【課題】 基板の反りの発生を抑制することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明に係る成膜装置は、気相成膜法により基板（２５）上に膜を成膜する成膜装置であって、基板（２５）を基板（２５）の面方向に摺動可能に保持する保持手段（１０）を備えることを特徴とするものである。本発明に係る成膜装置によれば、基板（２５）は、保持手段（１０）によって基板（２５）の面方向に摺動可能に保持されている。この場合、基板（２５）と膜との間の熱膨張率差に起因する応力が基板（２５）の摺動によって分散される。それにより、基板（２５）の反りが緩和される。その結果、膜に欠陥が生じることが抑制される。 （もっと読む）

【課題】優れた防曇性を有し、かつ、強度も高い防曇膜の形成方法を提供する。
【解決手段】無機酸化物を主成分とする防曇膜を気相成膜法によって形成するに際し、防曇膜を形成する基板１２の法線と、防曇膜の材料粒子が前記基板に入射する入射方向とが成す角度を２０〜８５°として、防曇膜の形成を行う。さらに基板と材料源との距離を１００〜２０００ｍｍとし、成膜圧力を５ｘ１０-4〜５ｘ１０1Ｐａとし、基板温度を６００℃以下に制御する。 （もっと読む）

【課題】合成樹脂で形成された光学素子に光学膜を形成する際に、光学膜形成用治具内で光学素子の位置が変動しても、被接着部位である周縁部に充分に光学膜を形成でき、接着強度の確保できる光学素子及び光学膜形成用治具を得る。
【解決手段】合成樹脂からなり、光学機能面と、該光学機能面の外周部に形成され他部品と接着される被接着部位とが一体的に形成された円形状の光学素子に、光学膜を形成するための穴部及び光学素子の落下防止のための受け部が形成された光学膜形成用治具において、受け部が、少なくとも３箇所の半径方向に延伸された突起部で構成されている光学膜形成用治具とする。 （もっと読む）

【課題】マスク部材の着脱を容易にするとともに、熱膨張差を吸収し、成膜面積を一定に保つことのできる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板保持枠１４に基板を保持するとともに基板の周縁をマスク部材１４で覆って成膜処理を行う基板搬送装置であって、基板保持枠１４にマスク部材１３を着脱可能に押圧保持するプランジャ機構１４，１５を備えるようにした。 （もっと読む）

【課題】蒸着材料の利用効率をたかめ、有機化合物を含む層を有する発光装置の製造コストを低減するとともに、発光装置の製造に要する製造時間を短縮させることを課題とする。
【解決手段】成膜室内を減圧下とし、導電表面基板への通電によって、導電表面基板を急速に加熱し、導電表面基板上の材料層を短時間に蒸発させ、被成膜基板に蒸着し、被成膜基板上に材料層を成膜する。なお、急速に加熱する導電表面基板の加熱面積は、被成膜基板と同等のサイズとし、１回の加熱で１枚の被成膜基板への成膜を終了させる。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも高品質な被膜を形成する。
【解決手段】 この発明に係る支持具１０は、支持具本体３０と、この支持具本体３０の円筒状部３４を覆う概略筒状のカバー７０と、を備えている。そして、カバー７０には、円筒状部３４の内孔３８と連続する貫通孔７８が設けられており、これによって、被処理物２０の一部が挿入される挿入孔１２が形成されている。さらに、カバー７０の先端部７２は、テーパ状に形成されている。この構成によれば、成膜処理時に、イオン粒子１１８が支持具１０の表面、特に先端面７４、に衝突することによって当該先端面７４から被膜９０の粒子１２４および１２６が叩き出されたとしても、この叩き出された粒子１２４および１２６が被処理物２０の表面に再付着することはない。従って、当該再付着に起因する被膜９０の剥離が防止され、高品質な被膜９０が形成される。 （もっと読む）

