本発明は、交流電源（２）から少なくとも２つの負荷たとえばプラズマプロセスにおける負荷へ送出される電力の電力供給調整方法および電力供給調整装置に関する。本発明によれば、負荷に対する電力供給実際量が電力供給目標量と比較され、偏差が生じているならば交流電源（２）と上述の負荷の少なくとも１つとの間で電力の供給および／または取り出しによって整合される。このような方法および装置によればプラズマプロセスにおいて、電極へ送出される電力を交流電源の種類に依存することなく所定の電力供給と一致するよう調整することができる。
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【解決手段】 透明基板上にクロム系材料膜を設けてなるフォトマスクブランクの製造方法であって、上記クロム系材料膜をスパッタリングにより、ターゲットに印加する単位スパッタリング面積当たりの電力を５Ｗ／ｃｍ²以上として成膜するフォトマスクブランクの製造方法。
【効果】 基板上にクロム系材料膜を形成する場合に、スパッタリングにより膜応力の極めて低いクロム系材料膜を形成することができることから、クロム系材料膜を成膜してフォトマスクブランクを製造する前後、及びそのクロム系材料膜を加工して膜パターンを形成する前後における膜応力の変化により、反りが大きく変化することを避けることができ、精度の高い露光が可能なフォトマスクを与えるフォトマスクブランクを安定して製造することができる。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板をコーティングするためのプラズマ励起装置を改善する。
【解決手段】プラズマ励起装置１にはＤＣ給電部２が配置され、ＤＣ給電部２は電源端子３に接続される。ＤＣ給電部２に対して、並列に第１のＭＦユニット４と第２のＭＦユニット８が設けられ、コーティングチャンバ７内に複数の電極５，６，９，１０が配属される。 （もっと読む）

【課題】 スパッタ面から基板へ飛んでくる二次電子や負イオン等の負荷電粒子を捕捉して、該二次電子及び負イオン等による基板の損傷及び、基板上に形成される薄膜の破壊、損傷を減らすことができる対向ターゲット式スパッタ装置及び方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、一対のターゲット１ａ，１ａを対向配置した対向ターゲット式スパッタ装置及び方法において、一対のターゲットと成膜される基板との間に、スパッタ面から基板へ飛ぶスパッタ粒子の流路Ｒに面するよう介在し、断続又は連続的に正電位に印加されるアノード部を設ける。
また、一対のターゲット１ａ，１ａを対向配置した対向ターゲット式スパッタ装置及び方法において、一対のターゲットと成膜される基板との間に、スパッタ面から基板へ飛ぶスパッタ粒子の流路Ｒに面するよう介在し、断続又は連続的に正電位に印加されるアノード部を設けることと併せて、ターゲットに印加するＤＣにＲＦを重畳することにより放電電圧を低くする。 （もっと読む）

【課題】負荷電流の大小によって通常の全波整流回路と倍電圧整流回路との間で自動的に切替を行うことのできる整流回路を提供すること。
【構成】 互いに直列接続された一対の整流素子を備える整流アームを少なくとも２組ブリッジ構成に接続してなるブリッジ整流回路における一方の前記整流アームだけの整流素子の双方又は一方にコンデンサを並列接続してなる直流電源装置にあって、この直流電源装置から給電される負荷が高インピーダンス状態にあるときには、前記コンデンサが実質的に負荷に電流を供給すると共に、前記ブリッジ整流回路と前記コンデンサとは倍電圧整流回路として動作し、また、負荷が低インピーダンス状態を呈するときには前記ブリッジ整流回路の前記整流素子を通して負荷に電流を供給するようなキャパシタンスを、前記コンデンサが有することを特徴とする直流電源装置。 （もっと読む）

【課題】比抵抗が小さく、膜表面が平滑であり、さらに可視光領域の光透過率が高い非晶質透明導電性薄膜を製造することができる酸化物焼結体を提供する。
【解決手段】インジウム、タングステン、亜鉛、ゲルマニウムから構成し、タングステンをＷ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０２３の割合、亜鉛をＺｎ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０３２の割合、ゲルマニウムをＧｅ／Ｉｎ原子数比で０．００４〜０．０２１の割合で含有させ、かつ、比抵抗を１ｋΩｃｍ以下とした酸化物焼結体とする。 （もっと読む）

