【課題】面型蒸着源及びその蒸着メッキ法とシステムの提供。
【解決手段】本発明の面型蒸着源及びその蒸着法とシステムは、少なくとも一つの蒸着材料を蒸着源基板の内の一面に被覆して面型蒸着源とする。前記蒸着材料の分布エリアは、蒸着材料の気化後に蒸着対象基材を包含するエリアとなる。加熱装置を蒸着源基板を加熱可能なエリア内に配置し、加熱装置が面型蒸着源に対して熱源を提供することにより、面型蒸着源は固体から気体へと変換し、蒸着対象基材の表面に拡散する。蒸気を原子或いは分子状態で段階的制御を行う手段に基づき、蒸着対象基材の表面にて核生成、凝結、及び核生成、成長させるメカニズムにより薄膜を形成するため、伝統的な塗布及びインクジェット技術では得られなかった均等性、ナノサイズのコントロール特性等を備える特殊構造及び機能性を有する薄膜を獲得できる。 （もっと読む）

【課題】 希土類系永久磁石などの被処理物の表面に蒸着形成される金属被膜の緻密性を向上させる方法を提供すること。
【解決手段】 蒸着槽内において加熱した溶融蒸発部に蒸着制御ガスを含有するワイヤー状金属蒸着材料を連続供給しながら蒸発させることで、蒸着槽内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で被処理物の表面に金属被膜を蒸着形成する際、蒸着槽内全圧に対する希ガス分圧の割合を０．２〜０．８に維持して蒸着処理を行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高純度な有機化合物層を形成するための蒸着源を提供する。
【解決手段】固相の有機化合物の入った複数のるつぼを連結し、有機化合物を加熱し、融解帯を発生させ、融解帯を移動させることで不純物を移動させ、複数のるつぼのうち、精製された有機化合物の入ったるつぼを用いる有機化合物の精製方法。 （もっと読む）

【課題】成膜装置の稼働率と被処理物の処理効率を向上させることができるハースライナーカバー交換機構を提供する。
【解決手段】小径孔１６Ｂと大径孔１６Ａとで構成された鍵穴状の穴１６が形成された鍔部１０Ｂを有し成膜装置のハース１４の上部に設けられるハースライナーカバー１０を交換するハースライナーカバー交換機構であって、垂直方向に移動可能となり、かつ垂直方向に延びる軸３０の軸回りに回転可能になるハンド３６を有し、ハンド３６は穴１６に引っ掛けてハースライナーカバー１０を保持する保持部３８を備え、ハンド３６が軸の軸回りに回転するときの回転方向の接線は小径孔１６Ｂから大径孔１６Ａに延びる穴１６の中心線と一致し、保持部３８が穴１６に挿入された状態でハンド３６が軸３０の軸回りに回転することにより保持部３８と穴１６が係合する。 （もっと読む）

本発明は、原料物質を収容する気化ルツボと、前記気化ルツボを加熱して前記原料物質を気化させる気化加熱部と、前記気化ルツボの温度を測定する温度測定部と、前記気化加熱部の印加電源を測定する電源測定部及び前記温度測定部の温度変化値及び前記電源測定部の電源変化値のうちのいずれか一方に基づいて、原料物質の気化量を調節する制御部を備える気化装置及びこの制御方法を提供する。このように、本発明は、原料物質の気化時に温度変化値または電源変化値に基づいて気化量を測定する非接触／電子方式を用いる。従って、接触方式とは異なり、気化量測定手段が原料ガスに直接的に接触しないことから、種々の原料が供給可能であり、しかも、大容量の原料を長時間に亘って供給しても性能が低下することがない。なお、電子方式により気化量を極めて精度よく測定することができるので、より精度よい原料の供給が可能となる。 （もっと読む）

【課題】ハースやハースの材料受け部上の成膜材料量を常に一定として、安定した蒸着が可能な成膜材料供給装置を提供する。
【解決手段】回転する材料受け部３３を有するハース２３に成膜材料２２を供給する成膜材料供給装置であって、内壁面に螺旋溝を有する回転体を備えた材料フィーダ４３と、材料フィーダ４３から材料受け部３３に成膜材料２２を滑落させて供給するシューター４５と、材料受け部３３に残留する成膜材料２２の量を検出する検出部３４と、検出部３４からの出力情報に基づいて回転体の回転数を制御する回転制御部３５とを有している。 （もっと読む）

【課題】良好な保護膜の形成を可能とし、保護膜成膜時にスプラッシュ発生がなく画素表示欠陥のないプラズマディスプレイパネルを実現する成膜材料供給装置を提供する。
【解決手段】ハースに成膜材料２２を供給する成膜材料供給装置であって、フィーダ４３と、フィーダ４３から供給された成膜材料２２をハースに滑落させるシューター６０とを備え、シューター６０に、所定寸法以上の成膜材料２２のみをハースに供給する成膜材料選択部となる開口部６３を設けている。 （もっと読む）

