【課題】垂直に案内される基板を被覆するためのものであって、自動で連続してるつぼに材料を供給するコンパクトなベーパライザ装置を提供する。
【解決手段】本装置は、キャリアプレート３の一の側部に着脱自在に広げられるワイヤ供給ハウジング２と、るつぼ４０の上方に配置され、前記キャリヤプレート３の他の側部に着脱自在に広げられるリニアベーパライザ１とを有する。このベーパライザ装置の全部品は、キャリア・プレートだけに取り付けられているので、クリーンルーム内で迅速な取り付け又は取り外しが、粒子を生成することなく可能である。それに加えて、螺旋状加熱素子は、保護管に囲まれているので、蒸発される材料と接触することはない。 （もっと読む）

【課題】蒸着原料を無駄無く使うことができると共に、蒸発量の制御を容易に行うことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置１は、減圧可能に構成されたチャンバー２と、チャンバー２内に被蒸着体Ｋを保持するホルダ３と、蒸着原料Ｍを加熱蒸発させる加熱手段４１と、蒸着原料Ｍを加熱手段４１に供給する原料供給手段７とを備え、蒸着原料Ｍを減圧下で加熱蒸発させ、蒸着原料Ｍによる蒸着膜を被蒸着体Ｋの被蒸着面Ｋ１に形成する蒸着装置１において、原料供給手段７は、蒸着原料Ｍを１マイクロリットル以下の体積で加熱手段４１に供給するように構成されたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】リチウム金属等のワイヤを蒸発源として用いつつ、成膜を円滑に行いうる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、リチウム金属等のワイヤ２０が巻き付けられている供給ロール２１と、ボート２７等を有する気体粒子生成部１３と、ワイヤ２０を供給ロール２１から気体粒子生成部１３まで送るための送りロール２４，２５と、ガイドロール２２，２３と、成膜部１４とを備えている。少なくとも送りロール２４，２５の表面部が高分子樹脂を主成分とする材料によって構成されている。 （もっと読む）

【課題】水蒸気により保護膜の膜質の改善を十分に図るとともに、保護膜の電子放出性能をプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）基板全面で均一にするＰＤＰの製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】成膜装置２００には、金属製ハース２０５内のＭｇＯペレット２０４が加熱、蒸発により消費されるため、所定水分量のＭｇＯペレット２０４を補給するための材料補給系を備えている。材料補給系は、ＭｇＯペレット２０４を所定水分量に管理する密閉容器である材料補給チャンバ２１９、加熱機能を備えた材料容器２２０、およびＭｇＯペレット２０４を金属製ハース２０５へ導く材料補給路２２２から構成される。 （もっと読む）

【課題】 動作時間が長く且つ速度測定により瞬時の制御が可能である有機蒸発器の提供。
【解決手段】 コーティング速度で基板に有機蒸気を適用するための有機蒸発器は、少なくとも１つのノズル出口を有する分配管と、有機蒸気の少なくとも１つの特徴的性質について測定データを得るための測定デバイスと、を備えている。 （もっと読む）

【課題】大型基板に適応可能であり、膜厚の均一な蒸着膜を得ることが可能な蒸着装置およびこれに用いる蒸着源を提供する。
【解決手段】ライン状に配列された複数の開口１０Ａから略水平方向に蒸着物質ｍを供給する蒸着源１０であって、蒸着源１０は、複数の開口１０Ａが設けられた供給端１１と、蒸着物質ｍを貯留し、蒸発させる原料供給源１２と、原料供給源１２と供給端１１とを接続し、供給端１１へ蒸発した蒸着物質ｍを搬送する供給管１３とを備えており、供給管１３は、少なくとも供給端１１側が複数に分岐された状態で供給端１１に接続されるとともに、分岐された複数の供給管１３ａには流量制御手段１７がそれぞれ設けられていることを特徴とする蒸着源とこれを備えた蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】長期間一定条件でターゲットを蒸散可能にすること。
【解決手段】蒸散室（３）内に設定された蒸散領域（３ａ）に、被膜原料が含まれる被膜原料溶液により構成された液体ターゲット（Ｔ）を供給する液体ターゲット供給装置（６）と、前記蒸散領域（３ａ）に前記被膜原料を蒸散させるレーザー光（Ｌ）を照射するレーザー光源装置（９）と、前記被膜原料を組成に含む被膜が形成される基板（１２）を前記蒸散領域（３ａ）の近傍に支持する基板支持部材（１１ｂ）と、を備えたことを特徴とする被膜生成装置（１）。 （もっと読む）

