【課題】他の部材に接着させて使用され、高いガスバリア性を有する蒸着フィルムを製造する方法を提供する。
【解決手段】フィルム状の基材１の上に、印刷層５、蒸着層２、接着層３がこの順で形成され、他の部材と接着させて使用される蒸着フィルム４の製造方法であって、基材搬送手段によって、あらかじめ、印刷層５が形成された基材１を真空蒸着装置２１に導入しつつ、真空蒸着装置２１において、導入された基材１に対し蒸着層２を蒸着し、さらに基材搬送手段によって真空蒸着装置２１から搬出された蒸着層２が蒸着された基材１の当該蒸着層２の上に接着層形成手段によって接着剤を塗布して接着層３を形成し、真空蒸着装置２１に導入される基材１には、印刷層５と蒸着層２との間にアンカーコート層６が形成され、アンカーコート層６は、印刷層５におけるインキ粒子の凹凸を平滑化する厚さを有する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面および処理を施した面の損傷を防止し、かつ、生産性も向上することができる原反ロール、この原反ロールの製造方法、および、この原反ロールを使用する基材処理方法を提供する。
【解決手段】長尺なシート状基材の被処理面を当接して積層し、巻回してなる原反ロールを用い、この原反ロールを長手方向に搬送しつつ分離して、個々の基材に処理を施すことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】平面性に優れかつ生産性にも優れる両面金属ベース層付耐熱性樹脂フィルムを効率よく製造できる成膜方法及びスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】この第１成膜工程に続いて、上記他方の面（第１成膜面）を第２冷却ロール３９に接触させて冷却すると共に、この接触している他方の面とは反対側の一方の面（第２成膜面）に成膜する（第２成膜工程）。この第２成膜工程に続いて、上記一方の面（第２成膜面）を第３冷却ロール４０に接触させて冷却すると共に、この接触している一方の面とは反対側の他方の面に成膜する（第３成膜工程）。これらの工程を順に繰り返しながら、耐熱性樹脂フィルム３２に複数の薄膜を重ねて成膜する。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを有効使用できるとともに、成膜領域の温度の変動を抑え、均一な膜質及び特性の薄膜を安定して成膜することのできる成膜装置および成膜方法の提供。
【解決手段】本発明の成膜装置２０は、レーザ光Ｌによってターゲット３１から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を基材２５上に堆積させ、基材２５上に薄膜を形成する成膜装置２０であって、基材２５に対向するように配されたターゲット３１と、ターゲット３１の外周面を取り囲んで設けられたターゲット保持部材３２と、ターゲット３１にレーザ光Ｌを照射するレーザ光発光手段２８とを少なくとも備え、ターゲット保持部材３２が、熱伝導率４０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以下、融点２０００℃以上の材料より形成されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 リチウム膜の性能の向上を実現しうるリチウム積層部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバー１０内で、気相成長法により、基材フィルム２１（基材）上にリチウム膜２２を堆積させて、リチウム積層フィルム２３（リチウム積層部材）を作成する。その後、リチウム膜積層フィルム２３を電子デバイスの一部として利用するための処理を行う。リチウム積層フィルム２３を収納する特定容器内の雰囲気を、不活性ガスと、ＣＯ_２と、露点が−２０℃未満となる水分とを含む特定雰囲気に調整する。特定容器としては、真空チャンバー１０，作業室１１，パスボックス１２（中間室）などがある。これにより、リチウム膜を利用した電池の変色防止性能，保存特性，電池容量などの特性の向上が実現する。 （もっと読む）

【課題】光電変換層がセレンを含有する場合、基板裏面へのセレンの回り込み、更にはセレンの付着を抑制した成膜装置、およびこの成膜装置により成膜された光電変換層を有する太陽電池を提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、成膜チャンバ内に基材を搬送する搬送手段と、成膜チャンバ内を所定の真空度にする真空排気手段と、搬送される基材に光電変換層を形成する真空成膜手段と、基板において光電変換層が形成される側の面における搬送方向と直交する幅方向の両端に、前記搬送方向に沿って設けられた、温度調節機能を備えたマスクとを有する。搬送手段により基材が搬送されて真空成膜手段により基材に前記光電変換層が形成される。 （もっと読む）