【課題】支持基板上に形成した昇華温度が異なる２種以上の成膜材料を含む材料層を、加熱処理により被成膜基板上に成膜する方法において、昇華温度の異なる２種以上の成膜材料が濃度勾配を生じることなく成膜されることを課題の一つとする。
【解決手段】基板の一方の面上に形成される吸収層と、吸収層上に形成され、第１の成膜材料、第２の成膜材料及び下記数式（１）を満たす高分子化合物を含む材料層とを有する第１の基板の一方の面と、第２の基板の被成膜面とを対向させて配置し、第１の基板の他方の面側から加熱処理をすることで、第２の基板の被成膜面に第１の成膜材料と第２の成膜材料とを含む層を形成する成膜方法。


（式（１）中、Ｓは、高分子化合物のガラス転移温度（℃）を示し、Ｔ_ａは、第１の成膜材料又は第２の成膜材料の昇華温度（℃）のうち高い温度（℃）を示す） （もっと読む）

【課題】
本発明は、真空被覆設備内で気化すべき材料によって基板１を被覆するための方法に関する。当該気化材料が、中間キャリア３を使用する二重気化によって前記基板１上に蒸着される。前記中間キャリア３が連続して移動される。
【解決手段】
当該課題は、連続被覆設備内での使用を保証する中間キャリアを提供することにある。この課題は、本発明により、シリンダ状の中間キャリア３によって解決される。
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本発明は、少なくとも１つのターゲットと、上記少なくとも１つのターゲットの向い側に配置された基板と、レーザビームを生成するレーザとを備え、レーザビームを上記ターゲット上に向けて照射して、ターゲット材料のプラズマプルームを生成し上記基板上に堆積するようにしたレーザ堆積装置であって、ベースフレームと、上記ベースフレーム内に配置され少なくとも２つのターゲットホルダーを有する回転可能なターゲットフレームと、上記ベースフレームに取り付けられた少なくとも１つの冷却装置とをさらに備え、上記冷却装置を、上記ターゲットフレームと熱交換接触をさせるように上記ターゲットフレームに対して移動可能としたことを特徴とするレーザ堆積装置に関する。
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【課題】蒸着材料の供給時に発生する飛沫を抑え、さらに液面の波紋の影響を低減し、蒸着材料のロスを少なくする蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空室１２内に、送りロール１３と巻取りロール１４を設けてベースフイルム１５を走行させ、中途の冷却キャン１６で定速回転させる。冷却キャン１６の幅方向の長さはルツボ１と略同じ円筒状で、内部の冷却水でベースフイルム１５の温度上昇による変形等を抑制する。ルツボ１を蒸着材料蒸発部分と、これに直角に設けた蒸着材料溶融部分で構成し、蒸着材料溶融部分で蒸着材料供給時に生じる波紋の影響を防ぎ安定な蒸着を行う。冷却キャン１６を軟磁性部分１６Ａと非磁性部分１６Ｂで構成し、１つの電子銃２１から照射される蒸発，溶解用電子ビーム２１Ａ，２１Ｂと、これを局部偏向することにより、蒸着材料を溶解，蒸発し、電子ビーム相互干渉による異常放電を抑え、ルツボ１を小さくし蒸着材料のロスを少なくする。 （もっと読む）

