【課題】長期間メンテナンスを行うことなく成膜を行うことが可能な成膜装置およびそのクリーニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｗ上に堆積させる被膜材料５Ｍを供給する被膜材料供給手段５と、被膜材料供給手段５に対して所定位置に基板Ｗを保持する基板ホルダ４と、被膜材料５Ｍを透過させるスリット６Ｋを所定位置に形成しつつ、被膜材料供給手段５と基板ホルダ４との間に配置されたマスク部材６Ｐと、スリット６Ｋから離間配置され、マスク部材６Ｐの表面に付着した被膜材料５Ｍを除去するクリーニング部と、スリット６Ｋの近傍とクリーニング部との間で、マスク部材６Ｐを循環移動させる循環移動手段と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬディスプレイパネル製造装置において、使用済みのマスクからのパーティクル発生や、洗浄済みのマスクに対するパーティクルの付着を防止する。
【解決手段】有機膜成膜室５内においてアレイ基板１２に有機膜を成膜するためのマスク１１は、搬送ロボット１４によってマスク収納室１と有機膜成膜室５との間を搬送される。使用済みのマスク１１は、マスク収納室１内においてマスクカセット１５に収納され、マスクカセット１５の蓋１６を蓋着脱機構１７によって閉じた後にマスク収納室１から取り出されて、洗浄後に再びマスクカセット１５に入れてマスク収納室１へ搬送される。マスクカセット１５を用いることで、使用済みのマスク１１から発生するパーティクルの外部流出を防ぐ。また、洗浄済みのマスク１１へのパーティクル付着を防止する。 （もっと読む）

【課題】基板上に均一な薄膜を形成することが可能なマスク、蒸着装置、有機電界発光表示装置を提供すること。
【解決手段】基板上に形成される複数の副画素領域のうちいずれか１つの領域にそれぞれ対応した第１開口部３１１が複数個形成された第１領域３１と、複数の第１開口部が形成された第１領域の両側に少なくとも１つずつ配置され、複数の副画素領域のうちいずれか１つの領域にそれぞれ対応した第２開口部３１２が複数個形成された第２領域３２と、を備え、基板に対して全面にわたって位置することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】複数のチップを支持基板に固定したマスクを用いた場合でも、チップと被処理基板との密着性を高めることのできるマスク蒸着法、およびマスク蒸着装置を提供すること。
【解決手段】マスク蒸着法およびマスク蒸着装置では、被処理基板２００の下面側に、開口部２２を備えた複数のチップを支持基板３０に接合したマスク１０を配置して蒸着を行う。その際、被処理基板２００の裏面２２０のうち、チップ２０と重なる領域２２１に錘１８を配置する。従って、マスク１０の中央部分が自重により凹んだ状態に撓み、チップ２０に撓みや傾きが発生した場合でも、錘１８は、被処理基板２００の裏面２２０のうち、チップ２０と重なる領域２２１を下方に押圧するので、被処理基板２００において少なくともチップ２０と重なる部分は、チップ２０の傾きや撓みに正確に倣って変形する。 （もっと読む）

【課題】基板を移動させながら成膜する際でも、正確、かつ、効率よく膜厚を測定することのできる蒸着用マスク、蒸着用基板ホルダ、および蒸着状態判定方法を提供すること。
【解決手段】成膜時に基板とともに移動する蒸着用マスク１９にモニター用の水晶振動子１６を保持させ、水晶振動子１６によって成膜状態を監視する。このため、蒸着室１１を改造しなくても、蒸着速度や膜厚を正確かつ効率よく求めることができる。また、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側に水晶振動子１６に対する端子１６ｃが露出しているので、成膜後、蒸着用マスク１９において、蒸着源１２に対向する側とは反対の面側にプローブ２１を当てるだけで水晶振動子１６の共振周波数を計測できる。 （もっと読む）

