相互接続構造において導電性バリヤ層又は他のライナ層を堆積させるための製造法、プロダクトストラクチュア、製造法、及びスパッタリングターゲット。バリヤ層（８２）は、アモルファスであってもよいがそうである必要がない、耐火性貴金属合金、例えば、ルテニウム/タンタル合金の導電性金属を含む。バリヤ層は、同様の組成のターゲット（９０）からスパッタすることができる。バリヤとターゲットの組成は、耐火性金属と白金族金属の組合わせ、例えば、ＲｕＴａから選ばれてもよい。銅貴金属シード層（１１２）は、誘電体（６６）の上のバリヤ層（７０）と接触させた銅とルテニウムの合金から形成することができる。 （もっと読む）

【課題】基材を搬送台に配置した状態でプラズマ処理を施した後、物理的気相蒸着法により二層以上の金属膜を順次成膜する成膜処理を経て基材の表面に金属膜を形成するにあたり、同一の搬送台を繰り返し用いてもプラズマ処理中に搬送台の表面に堆積した金属膜からスパッタリングによる金属原子の基材表面への付着を抑制することができる金属膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１を保持した導電体からなる搬送台２をプラズマ処理用の保持電極３上に配置して、前記保持電極３と対向電極４との間に電圧を印加することにより基材１表面にプラズマ処理を施す工程と、前記搬送台２に基材１を保持した状態でこの基材１に対して物理的気相蒸着法により二層以上の金属膜７を順次形成する工程とを含む。前記プラズマ処理を施す工程において前記搬送台２と対向電極３との間に、前記搬送台２上の前記基材１が配置されていない部位を遮蔽する遮蔽体８を配設する。 （もっと読む）

【解決課題】 反射層を構成する銀合金であって、長期の使用によっても反射率を低下させること無く機能することのできる反射層用の材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、添加元素としてインジウム及び錫を含み、残部が銀からなる反射膜用の銀合金であって、添加元素であるインジウム及び錫の一部又は全部が内部酸化されてなる銀合金である。この添加元素の濃度は、０．１〜２．０重量％が好ましく、この範囲で反射率の低下を抑制することができる。また、反射層の熱伝導率を考慮すれば、添加元素の濃度を更に限定し、０．１〜０．５重量％とすることで高熱伝導率の反射層とすることができる。 （もっと読む）

【課題】基材を搬送台に配置した状態でプラズマ処理と物理的気相蒸着法による成膜処理を経ることにより基材の表面に金属膜を形成するにあたり、同一の搬送台を繰り返し用いても基材と金属膜との間の高い密着性を維持することができる金属膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材１を保持した搬送台２をプラズマ処理用の保持電極３上に配置して、前記保持電極３と対向電極４との間に電圧を印加することにより基材表面にプラズマ処理を施す工程と、前記搬送台２に基材１を保持した状態でこの基材１に対して物理的気相蒸着法により金属膜７を形成する工程とを含む。前記搬送台２が、一面が前記プラズマ処理工程において保持電極３と接すると共に他面が前記基材１と接する導電性の導電体部８と、前記導電体部８の周囲を取り囲む電気絶縁性の絶縁体部９にて構成されている。 （もっと読む）

【課題】 良好な耐摩耗性、耐焼き付き性等を有するとともに、基材への密着性及び靭性にも優れた窒素含有クロム被膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 膜厚方向の中間部１１ｂの含有窒素濃度を他の部位１１ａ，１１ｃの含有窒素濃度より高くした窒化含有クロム被膜１１である。膜全体としての耐摩耗性、耐焼き付き性等の特性は、前記中間部１１ｂの含有窒素濃度が高く、したがって、前記中間部１１ｂの硬度が高いことによって担保される。また、膜厚方向における含有窒素濃度の違いにより、前記中間部１１ｂにおいて硬度が高く、その両側の基材側１１ａ及び被膜表面側１１ｃにおいて、硬度が低くなっている。したがって、膜全体としての靭性も良好となる。加えて、前記基材側１１ａにおいては、含有窒素濃度が前記中間部１１ｂより低い分だけクロム濃度が高いので、基材４に対する密着性も良好となる。 （もっと読む）

【課題】スパッタターゲットに使用することができ、スパッタして薄膜を形成することができる、多重成分の酸化物を含有する合金を提供する。
【解決手段】基板201、及び基板201上に形成されたデータ記録薄膜層206を含む磁気記録媒体である。上記データ記録薄膜層206は、コバルト(Co)、白金(Pt)、及び多重成分の酸化物で構成される。この多重成分の酸化物は、-0.03eV未満の還元電位、及び0.25nm未満の原子半径を有した陽イオンを有している。さらに、上記多重成分の酸化物は、反磁性、常磁性、又は10^-6m³/kg未満の透磁率を有する磁性を帯びている。また、上記多重成分の酸化物は、5.0を越える誘電率を持っている。さらに、スパッタターゲットは、クロム(Cr)及び／又はホウ素(B)を含んで構成される。 （もっと読む）