インライン堆積システムにおいて有機材料層を基板上に形成する方法であって、有機材料は、所定の一定でない堆積レートプロファイルで堆積される。該プロファイルは、所定の第１平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第１単分子層を堆積するために用意した所定の第１堆積レート範囲と、所定の第２平均堆積レートで有機材料層の少なくとも第２単分子層を堆積するために用意した所定の第２堆積レート範囲とを含む。インジェクタの開口を経由した有機材料の注入は、所定の堆積レートプロファイルを実現するために制御される。
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【課題】
本発明は、高い層厚の均一性及び原料歩留まりにおいて非常に高い堆積速度を持つ真空コーティング方法、並びに斯かるコーティングを実現する装置に関するものである。
【解決手段】
古典的な真空蒸着を縮退させる、一方における層厚の均一性と他方における原料歩留まり及びコーティング速度との間の既存の矛盾を克服するために、基板は、蒸発源により供給される実質的に閉じられたコーティングチェンバの境界を形成する。このコーティングチェンバの壁及びコーティングされるべきでない全ての表面は、蒸気が凝縮することができずに上記コーティングチェンバに散乱して戻されるように、或る温度に維持されるか又は非粘着性コーティングを備える。これにより、上記コーティングチェンバ内には非常に高い蒸気圧が生成され、その結果、基板上での非常に高い凝縮速度及び層厚の均一性が得られる。該基板は、蒸気が凝縮し得る唯一の表面となるので、失われる材料の量は非常に少なく、歩留まりは極めて高くなる。蒸発源のパルス的動作の使用により、短いサイクルのコーティングを実現することができる。
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【課題】蒸着材料供給時に生じる飛沫を抑え、投入時の液面の波紋が蒸着に与える影響を低減し、また蒸着材料のロスを少なくする。
【解決手段】真空状態となった真空室１２内に、送りロール１３と巻取りロール１４を設けてベースフイルム１５を走行させる。各ロール１３，１４は、ベースフイルム１５の幅と略同じ円筒状、冷却キャン１６の幅方向の長さはルツボ３１と略同じ円筒状で、内部に冷却水が流れ、ベースフイルム１５の温度上昇による変形等を抑制する。また真空室１２内には、冷却キャン１６と略同じ幅で設けられたルツボ３１には、蒸着材料（固体状態）２０ａを溶解用電子銃２１Ｂで溶融させて供給する。このルツボ３１は、蒸着材料蒸発部分３１Ａと、これに直角に設けられた蒸着材料溶融部分３１Ｂからなる。この蒸着材料溶融部分３１Ｂにより、蒸着材料（固体状態）２０ａを供給する際に生じる波紋の影響を防止して、安定した蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】被蒸着物と蒸発源の距離が変化し、膜厚制御性および膜厚分布性の再現性を低下させる成膜中の材料の変動を防止した蒸着装置を提供する。
【解決手段】るつぼもしくは抵抗加熱ボート内の溶融した蒸着材料の量を蒸着材料よりも高融点の材料で作成したフロート７を蒸発液面に浮かべて、蒸発源の真横に設置したレーザー光９とレーザーセンサー８によって蒸発液面の高さを監視し、監視した結果に基づき成膜中に給材を行う事により、成膜中の蒸発面の高さを常に一定にする。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性のみならず耐久性にも優れる、無機／有機のガスバリア積層体を提供する。
【解決手段】気相成膜法で無機化合物層を形成した後、逆スパッタリング等で粗面化処理を行い、粗面化処理を行なった無機化合物層の上に、フラッシュ蒸着によって有機化合物層を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】層間の密着力が高く、ガスバリア性能が優れたガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のガスバリアフィルムは、基板上に、有機層と無機層とが順に形成されてなる積層体が、少なくとも２層以上積層されたものである。有機層のうち基板上に直接形成される第１の有機層はガラス転移温度が２００℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが３００ｎｍ以上１０００ｎｍ未満である。有機層のうち、第１の有機層以外の第２の有機層は、ガラス転移温度が１０５℃以上でモノマー中のＣ−Ｃ結合密度が０．１９以上の（メタ）アクリル化合物により構成され、厚さが５０ｎｍ以上３００ｎｍ未満である。また、無機層はプラズマを用いた成膜方法により形成されている。 （もっと読む）

本発明は、原料物質を液化させる液化部と、前記液化部と連通されて液化された原料物質を気化させる気化部と、前記気化部と連通されて気化された原料物質を噴射するインジェクターと、を備え、前記液化部は、原料物質が貯蔵されるシリンダー状のルツボと、前記ルツボの一方の側に挿入されて原料物質を排出するピストン部と、前記ルツボを加熱して原料物質を液化させる液化加熱部と、を備える原料供給ユニットと、これを備えた薄膜蒸着装置および薄膜蒸着方法を提供する。
このように、本発明によれば、固体状の原料物質を液化させた後、これらのうち必要な一部だけを気化させて供給することにより、原料物質の大容量化を達成しつつも、これを気化させて供給するための熱量の消耗を極力抑えることができる。
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【課題】材料補充時、成膜装置内を大気開放せず、装置内の温調を管理しながら有機材料を補充、混合する成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置１０は、有機材料ｍが収納された材料容器５００を収容するロードロック室１００ａと、ゲートバルブＧＶ２を介してロードロック室１００ａと接続された中間室２００と、ロードロック室内の材料容器５００を、ゲートバルブＧＶ２を介して中間室２００に投入する複数のピン機構７００と、複数のピン機構７００により中間室２００に投入された材料容器５００内の有機材料ｍを気化させるシースヒータ２０５ａと、シースヒータ２０５ａにより気化された有機材料ｍを輸送する輸送室３００と、輸送室３００を輸送された有機材料ｍにより基板Ｇを成膜する成膜室４００とを有する。 （もっと読む）

【課題】固体原料を昇華して発生させた原料ガスを成膜装置へ供給する場合において、十分な気化量を継続して安定的に供給することができる気化器を提供する。
【解決手段】固体原料ＲＭを加熱して昇華させ、原料ガスＲを発生させる加熱部２と、加熱部２の上方に設けられ、加熱部２に固体原料ＲＭを供給する供給部１と、加熱部２で発生させた原料ガスＲを搬送するキャリアガスＣを導入するガス導入部３と、発生させた原料ガスＲをキャリアガスＣとともに導出するガス導出部４とを有する。ガス導入部３から導入されたキャリアガスＣが、加熱部２を通過する。 （もっと読む）