【課題】 ナノ狭窄スペーサを有する磁気抵抗（ＭＲ）センサのスピンバルブ内に使用する薄膜の生成方法を提供する。
【解決手段】 スピンバルブのボトムをピン層まで蒸着し、蒸着室を用意し、スペーサ層をその上にスパッタリングする。主イオンビームが磁性チップと絶縁材を含む合成面上にイオンを生成する。同時に、支援イオンビームが基板に直接イオンを供給し、かくしてスペーサ層の柔軟度と平滑度を改善する。中和器もまた配設し、イオン反発を防止し、イオンビーム合焦を改善する。その結果、薄膜スペーサを形成することができ、低保磁力とフリー層とピン層の間の低層間結合とを有するナノ狭窄ＭＲスピンバルブが形成される。 （もっと読む）

【課題】電気抵抗率が低く、電子デバイスの高密度化、特に液晶ディスプレイ等の平面表示素子の大型化、高精細化に適した配線・電極、及びその製造に用いられる放電安定性の高いスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｌに元素周期律表第３族から選ばれる１種以上の金属を総含有量で０．５原子％未満含有し、かつ、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下のＡｌ系合金薄膜により配線・電極を形成することにより、同一条件で作製した純Ａｌ薄膜の電気抵抗率と同等の低い電気抵抗率を有し、かつ、ヒロック耐性の高い配線・電極が得られる。このような配線・電極は、元素周期律表第３族から選ばれる１種以上の金属を総含有量で０．５原子％未満含有し、かつ、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下であるＡｌ系合金からなるスパッタリングターゲットを用い形成することができる。 （もっと読む）

基板上に、第１の金属成分からなる金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分の化合物からなる金属化合物部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の金属成分を除去すること、又は基板上に、第１の金属成分からなる第１の金属部分と、上記第１の金属成分とは異なる第２の金属成分からなる第２の金属部分とが互いに混合分散してなる複合薄膜を形成し、次いで上記複合薄膜中の第１又は第２のいずれかの金属部分のみを除去することを特徴とする多孔質薄膜の形成方法を提供する。
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【課題】本発明は、ガスバリア積層体表面に均一な導電性薄膜を製膜でき、かつ、エッチング工程後にも酸素及び／又は水蒸気バリア性を保てるような導電性ガスバリア積層体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】真空装置内で、プラスチックフィルム（３）を巻き出す工程、巻き出されたプラスチックフィルム（３）の少なくとも一方の面にガスバリア膜（４）を成膜する工程、その上に導電性薄膜（５）を成膜する工程、成膜されたプラスチックフィルム（３）を巻き取る工程、を有する導電性ガスバリア積層体（２）の製造方法であって、該ガスバリア膜（４）を成膜する工程と導電性薄膜（５）を成膜する工程が、仕切りにより区切られた異なる成膜室で成膜され、各成膜室が一方の成膜室ともう一方の成膜室の圧力差が１００倍以上である状態を保てるものであることを特徴とする導電性ガスバリア積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 エアコンなどの各種空調機の冷暖房コイルの表面にナノシルバーで真空蒸着を行ってアルミニウム材質の腐食を防止し、冷暖房機体および流体を殺菌して高熱伝導率を維持するようにした、ナノシルバーの蒸着された空調機コイルの製造方法を提供する。
【解決手段】 １×１０^−３〜１×１０^−５Ｐａの真空度下で真空室圧力が１ＭＰａとなるまでアルゴンガスを流入させ、標的材料であるナノシルバー粒子に高負電圧（−５００〜−５０００Ｖ）をかけ、グロー放電により、アルゴンガスの陽イオンを、陰極として帯電された標的材料であるナノシルバー粒子表面に衝突させ、ナノシルバー粒子を原子形態として放出させることにより、蒸気相が冷暖房コイルの表面にナノシルバーコーティング層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、異なる音響特性インピーダンスを有する、第１材料からなる第１層と第２材料からなる第２層を交互に積層した積層体をもつ薄膜音響積層反射体の製造方法であって、前記第１および第２層のうちの少なくとも一方の層は、反応性直流パルスマグネトロンスパッタリングプロセスによって蒸着される薄膜音響積層反射体の製造方法に関するものである。本発明は、さらに、この方法によって製造される音響積層反射体と、この方法を実施するための装置に関するものである。
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【課題】
ディスプレイ技術の進展に伴う高負荷の処理条件に対応できる耐候性を備え、しかも、優れた低反射特牲、優れた遮光性、及び優れた加工性を有し、且つ、環境負荷の低いブランクス又はブラックマトリックスを提供する。
【解決手段】
透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜から成るブランクス又はブラックマトリックスにおいて、遮光膜は、遮光膜の金属成分をＮｉとＭｏとＴｉを主成分とし、Ｔｉの含有量が１０〜２５原子％である薄膜でを構成される。 （もっと読む）

