ガイシ４をＣリング３の端部から突出させる第２の送り出し手段９Ｂとを備え、Ｃリング３の切欠き３１はトリガ電極２側からカソード電極１側に向ってその切欠き幅が広くなっている。 （もっと読む）