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Fターム[4K029FA04]の内容

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Fターム[4K029FA04]に分類される特許

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【課題】 高硬度鋼の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Al,Ti)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Al,Ti)Nからなる薄層Aと柱状晶(Al,Ti)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速高送り切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,B)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,B)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,B)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、前記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、前記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,Ti,Si)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,Ti,Si)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,Ti,Si)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の高速切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,Si)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,Si)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,Si)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】切刃に対して高負荷が作用する乾式断続重切削加工や乾式連続高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金焼結体からなる切削工具基体表面にTiN層からなる硬質被覆層を物理蒸着で形成した表面被覆切削工具において、TiN結晶粒の粒径幅が小さい領域Iと、粒径幅がこれより大きい領域IIとから硬質被覆層を構成し、かつ、領域Iの微細粒子と領域IIの粗大粒子の結晶方位のずれが15度以下となる縦区分の面積割合を60%以上とし、乾式断続重切削加工、乾式連続高送り切削加工において、すぐれた高温強度、耐欠損性、靭性を発揮させる。 (もっと読む)


【課題】 高硬度鋼の重断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、(Cr,Al,Ti)Nからなる硬質被覆層が蒸着形成された表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、粒状晶(Cr,Al,Ti)Nからなる薄層Aと柱状晶(Cr,Al,Ti)Nからなる薄層Bの交互積層構造として構成され、薄層Aおよび薄層Bはそれぞれ0.05〜2μmの層厚を有し、さらに、上記粒状晶の結晶粒径は30nm以下、また、上記柱状晶の結晶粒径は50〜500nmである。 (もっと読む)


【課題】剥離し難く、かつ積層数に依存することなく、100N以上のスクラッチ強度を有し、積層間隔ならびに層比率を変化させることで、ヤング率、硬度などを制御でき、チッピング、部分クラックなどの欠けはほとんど生じない被膜形成方法を提供する。
【解決手段】基材1の表面にダイヤモンドライクカーボン膜3をコーティングするコーティング被膜の形成方法であり、加熱しながらプレスパッタリングを行いターゲット材料の表面及び基材1の表面の汚れを除去する前処理工程Aと、ターゲット材料を用いて基材1の表面にスパッタリングによりインターレイヤーを成膜して中間層2を形成する層形成工程Bと、中間層2の表面にダイヤモンドライクカーボン膜3を成膜するコーティング工程Cとを有する。 (もっと読む)


【課題】不良を抑制しつつ微細化を達成した半導体装置の提供を目的の一とする。または、良好な特性を維持しつつ微細化を達成した半導体装置の提供を目的の一とする。
【解決手段】絶縁層と、絶縁層中に埋め込まれたソース電極、およびドレイン電極と、絶縁層表面、ソース電極表面、およびドレイン電極表面、の一部と接する酸化物半導体層と、酸化物半導体層を覆うゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上のゲート電極と、を有し、絶縁層表面の一部であって、酸化物半導体層と接する領域は、その二乗平均平方根(RMS)粗さが1nm以下であり、絶縁層表面の一部とソース電極表面との高低差、および絶縁層表面の一部とドレイン電極表面との高低差は、5nm以上の半導体装置である。 (もっと読む)


【課題】ターゲットを長期間に亘って均一に使用できると共に、成膜速度を向上させることができるマグネトロンスパッタ装置によって、LaB膜を下地である基体上に成膜した場合、LaB膜が剥離し易いことが判明した。
【解決手段】基体の表面を窒化した後、引き続き同一処理装置内にて、基体の窒化された前記表面にスパッタによりLaBの膜を形成することによって、基体から剥離し難いLaB膜を成膜することができる。 (もっと読む)