【課題】高純度化したＥＬ材料を用いてＥＬ層を形成することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明における成膜装置および成膜方法は、成膜直前に純粋なＥＬ材料の昇華温度を利用してＥＬ材料の昇華精製を行い、ＥＬ材料に含まれる酸素、水およびその他の不純物を除去すると共に、昇華精製により得られたＥＬ材料（高純度ＥＬ材料）をそのまま蒸発源として用いて成膜を行うことができるという機能を有する成膜装置およびそれを用いた成膜方法であり、これまで以上に高純度なＥＬ層を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、成膜室に異常が発生すると、バッファ室に基板を成膜室が復旧するまで、一時的にストックし、バッファ室に製品不良の発生を抑制することが可能な成膜装置を提供することを目的とする。
【解決手段】上流側から下流側に向かって移動する基板に対して成膜材料を被着させる成膜装置であって、前記基板に成膜材料を被着させる第１の成膜室と、前記第１の成膜室よりも前記基板の移動方向の下流側に配置され、前記第１の成膜室から搬送される前記基板をストックすることにより、下流側への前記基板の搬送を一時的に中断させることが可能なバッファ室と、前記バッファ室よりも前記基板の移動方向の下流側に配置され、搬送されてきた前記基板に成膜材料を被着させる第２の成膜室と、を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】任意の異種金属組成の合金を形成することが可能な合金製造方法および合金製造装置の提供。
【解決手段】異種金属をそれぞれの元素ごとに坩堝２３ａ，２３ｂに収容し、高周波誘導コイル４０ａ，４０ｂによって個別に高周波誘導加熱することにより蒸発させ、基板２０上に同時に蒸着させることにより、基板２０上に異種金属の合金を形成する。このように、異種金属をそれぞれの元素ごとに個別に高周波誘導加熱することにより、異種金属それぞれの蒸発量を、高周波誘導加熱条件によってこと細かく調整することが可能となるので、これらの異種金属を基板２０上に同時に蒸着させ、任意の異種金属組成の合金を形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】膜厚を光学的に測定する有機ＥＬ用の光学式膜厚測定装置において、簡素な構成で正確に膜厚を測定する。
【解決手段】構造体に成膜される有機薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置において、少なくとも成膜中に構造体に所定の波長の照射光を投光する手段、照射光に対する構造体からの反射光強度又は透過光強度を検出する手段、及び反射光強度又は透過光強度に基づいて有機薄膜の膜厚を特定する手段からなり、所定の波長が、有機薄膜を構成する有機物の吸収スペクトルについて、吸光度のピーク値に対して２０％以下、好ましくは１０％以下、の吸光度を与える波長範囲に含まれるようにした。 （もっと読む）

本発明は、その上に薄く滑らかで緻密なコーティングまたは膜を有する光学素子の調製、およびそのようなコーティングまたは膜を製造する方法に関する。被覆素子は、＜１．０ｎｍ ｒｍｓの表面粗さを有する。コーティング材料としては、酸化ハフニウムまたは酸化ハフニウムと別の酸化物材料、例えば、二酸化ケイ素との混合物が挙げられる。本発明の方法は、回転している基板上にコーティングまたは膜を堆積させるための逆マスクの使用を含む。
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【課題】無加熱、又は低温法のスパッタリングにより、透明基板の片面上に形成された遮光膜及び着色層からなるカラーフィルタパターン層上に、外部磁極と中心磁極によるスパッタカソードの磁気回路部を備えたスパッタリング装置を用いて透明導電膜を形成するカラーフィルタの製造方法において、透明導電膜の成膜時、無加熱、又は低温法でのスパッタリングでも膜強度・耐環境性・基板の表面段差へのステップカバレッジに優れた透明導電膜を形成できるカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電膜の成膜時、無加熱、又は低温法であって、スパッタカソードの磁気回路部の外部磁極の磁力が中心磁極の磁力より大きく非平衡としたスパッタリングの製造条件を用いて透明導電膜を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板Ｇに成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部において、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備え、第１成膜機構３５は、処理容器３０の内部に配置された、成膜材料の蒸気を基板に供給するノズル３４と、処理容器の外部に配置された、成膜材料の蒸気を発生させる蒸気発生部４５と、蒸気発生部４５で発生させた成膜材料の蒸気をノズル３４に送る配管４６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】有機EL素子などの製造工程で形成される各層における相互汚染を回避でき、しかも、フットプリントも小さく、生産性の高い成膜システムを提供する。
【解決手段】基板に成膜する成膜装置１３であって、処理容器３０の内部に、第１の層を成膜させる第１成膜機構３５と、第２の層を成膜させる第２成膜機構３６を備える。処理容器３０内を減圧させる排気口３１を設け、第１成膜機構３５を、第２成膜機構３６よりも排気口３１の近くに配置した。第１成膜機構３５は、例えば基板に第１の層を蒸着によって成膜させ、第２成膜機構３６は、例えば基板に第２の層をスパッタリングによって成膜させる。 （もっと読む）