【課題】電磁波シールド特性に優れたＣｕを高い生産性で成膜することが可能な真空メッキ法を用いて作製することができ、ウイスカが発生しない保護膜を備え、導電性、シールド特性、密着性および耐食性に優れ、かつ、コストおよび生産性においても優れた電磁波シールド膜を提供する。
【解決手段】複数のプラスチック成型品をロット毎に処理し、各ロットにおいて、真空メッキ法で、成型品の表面にＣｕ膜からなる第１層を形成し、得られたＣｕ膜の表面にモネル合金膜からなる第２層を形成するに際し、第２ロット以降、第１ロットの成膜における溶融固化により得られたモネル合金インゴットを繰り返し使用し、ロット毎に、残存するインゴットの質量の４質量％〜１５質量％にあたるＣｕを添加したうえで、成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】真空雰囲気を解除することなく、蒸着材料の取替え作業が可能な補助真空チャンバを備える有機発光素子の蒸着装置及び蒸着材料の充填方法を提供する。
【解決手段】基板の一領域に蒸着材料を蒸着する工程を行う第１チャンバと、前記第１チャンバと接続され前記蒸着材料を充填する工程を行う第２チャンバと、前記第１チャンバ内に位置する第１ガイドレールと、前記第２チャンバ内に位置する第２ガイドレールと、前記第１ガイドレールと前記第２ガイドレールに沿って移動する移動装置と、を備える。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュを防止し、複雑な機構を用いることなく安定した蒸着を連続して行うことができる蒸着膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板３上に蒸着膜を形成する蒸着膜の製造方法であって、坩堝７に蒸着材料６を供給する第１の工程と、坩堝７に供給された蒸着材料６に、溶解用の第１の電子ビームを直線状に照射することにより蒸着材料を溶解する第２の工程と、加熱溶解した蒸着材料６に、蒸発用の第２の電子ビームを直線状に照射することにより蒸着材料６を蒸発する第３の工程と、蒸発した蒸着材料６を基板３上に供給する第４の工程と、を含み、第１の電子ビームの照射領域１１ａと第２の電子ビームの照射領域１１ｂとが互いに略並行であること、を特徴とする。これにより、急激な温度変化によるスプラッシュの発生を防止し、複雑な機構を用いることなく安定した蒸着を連続して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ＵＮＣＤを形成する技術を提供する。
【解決手段】グラファイトで構成されたカソード電極１３２とトリガ電極１３４の間にトリガ放電を発生させ、アノード電極１３１とカソード電極１３２の間にアーク放電を誘起させ、カーボン蒸気のイオンを真空槽１０内に放出させる。真空槽１０内は水素ガス雰囲気にしておき、電荷を有するカーボン蒸気を成膜対象物２０に到達させる。成膜対象物２０の表面にＳｉＣ膜２２を形成しておくと、ＵＮＣＤが成長する。 （もっと読む）

【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる放射線像変換パネルの製造方法および放射線像変換パネル製造装置を提供する。
【解決手段】閉塞された真空チャンバ１２内で、気相堆積法により蛍光体層を形成する製造方法であって、真空チャンバ１２内に基板７０をセットする工程と、基板７０がセットされた状態で基板の表面７０ｄを除塵する工程と、蛍光体層を基板上に形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】蒸発の起動停止および蒸発量を容易に調整できる。
【解決手段】蒸発容器２１内で材料収納部２０Ａに収容された材料を加熱溶融する第１加熱装置２２と、下部を溶融材料Ａに浸漬させて外周部材２３ａに同伴させ上方に搬送する円筒状の搬送ドラム２３と、搬送ドラム２３に同伴させて蒸発部２０Ｂに搬送された溶融材料Ａを加熱して蒸発させる第２加熱装置２４と、第２加熱装置２４の加熱温度を制御する蒸発制御装置とを具備した。 （もっと読む）