【課題】各種電子機器、情報機器のディスプレイなどに使用される無機エレクトロルミネッセンス素子を構成する蛍光体膜をスパッタリングにより形成するための高強度スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｌ：１５〜４５質量％、Ｅｕ：１〜１０質量％、Ｓ：１０〜２０質量％を含有し、残部がＢａおよび不可避不純物からなる成分組成、並びに金属Ａｌ相、ＢａＳ相およびＥｕＳ相からなる組織を有する無機エレクトロルミネッセンス素子用蛍光体膜を形成するための直流スパッタリングが可能な高強度スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】Ｉｎ−Ｇａ−Ｚｎ−Ｏ膜を高速かつ安定して成膜する方法を提供する。
【解決手段】カバー２６内部にＩｎ−Ｇａ酸化物よりなる第１のターゲットとＺｎ酸化物よりなる第２のターゲットを設け、これらの上方に基板１を配置し、ポンプによってカバー２６内を真空にした後、不活性ガス中に酸素を含有させた混合ガスをカバー２６内に導入する。ターゲット２１ａ，２１ｂに交互にパルスパケット状の電圧を印加する。ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ時におけるＩｎ、Ｇａ及びＺｎの放電の発光波長と発光強度が、ＰＥＭ３１ａ，３１ｂによって検知される。各ターゲット２１ａ，２１ｂのスパッタ速度が算出され、この算出結果に基づき、各ターゲット２１ａ，２１ｂに付与されるパルス電力、パルス量及びパルス幅、カバー２６内に供給する酸素量、並びにカバー内の圧力が制御される。 （もっと読む）

【課題】レーザー光により情報の記録、再生、記録および再生、さらに消去を行う光記録媒体の保護膜を形成するための異常放電発生の少ないスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】モル％で、酸化亜鉛：１０〜３０％、酸化ガリウム：１〜１５％、酸化インジウム：１〜１５％、二酸化珪素：１〜５％を含有し、さらに必要に応じて酸化アルミニウム：０．０５〜２％を含有し、残部：硫化亜鉛および不可避不純物からなる組成、並びに素地中に最大粒径：１５μｍ以下かつ平均粒径:０．５〜３μｍの範囲内にある二酸化珪素が分散している光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 密着性と摺動特性に優れる複合皮膜を提供する。
【解決手段】 Ｔｉ，Ｖ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｓｉ，Ａｌ，Ｂのいずれか１種以上の元素からなる窒化物および／または炭窒化物を主体とする硬質皮膜上に、金属元素と二硫化モリブデンからなる潤滑皮膜が存在してなる複合皮膜であって、該潤滑皮膜は、該硬質皮膜側から表面に向かって、金属元素の割合は減少すると同時に、二硫化モリブデンの割合は増加する組成の傾斜を有し、かつ該潤滑皮膜の酸素濃度の最大値は２５原子％以下の、複合皮膜である。この複合皮膜の形成には、硬質皮膜の形成にイオンプレーティング源を用い、潤滑皮膜の形成にスパッタ源を用いる。そして、前記イオンプレーティング源とスパッタ源は一つのチャンバ内に設置されており、チャンバ内に保持した被処理物に、硬質皮膜を３８０℃以上で形成した後には、この被処理物をチャンバ内に保持したままの状態で連続して潤滑皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】本発明は被処理物である基板に成膜、ドライエッチングなどのプラズマプロセスを行うプラズマプロセス用装置に関し、ステージ冷却機構の小型化及び低コスト化を図ることを課題とする。
【解決手段】プラズマプロセス用装置において、容器の内部に被処理物を載せる導電性のステージ301を設け、このステージ301には直流電圧もしくは高周波を印加できる構造が設けられ、前記冷却媒体を水ベースの液体とし、ステージ301の内部には高熱電導性金属により形成されており前記被処理物を冷却するための冷却媒体流路303を設け、ステージ301と冷却媒体流路303との間にステージ301の熱を冷却媒体に伝えるために熱伝導度が高くステージ301に印加した直流電圧もしくは高周波を前記冷却媒体に伝えないように電気絶縁性が高い高熱伝導率絶縁材料を設け、かつ、チラーを使わずに前記冷却媒体を冷却媒体流路301に供給する。 （もっと読む）