【課題】搬送アームに起因する不良製品が発生した場合、発生原因となった搬送アームを容易に特定することを可能にする。
【解決手段】搬送室１１〜１３には、複数の処理室が連結されている。処理室としては有機ＥＬ層を成膜するＢＥＬ蒸着室２５、ＲＥＬ蒸着室２６、ＧＥＬ蒸着室２７等がある。各搬送室１１〜１３には、基板を保持する保持部３２ａ〜３２ｃを備えた搬送アーム３１が設けられ、保持部３２ａ〜３２ｃはそれぞれ異なる形状に形成されている。製品に搬送アーム３１が原因の不良品が発生した場合、不良品の不良箇所の形状を各搬送アーム３１の保持部３２ａ〜３２ｃの形状と比較することにより、不良原因の搬送アーム３１を容易に特定することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】真空蒸着装置等の真空成膜装置において、防着部材の大型化を招くことなく、厚膜の成膜を行なう際にも、防着部材を超えて回り込む蒸気が真空チャンバの内壁等に堆積／付着することを防止する。
【解決手段】基板もしくは基板保持手段と、防着部材都を接触させて、防着部材と基板保持手段等とによって、蒸発源および基板を内包し、かつ成膜面を対面させる略気密空間を形成することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】短時間で効率よく薄膜５１を形成できる薄膜形成装置１を提供する。
【解決手段】ＶＤＦオリゴマー３３が配置された蒸着源３０と被蒸着基板１０とを離間させた状態で前記蒸着源３０を加熱し、前記被蒸着基板１０と前記蒸着源３０が離間する離間状態から、前記被蒸着基板１０と前記蒸着源３０のとの少なくとも一方を移動させて、前記被蒸着基板１０の薄膜形成面１１と前記蒸着源３０のＶＤＦオリゴマー供給面３２が断熱マスク２０を挟んで対向し近接する近接状態に変化させ、前記近接状態で前記ＶＤＦオリゴマー３３の薄膜５１を前記薄膜形成面１１に蒸着する。 （もっと読む）

【課題】成膜効率の高い成膜装置を実現する。
【解決手段】板状の反転治具５７に基板Ｗを複数保持し、基板を保持する４枚の反転治具５７を保持する基板ホルダ５０を、真空チャンバー内に基板Ｗと蒸着源とが対向するように配置し、真空蒸着を開始する。蒸着源と対向する基板Ｗが成膜された場合、基板ホルダ５０を９０度回転させる。１面が成膜された反転治具５７を、反転治具５７と一体になったゼネバ５８１を回転させることで反転させる。全ての反転治具５７の両面が成膜されるまで、真空蒸着を継続する。 （もっと読む）

【課題】基板を保持する保持具における付着物の剥離を十分に抑制することができる積層膜形成システム、そのような積層膜形成システムで使用されるスパッタ装置、および、上記の積層膜形成システムで実行される積層膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板上にスパッタ法によって磁性膜を形成するスパッタ装置と、この磁性膜の表面にカーボン保護膜を形成するＣＶＤ装置とを有し、基板上に磁性膜とカーボン保護膜とからなる積層膜を形成する積層膜形成システムにおいて、スパッタ装置が、磁性膜の形成に際して基板保持具２２０と磁性物質ターゲット２３０との間に位置し、基板保持具２２０において基板Ｐを囲む枠２２１のうち、この基板保持具２２０が立てられるときに基板Ｐの上に位置する部分を除いた部分に限って、磁性物質ターゲット２３０からの磁性物質を遮るシールド２４０を備えた。 （もっと読む）

【課題】粉体全面に均一に金属微粒子を担持せしめるための同軸型真空アーク蒸着装置を用いた粉体攪拌機構、金属微粒子担持粉体の作製方法及び燃料電池用触媒を提供する。
【解決手段】粉体用容器１の上方近傍に設けられた突き当て部材３と、突き当て部材に容器を突き当てるために容器を揺動させるための揺動機構とを有する粉体攪拌機構及びこの攪拌機構と同軸型真空アーク蒸着源２とを備えた同軸型真空アーク蒸着装置を用いて金属微粒子担持粉体を作製する。この金属微粒子担持粉体からなる燃料電池用触媒を提案する。 （もっと読む）

【課題】複雑な外形を有する加工物の全面に所望通りに被覆材料を付着させる装置を提供する。
【解決手段】加工物に真空めっきを施す装置１０は、被覆材料を内包し、高温かつ準大気圧で作用しうるめっきチャンバと；めっきチャンバ内および被覆材料上に電子ビームを照射し、被覆材料を溶解させ溶融被覆材料を気化させるよう作用しうる電子ビーム銃と；めっきチャンバ１４内における加工物１２の支持および操作を行う機構３４とを含む。支持機構３４は、加工物を保持する結合装置５８と；加工物の全方向の移動を可能にする継手と；結合装置５８と継手とを接続する中間部材と；加工物を所定の垂直面６６内において移動させる装置とをさらに含む。支持機構３４は、中間部材に接続し加工物を所定の水平面において移動させる装置９２を含みうる。 （もっと読む）