【課題】光電変換層がセレンを含有するものである場合、そのセレンの使用量を低減するとともに、成膜チャンバ内におけるセレンの付着を抑制した成膜装置、およびこの成膜装置により成膜された光電変換層を有する太陽電池を提供する。
【解決手段】成膜チャンバ１１内に基材を搬送する搬送手段と、成膜チャンバ内を所定の真空度にする真空排気手段４０と、搬送される基材に光電変換層を形成する真空成膜手段と、成膜チャンバ内に設けられた成膜室１４，１６，１８とを有する。成膜室は温度１８０℃以上に温度調節された加熱壁３６と温度８０℃以下に温度調節された冷却壁３８とにより構成され、この成膜室に真空成膜手段が設けられている。成膜室に基材が搬送されて真空成膜手段により基材に光電変換層が形成される。 （もっと読む）

【課題】特別な製造装置を用いることなく、スパッタリング法による基材への銅薄膜の成膜方法において成膜速度を向上せる成膜方法を提案する。
【解決手段】スパッタリング法による基材への銅薄膜の成膜方法において、成膜雰囲気が、６０体積％から９５体積％のアルゴンガスと、窒素原子と水素原子の結合を有する分子のガスの混合雰囲気下で行うことを特徴とする。窒素原子と水素原子の結合を有する分子のガスは、アンモニアガスを用いることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】形成した薄膜のひび割れ耐性、可撓性に優れ、低抵抗で高光透過性の積層型透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルムの上に、第１のＩＴＯ膜（Ａ_１）、金属膜（Ｍ）、第２のＩＴＯ膜（Ａ_２）をこの順で積層した積層膜ユニットを有する積層型透明導電性フィルムであって、該透明プラスチックフィルムの厚さが、１００μｍ以上、１５０μｍ以下であり、該第１のＩＴＯ膜（Ａ_１）の膜厚をｈ_Ａ１とし、該第２のＩＴＯ膜（Ａ_２）の膜厚をｈ_Ａ２としたとき、ｈ_Ａ１＞ｈ_Ａ２の関係を満たし、かつ該積層膜ユニットの総膜厚が、１００ｎｍ以下であることを特徴とする積層型透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】巻取り体の端面からのガス供給装置を設置することなく、大気開放時にゴミの流入を防止し、且つ、巻取り部材を非接触状態で維持する非接触巻取り体の製造方法。
【解決手段】５．０×１０^−４Ｐａ以下の圧力条件に保たれた真空容器の内部で、基板の端部に直接突起形状を複数設ける工程、または、少なくとも片面に突起形状を複数設けたテープ状フィルムを該基板の両端に共巻する工程を有し、次いで、前記真空容器を前記圧力条件〜大気圧条件に大気開放する工程を有する非接触巻取り体の製造方法において、該大気開放する工程が、真空状態から１．０×１０^−３Ｐａ／秒〜０．１Ｐａ／秒の速度で１Ｐａ〜１０Ｐａの圧力範囲に装置内を調整する第１の圧力調整工程と、次いで、１．０×１０^１Ｐａ／秒〜５．０×１０^２Ｐａ／秒以下の速度で大気開放する第２の圧力調整工程を有することを特徴とする非接触巻取り体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リチウムを真空雰囲気で蒸着するので工程が簡単になり、蒸着速度と蒸着の均一性を改善することのできる、ロールツーロール工程を用いた電極製造装置及び電極製造方法を提供する。
【解決手段】本電極製造装置は、電極物質を走行させる巻出ロール及び巻取ロールと、巻出ロールと巻取ロールとの間に配置されて電極物質をその周面に沿って走行させ、電極物質を冷却する冷却ユニットを備えた成膜ロールと、リチウム源を収容し、収容されたリチウム源が成膜ロール上に位置する電極物質にリチウム薄膜を形成するように取り付けられた蒸発部とを含む。 （もっと読む）