【課題】内部の任意の位置に温度センサを組み込むことができる軸受装置を提供する。
【解決手段】有機膜ＴＳａ上に、薄い抵抗パターンＴＳｂを形成しているので、極めて薄くできることから、軸受装置１０の内部において、精度良く温度を測定したい部位もしくはその近傍に配置できる。従って、レスポンスの良い温度測定を通じて、異常な温度上昇が予兆として現れる軸受装置に生じる不具合を精度良く予測することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】薄膜蒸着用の回転蒸着源及びこれを用いる薄膜蒸着装置を提供する。
【解決手段】上面は開放され、内部には蒸着物質を入れる坩堝、及び該坩堝を加熱する加熱部を備える蒸着源において、外部から供給される所定の動力を用いて蒸着源を回転させる所定の回転手段を備える回転蒸着源。蒸着しようとする基板、該基板の蒸着が不要な部分を遮蔽し、基板の必要な部分のみを蒸着させる基板に結合されるマスク、基板とマスクとを支持している基板チャッキング装置及び所定の回転手段を用いて回転される蒸着源を備え、該蒸着源は、上面は開放され、内部には蒸着物質を入れる坩堝及び該坩堝を加熱する加熱部を備える回転蒸着源を用いる薄膜蒸着装置。 （もっと読む）

【課題】内部の任意の位置に温度センサを組み込むことができる軸受装置を提供する。
【解決手段】本実施の形態によれば、基板ＴＳａの裏面に金属薄膜により配線ＴＳｃ、ＴＳｄを形成したので、大きなスペースを必要としないため、軸受装置の内部に任意に配置することができ、精度良く軸受内部の温度測定を行うことができる。又、配線の半田付けなどが不要であるため、本実施の形態の温度センサＴＳは量産性に優れている。配線ＴＳｃ、ＴＳｄへの結線は、相手部品の各端子への圧着などにより行うことができる。 （もっと読む）

【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の生産性を向上させることのできる真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス材料１を蒸発させるための蒸着源１０に接続パイプ２１を接続し、２つの分岐パイプ２２ａ、２２ｂを基板３１ａ、３１ｂとマスク３２ａ、３２ｂからなる２つの被成膜物に向けてそれぞれ有機蒸着膜形成を行う。異なる平面上の複数の被成膜物に蒸着源１０からの蒸気を同時に放出し、成膜することで、成膜時間の短縮および装置の小型化を促進する。 （もっと読む）

【課題】主としてプラスチック材料で構成された基材を備え、電磁波（電波、光）の透過性に優れるとともに、美的外観に優れた装飾品を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】本発明の装飾品１の製造方法は、主としてプラスチック材料で構成された基材１２を準備する工程と、基材１２上に酸化物被膜１３を形成する酸化物被膜形成工程と、酸化物被膜１３上に所定のパターンで開口部２１が設けられたマスク２を配した状態で、気相成膜を行うことにより、所定のパターンで開口部１６が設けられた金属被膜１４を形成する工程と、マスク２を除去する工程と、コート層１５を形成する工程とを有している。金属被膜１４の形成は、マスク２として磁性材料で構成されたものを用い、基材１２のマスク２に対向する面とは反対の面側に配された磁石により、マスク２と、酸化物被膜１３が設けられた基材１２とを密着させた状態で行う。 （もっと読む）

【課題】 基板がチャンバ内に輸送されるプロセス中に汚染されないマスクが設置された輸送装置を提供する。
【解決手段】 蒸着プロセス中に基板を輸送する輸送システムであって、前記基板を保持するロボット、および前記ロボットに設置され、前記基板が前記ロボットによって輸送される時、前記マスクが前記基板を覆うマスクを含む輸送システム。 （もっと読む）

【課題】低エネルギーで金属を含む機能膜をレーザーアブレーション法により製造する方法と、それに用いる組成物の提供。
【解決手段】基板上１０１に、金属元素を含んでなる微粒子１０３と有機分散媒１０４とを含んでなるレーザーアブレーション加工用組成物を塗布して前記組成物の層１０２を形成させ、レーザー光を像様に照射して、照射された部分の前記組成物を除去し、基板上に残留する前記組成物の層を焼成することを含んでなることを特徴とする、レーザーアブレーションによる機能膜の製造法と、それに用いるレーザーアブレーション加工用組成物。 （もっと読む）