【課題】耐熱性を有するポリイミド層と蒸着法により金属薄膜を形成した金属層とが、高い接着力で一体に接合されて積層され、接着剤を使用することなくポリイミドからなる支持体と金属層との剥離強度の大きい、微細配線用基板として使用可能である銅積層基板に用いることができるポリイミドフィルムを提供する。
【解決手段】ポリイミドフィルムの減圧放電処理面に蒸着法により金属薄膜を形成するためのポリイミドフィルムであり、ポリイミドフィルムの少なくとも一方の表面に減圧放電処理を行ない、減圧放電処理した面のＲａ（平均粗さ）が０．０３〜０．１μｍの凹凸形状であることを特徴とする蒸着法による金属薄膜形成用のポリイミドフィルム。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングターゲット、多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法をそれぞれ提供する。
【解決手段】スパッタリングターゲットの構成を、ルテニウム（Ｒｕ）と、ニオブ（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、ランタン（Ｌａ）、ケイ素（Ｓｉ）、ホウ素（Ｂ）、イットリウム（Ｙ）から選ばれる少なくとも一種とを含有するルテニウム化合物からなり、焼結密度が９５％以上であり、酸素（Ｏ）の含有量が２０００ｐｐｍ以下、炭素（Ｃ）の含有量が２００ｐｐｍ以下とする。このターゲットを用いて基板１上の多層反射膜２の上にルテニウム化合物保護膜６を形成して多層反射膜付き基板３０を得る。この多層反射膜付き基板３０のルテニウム化合物保護膜６上に吸収体膜を形成して反射型マスクブランクとする。また、この反射型マスクブランクの吸収体膜にパターンを形成して反射型マスクを得る。 （もっと読む）

【課題】 複数のスパッタリングターゲットを備えたスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】 本発明に係るスパッタリング装置は、被成膜基板１３にスパッタリングにより薄膜を成膜するスパッタリング装置であって、真空容器１０と、前記真空容器１０内に配置された第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６と、前記第１乃至第３のスパッタリングターゲット２４〜２６それぞれに高周波電流を出力する高周波電源３３〜３５と、前記真空容器内に配置され、被成膜基板を保持するサセプタ１４と、を具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 線膨張係数が小さく、透明性、耐熱性、ガス・水蒸気バリア性に優れ、ガラスに代替可能な透明バリア性シートを提供すること。
【解決手段】吸水率が３％以下でガラス転移温度が２３０℃以上の透明樹脂（ａ）とガラスフィラー（ｂ）とから構成される透明複合シート上に、透明でガス・水蒸気バリア性を有する無機化合物から成るバリア層を形成した透明バリア性シートであり、好ましくは、透明樹脂（ａ）が脂環式エポキシ樹脂を構成成分として含む組成物をカチオン系硬化触媒（ｄ）で硬化した架橋体である透明バリア性シート。 （もっと読む）

【課題】膜厚を高精度で制御でき、かつ生産性に優れるスパッタ装置及びスパッタ成膜方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１２内に基板ホルダー１４が設置されたカルーセル型スパッタ装置において、低屈折率膜形成用と高屈折率膜形成用にそれぞれ通常のマグネトロン２３、３３３とＡＣのマグネトロン２７、３７が併設され、設計膜厚（目標膜厚）の９０％までＡＣのマグネトロンで成膜し、その後、通常のマグネトロンのみで成膜する。成膜中に基板１８の透過率を測定し、その情報を電源にフィードバックすることで、膜厚コントロールを行う。 （もっと読む）

【課題】 基板の汚染を防止して優れた膜質の成膜を行うことができると共に複数の基板の膜質を均一化することができ、且つコストを低減した成膜処理方法を提供する。
【解決手段】 内部が真空状態の搬送室によって繋がれた基板の成膜処理を行うチャンバー間で前記基板を前記搬送室内を通過させて搬送する際に、一方のチャンバーで成膜処理が終わった当該基板を前記搬送室内で待機させることなく前記搬送室を可及的速やかに通過させて他方のチャンバーに搬送する。 （もっと読む）

本発明は、直流電源（１３）に接続された第１電極（５’）を含むアーク蒸着ソース（５）と、アーク蒸着ソース（５）から分離されて配置された第２電極（３、１８、２０）とを有する加工物（３）の表面処理のための真空処理装置に関する。両方の電極（５’、３、１８、２０）が個々のパルス電源（１６）に接続されて運転される。
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【課題】 磁性材料薄膜の表面を粗雑にすることなく、垂直磁気異方性を増加させることができる磁性材料薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁性材料薄膜の製造方法は、磁性材料薄膜を成膜した後、それを試料３として、垂直磁気異方性定数の値がイオンビーム２の照射によって正となるような数値範囲の電流密度でイオンビーム２を試料３に照射する。イオンビーム２の電流密度は、６５μＡ／ｃｍ²以下であることが好ましく、磁性材料薄膜を成膜中にイオンビームを照射してもよい。 （もっと読む）

【課題】自動調熱色調調和遮光ガラス及び製造方法を提供する。
【解決手段】二酸化バナジウム系調光ガラスの可視光透過率が低いという欠点を逆転の発想により遮光ガラスとして有効利用に転じ、更に、補色原理を活用した独自の色調調和法を採用して作製した、自由に色調調和ができる自動調熱色調調和遮光ガラス、及びその製造方法。
【効果】建築物、車両その他移動体の窓ガラス、特に、省エネルギー、健康快適、プライバシー保護、色調調和等の複数の機能を有する新しいガラス及びその製法を提供することができる。 （もっと読む）