【課題】 真空蒸着装置のホットプレート型蒸発源に関し、蒸発材料中に含まれた余分な成分、分解物、溶剤、ガス等が被蒸着基板に蒸着されるのを防止する。また、蒸発材料が蒸発源に固着し蒸発レートが変化するのを防止する。
【解決手段】 真空容器７０内に略階段状に配置した複数の傾斜板３０、４０、５０と、前記各傾斜板を加熱する加熱手段９１、９２、９３と、前記最上段に位置する傾斜板３０の上端側近傍に配設した蒸発材料供給ノズル１０とからなり、蒸発材料８１が前記各傾斜板の上面を流動する間に蒸発材料８１を蒸発させる構成。また、予熱部廃棄部、メイン蒸発部、老廃物廃棄部の３つのゾーンと加熱手段とを備えたフード２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃを傾斜板の上方に配設した。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム物理蒸着装置における溶融池とコーティングされる部品との距離を自動制御により一定に保ち、コーティングのばらつきを減少させる装置を提供する。
【解決手段】 電子ビーム物理蒸着装置１０のチャンバ１２内に配置された部品Ｐが回転シャフト１６によって固定され、セラミックインゴットＣからの気化物質Ｖが蒸着される。装置１０は、インゴットＣを受けるように構成されたるつぼ１８と、るつぼ内にインゴットＣを供給するドライブと、インゴットＣを融解し気化させる電子ビームガン３０を含む。温度センサ３２がるつぼ１８内の溶融池Ｍの位置を監視するとともに、制御装置３４が検知された溶融池Ｍの位置に対応してインゴットＣの供給速度を自動調節し、溶融池の高さを一定に保つことにより部品に適用されるコーティングのばらつきを減少させる。 （もっと読む）

【課題】 複雑な蒸着パターンを形成可能で、蒸着パターンの精度を向上できる蒸着パターン形成方法及び蒸着パターン形成装置を実現する。
【解決手段】 蒸着パターン形成装置１０は、蒸着源基板１４の上面に収容部材１１を取り付けて構成される。蒸着源基板１４は、収容部材１１を加熱するためのヒータ１２を支持基板１３の上面に取り付けて構成される。収容部材１１の上面１１ｂには、半導体基板に形成する所定の蒸着パターンと対応した形状に開口した開口面１１ｄが形成されている。半導体基板３１の基板面３１ａを、収容部１１ａに金属ナノ粒子２１が収容された収容部材１１の開口面１１ｄに対向させて配置し、収容部材１１をヒータ１２により加熱すると、金属ナノ粒子２１は収容部１１ａの内部で蒸発し、開口面１１ｄを通じて基板面３１ａに蒸着され、所定の蒸着パターン３２が形成される。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性に優れた薄膜を蒸着法によって形成可能とする。
【解決手段】本発明の蒸発源ＥＢは、蒸着装置において蒸発材料ＥＭを蒸発させるのに使用する蒸発源であって、前記蒸発材料ＥＭが供給されるべき凹部ＲＳが上面に設けられると共に前記上面と下面とを連絡する貫通孔ＴＨが前記凹部ＲＳと隣り合って設けられた抵抗発熱体ＨＲを含んだことを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、気化物質を母材に蒸着する方法、特に、半導体物質をドープするための方法に関する。上記方法によると、一定量の気化物質（２）の電荷がエンベロープ（３）を用いて気密的に密封されている気化電荷（vaporizing charge）（１）が、気化チャンバーに導入される。そして、気化物質が、その後気化チャンバー中で気化し、母材に蒸着されるように、エンベロープ（３）は加熱及び／または減圧により開けられる。本発明は、さらに、上述の気化電荷（１）の製造方法および気化電荷（１）に関する。
（もっと読む）

【課題】食品、日用品、医薬品などの包装分野において、また電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工が施されてもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に、好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の表面に、一般式ＡｌＯ_x（但し、式中のｘ値は０〜１．７）で表され、さらに層表面から基材層１に向かう深さ方向にかけてｘ値が増加しており、さらに層最表面のｘ値が１．２以下である厚さ５〜３００ｎｍの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、重合しうるアクリル系のモノマーからなる又はこのモノマーとオリゴマーとの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を、紫外線又は電子線を照射して硬化させてなる、厚さ０．０２〜１０μｍのガスバリア性被膜層３とを、真空中において順次積層したことを特徴とする。 （もっと読む）

粒子状材料を気化させて表面に堆積させることによって層を形成する方法は、シールされたインターフェイスフィッティングを有する補充容器の中に粒子状材料を供給するステップと；その補充容器を、少なくとも1つの供給用開口部を画定する供給ホッパーに取り付け、インターフェイスフィッティングの位置でシールを破るステップと；補充容器から供給ホッパーに粒子状材料を移動させるステップと；供給用開口部を通過したその粒子状材料を供給路に沿って気化ゾーンまで移動させ、その気化ゾーンにおいてその粒子状材料の少なくとも1つの成分を気化させた後、表面に供給して層を形成するステップを含んでいる。
（もっと読む）