【課題】手間をかけずにメンテナンスをすることが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】一次射出によりそれぞれ成形された半製品同士を突き合わせた後、その突き合わせ部に二次射出して製品の一体化成形が可能に構成された一対の金型５１，５２のいずれか一方に設けられ、半製品を成膜する成膜チャンバ５７を備えた成膜装置４０において、成膜チャンバ５７が、金型５２から着脱自在に取り付けられている。 （もっと読む）

基板堆積のためのシステムを提供する。このシステムはウェハパレット及びアノードを含む。ウェハパレットは下部及び上部を有する。ウェハパレットの上部は基板ウェハを保持するように構成される。アノードはウェハパレットに対して実質的に固定した位置を有し、堆積チャンバを通ってウェハパレットと共に移動するように構成される。アノードは基板ウェハから電気的に絶縁される。 （もっと読む）

【課題】ワーク自公転方式の優れた特徴を活かし、高均一膜と高生産性を同時に達成することが可能な薄膜処理装置を提供すること。
【解決手段】ワークを自公転させる歯車機構を１つの搬送できるモジュールとすることにより、モジュールをロードロック室からスパッタ室へ搬送する機構及び、スパッタ室にてモジュール内の固定ステージを固定する外串と、回転ステージに回転駆動を伝達する回転部を設置することにより、ワークを高速自公転することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ポストファイヤー型の静電チャックでは、二つの問題がある。
一つは、電極を挟んだ二枚のセラミックス板の側面に、電極膜厚に相当する外部に連通する隙間が発生することである。もう一つは、電極が双極の場合、電極間が空隙になるために、高電圧を印加すると、電極間で放電がおこり易くなる問題である。
【解決方法】 セラミックスからなる二枚の絶縁層の間に内部電極層を挟み、該内部電極層を溶融して該二枚の絶縁層をロー付した構造の静電チャックにおいて、該接合された二枚の絶縁層に挟まれた空間の中の、該内部電極の存在しない空間部分に、一層あるいは一層以上の積層構造からなり、かつ少なくとも上下の層が接着性材料からなる電気絶縁性接合材を挟んで、該接着性材料で、該内部電極の存在しない空間部分を充填、接着してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 輸送にも便利で、かつ、コンパクトで前処理工程に適する真空チャンバを提供する。また、前記真空チャンバを備えたロードロックチャンバ及び処理装置を提供する。
【解決手段】 貫通穴１０ａ〜１０ｃが形成された略直方体のチャンバ部材１１ａ〜１１ｃを２以上備え、前記チャンバ部材１１ａ〜１１ｃのうち、少なくとも１のチャンバ部材の貫通穴の一方の口が形成されている面に、シール部材の装着を可能とする溝が形成され、この溝にシール部材を装着して、隣接するチャンバ部材の各貫通穴が連通するように、チャンバ部材を２以上接合してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】装置構成を複雑化せずに成形および成膜を確実に行うことができる成膜成形装置を提供する。
【解決手段】成形体にマスキングを必要とする成膜を行う成膜成形装置５０において、上型１２と下型１１とからなる一対の金型１０を突き合わせることで形成される空間部に材料を射出して成形体を成形し、下型１１におけるマスキングが必要な領域に対応した位置に凹部１５が形成され、上型１２における凹部１５に対応した位置に、型締め時に凹部１５を閉塞する凸部１４が形成されている。 （もっと読む）

【課題】作業性を低下させることなく成膜を行うことができる成膜成形装置を提供する。
【解決手段】一対の成形体用金型５１，５２に、一対の成形体を射出成形するための射出成形用型締め位置ａと、成形体に成膜するための成膜用型締め位置ｂとが設定され、一対の成形体が一体成形可能に構成されている成膜成形装置において、射出成形用型締め位置ａにおける型締め力よりも成膜用型締め位置ｂにおける型締め力の方が小さく設定されている。 （もっと読む）