【課題】
抵抗特性及び透過率特性を損なうことなくエッチング加工性に優れた積層型透明電極膜の製造方法及び積層型透明電極形成用の積層体を提供する。
【解決手段】
本発明による積層型透明電極膜の製造方法は、基板上に第１透明電極膜を形成するステップと、第１透明電極膜の上に酸化銀系薄膜を形成するステップと、酸化銀系薄膜上に第２透明電極膜を形成するステップと、第１透明電極膜、酸化銀系薄膜、第２透明電極膜の積層を加熱して低抵抗化及び透明化するステップとを含み、第１透明電極膜と第２透明電極膜の少なくとも何れかが還元作用を有する。 （もっと読む）

【課題】電源装置と成膜室とを接続する電源供給線の長さに影響されず、安定した放電により異常放電を抑制することが可能となり、安価に構成することができるスパッタ装置を提供する。
【解決手段】スパッタ装置において、成膜用電源装置として構成された直流電源装置１，２と、該直流電源装置からの直流電源を成膜装置に供給するため、これら直流電源装置と成膜装置とを接続する電源接続用手段６，７と、前記成膜装置側に設けられた印加電圧の極性を切り替えるスイッチ手段１５，１６を含む制御部と、を備え、前記電源接続用手段を介して前記直流電源装置から供給された直流電源による印加電圧の極性を、前記スイッチ手段によって切り替えて前記成膜装置におけるチャンバー１２とターゲット１３間に印加可能に構成する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、また膜厚を薄く調整でき、さらにスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減させ、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度のスパッタリングターゲット及びその製造方法並びに、特に保護膜としての使用に最適である光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法を得る。
【解決手段】Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）/2}(ＺｎＯ)_ｍ、０＜Ｘ＜２、Ｙ＝２−Ｘ、１≦ｍを満たす酸化亜鉛を主成分とする化合物を含有し、さらにカルコゲン化亜鉛を含む、相対密度９０％以上、バルク抵抗値０．１Ωｃｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
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本発明は、Ａ、Ｂは其々異なる３価以上の陽性元素であり、その価数を其々Ｋａ、Ｋｂとしたとき、Ａ_ＸＢ_ＹＯ_{（ＫａＸ＋ＫｂＹ）／２}（ＺｎＯ）_ｍ、０＜Ｘ＜２、Ｙ＝２−Ｘ、１≦ｍを満たす酸化亜鉛を主成分とする化合物を含有し、さらにカルコゲン化亜鉛を含む、相対密度９０％以上、バルク抵抗値０．１Ωｃｍ以下であることを特徴とするスパッタリングターゲットに関する。スパッタリングによって膜を形成する際に、基板への加熱等の影響を少なくし、高速成膜ができ、また膜厚を薄く調整でき、さらにスパッタ時に発生するパーティクル（発塵）やノジュールを低減させ、品質のばらつきが少なく量産性を向上させることができ、かつ結晶粒が微細であり高密度のスパッタリンダターゲット及びその製造方法並びに、特に保護膜としての使用に最適である光情報記録媒体用薄膜及びその製造方法を得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ターゲットの消耗量を減らすことができ、被蒸着物と蒸着膜との密着力を向上させることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明による蒸着装置は、前記被蒸着物を収容する第１真空チャンバーと；前記第１真空チャンバー内に設けられ前記被蒸着物に蒸着粒子を放出するターゲットと；前記ターゲットを支持し前記ターゲットから前記蒸着粒子を放出させるスパッタソースと；前記第１真空チャンバーと連通するように設けられる第２真空チャンバーと；前記第２真空チャンバーに結合され前記被蒸着物にイオンビームを放出するイオンビームソースと；を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】金型や切削工具等の金型加工工具表面用保護膜によって、成型品の外観を向上させるために、ある程度の高硬度を有すると共に、潤滑性を向上させ、且つ濡れ性を低下させる。
【解決手段】 気相薄膜形成法によって金属表面に形成される、遷移金属元素の窒化物と非晶質構造の炭素との混合膜又は積層膜からなる金属加工工具表面保護膜。 （もっと読む）