【課題】回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制されたプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆し、且つ、白金、パラジウム、及び、金のいずれか1種以上を含む被覆層とを備え、被覆層における白金の付着量が1050μg/dm2以下、パラジウムの付着量が600μg/dm2以下、金の付着量が1000μg/dm2以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、スパッタ装置の処理能力を損なうことなく、スパッタに異常がないときは金属薄膜の反射率を面内で均一にすることができる半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本願の発明にかかる半導体装置の製造方法は、シリコン基板にスパッタ成長により金属膜を形成する第1スパッタ工程と、該第1スパッタ工程の後に該第1スパッタ工程よりも高いDCパワーでさらに金属膜をスパッタ成長させる第2スパッタ工程と、該第1スパッタ工程と該第2スパッタ工程の後に、該第1スパッタ工程および該第2スパッタ工程で形成された金属膜の反射率の均一性を測定する検査工程とを備えたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、薄層A:(AlCr)N層または(AlCrM)N層と薄層B:立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.05≦Ic/Ih≦1.0を満足する回折ピーク強度比を有する層との交互積層構造からなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速重切削加工条件下において、硬質被覆層がすぐれた密着性と潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、薄層A:(AlTi)N層または(AlTiM)N層と薄層B:立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの混合組織からなり、かつ、該混合組織についてX線回折による回折ピーク強度を調査したとき、立方晶構造のNbNの(200)面からの回折ピーク強度をIc、また、六方晶構造のNbNの(103)面と(110)面からの回折ピーク強度をIhとした場合、0.05≦Ic/Ih≦1.0を満足する回折ピーク強度比を有する層との交互積層構造からなる層を形成した表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】基板上に形成された配線用パターンの底部までCu埋め込みが可能な基板の配線方法を提供する。
【解決手段】真空状態に保持された処理容器100内にて配線用パターンが形成された基板を配線する方法であって、ウエハ上の配線用パターンを所望のクリーニングガスにより洗浄する前工程と、前工程後、クラスタ化された金属ガス(金属ガスクラスタCg)を用いて配線用パターン内に金属ナノ粒子を埋め込む埋め込み工程と、を含むことを特徴とする基板の配線方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】Ti合金、ステンレス鋼等の難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、前記硬質被覆層が、(a)組成式:(Ti1−αAlα)Nあるいは組成式:(Ti1−α−βAlαβ)N(但し、Mは、Tiを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)を満足するTiとAl(とM)の複合窒化物層からなるTiAl(M)N薄層、(b)組成式:(V1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.1)を満足するVとYの複合窒化物層からなるVYN薄層、前記(a)、(b)の交互積層からなることを特徴とする表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】Ti合金、ステンレス鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性及び耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、組成式:(V1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.1)を満足するVとYの複合窒化物層の単層から構成するか、または、組成式:(Ti1−αAlα)Nで表されるTiとAlの複合窒化物層からなる下部層、あるいは、組成式:(Ti1−α−βAlαβ)Nで表されるTiとAlとMの複合窒化物層からなる下部層(但し、Mは、Tiを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)と上記(V1−γγ)N層からなる上部層との2層構造として構成する。 (もっと読む)


【課題】Auを含む表面層をステンレス基材上に強固かつ均一に形成させることができ、燃料電池用セパレータに要求される耐食性、導電性及び耐久性も確保できる燃料電池用セパレータ材料を提供する。
【解決手段】ステンレス鋼基材2の表面に、CrとAuとを含み、Feが10質量%以下含まれる表面層6が形成され、表面層のどの深さにおいても、金属状態のCrの含有量が25質量%以下である燃料電池用セパレータ材料である。 (もっと読む)


【課題】高硬度難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、(a)組成式:(Al1−α−βCrαβ)N(但し、Mは、Alを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)を満足するAlとCr(とM)の複合窒化物層からなる下部層、(b)組成式:(V1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.1)を満足するVとYの複合窒化物層からなる上部層、以上(a)、(b)で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い半導体装置を提供する。
【解決手段】第1の配線と、第2の配線と、第3の配線と、第4の配線と、第1のトランジスタ160と、第2のトランジスタ162と、を有し、第1のトランジスタ160は、半導体材料を含む基板に設けられ、第2のトランジスタ162は酸化物半導体層を含んで構成され、第1のトランジスタ160のゲート電極と、第2のトランジスタ162のソース・ドレイン電極とは、電気的に接続され、第1の配線と、第1のトランジスタ160のソース電極とは、電気的に接続され、第2の配線と、第1のトランジスタ160のドレイン電極とは、電気的に接続され、第3の配線と、第2のトランジスタ162のソース・ドレイン電極の他方とは、電気的に接続され、第4の配線と、第2のトランジスタ162のゲート電極とは、電気的に接続される。 (もっと読む)


【課題】2層構造を有する硬質皮膜層1、2において、硬質皮膜層1は残留圧縮応力により亀裂の伝播抑制を図り、硬質皮膜層2は残留圧縮応力の低減化により厚膜化を可能とし、基材との密着強度を改善して硬質皮膜被覆切削工具の長寿命化を図る。
【解決手段】超硬合金を基材とする切削工具に硬質皮膜を被覆した硬質皮膜被覆切削工具において、表面側に硬質皮膜層1、基材側に硬質皮膜層2が被覆され、硬質皮膜層1は(AlCr1−a)N、但し、0.5≦a≦0.75、0.9≦x≦1.1であり、硬質皮膜層2は(TiAl1−b)N、但し、0.4≦b≦0.6、0.9≦y≦1.1であり、X線回折における硬質皮膜層1の(111)面の格子定数をa1(nm)、硬質皮膜層2の(200)面の格子定数をa2(nm)としたとき、0.990≦a1/a2≦0.999であることを特徴とする硬質皮膜被覆切削工具。 (もっと読む)


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