【課題】成膜面にダメージを与えることなく、効率よく酸化物透明導電膜を成膜し、かつ装置コストを抑制する。
【解決手段】単一のスパッタ装置１を用いて成膜用基板Ｓ上に酸化物透明導電膜を成膜する方法であって、成膜中におけるスパッタ装置１の投入電力を一定とし、成膜時の圧力（Ｐ）、およびターゲットＴと成膜用基板Ｓとの距離（ｄ_ＴＳ）の積（Ｐ×ｄ_TS）で表される成膜パラメータを、酸化物透明導電膜の成膜開始時に６０Ｐａ・ｍｍ以上とし、酸化物透明導電膜の成膜途中に、成膜パラメータが６０Ｐａ・ｍｍよりも小さくなるように、成膜時圧力および／または距離を変化させる。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性を高めたガスバリア性シート及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材２と、その基材２上に設けられたガスバリア膜３とを少なくとも有し、ガスバリア膜３の基材２側の界面Ｓに強磁性元素が存在するように構成したガスバリア性シート１により、上記課題を解決した。この強磁性元素を、界面Ｓに散布状若しくは島状又は薄膜状に存在させることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、蒸着材料の蒸発量の安定化を図ることにより、蒸着フィルムの品質安定および生産性を向上させることができる蒸着装置を提供することにある。
【解決手段】真空チャンバーの内部に配置される蒸着材料に電子ビームを照射して前記蒸着材料を蒸発させて樹脂フィルム基材の下面に蒸着を行う成膜手段と、前記蒸着材料を支持して所定方向へ移動させる蒸着材料移動手段と、前記蒸着材料の下面の温度を測定する蒸着材料温度測定手段と、前記蒸着材料温度測定手段による材料温度測定値が、基準値未満であるときに前記蒸着材料移動手段による前記蒸着材料の移動速度を第１の移動速度とし、かつ前記材料温度測定値が前記基準値以上であるときに、前記蒸着材料移動手段による前記蒸着材料の移動速度を前記第１の移動速度より速い第２移動速度とする移動速度制御手段と、を具備することを特徴とする蒸着装置である。 （もっと読む）

【課題】蒸着する微粒子の粒径を所望の大きさにコントロールするため、基材の高精度温度制御可能な蒸着装置を提供する。
【解決手段】温度制御ユニット３２は、温度制御された液体または固体の熱媒体が供給される伝熱ブロック３４と、この伝熱ブロックの基材との対向面側に保持された伝熱ローラー３６と、基材と伝熱ブロックの間の空間にガスを供給するガス導入路３７と、を備え、この伝熱ローラーは、降下移動して基材の裏面に当接し、基材の移送に連動してこの移送方向と交差する軸を中心に回転するとともに、基材からの力で上昇移動が可能であって、伝熱ローラーおよび伝熱ブロックは、基材と熱媒体との間を、ガス、伝熱ローラーおよび伝熱ブロックを介して熱が伝播することにより、基材の温度を制御する。 （もっと読む）

【課題】 成膜効率の高いパターン成膜を行う。
【解決手段】 本発明のある態様のスパッタリング成膜装置においては、帯状の可撓性基板７を継続的に送り、円筒状のターゲット部４と基板７との間にマスク２５を配置して成膜処理を行う。マスク２５の開口は、基板７の給送方向に延びるように形成されている。加えて、本発明においては、基板７の給送動作に同期化させて回転ベルト式マスク２６を移動させる態様の成膜装置や、基板７の給送動作に同期化させて円筒状回転マスク３６を回転させる態様のスパッタリング成膜装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】Ｒｏｌｌ Ｔｏ Ｒｏｌｌ方式で、基材の搬送速度を非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することが可能な蒸着フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】蒸発源から蒸発させた珪素を含む蒸着材料に向けて、プラズマガンにより出力が３ＫＷから１２ＫＷの範囲内でＡｒプラズマを照射して、基材の被成膜面に上記蒸着材料よりなる酸化珪素を含む薄膜を成膜する。これにより、基材の搬送速度を１０ｍ／分以上２００ｍ／分以下の非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することができる。 （もっと読む）

【課題】真空下で金属箔又は合金箔に表面処理する際、熱によるシワを抑制した冷却ドラム及びそれを備えた真空処理装置、並びに表面処理方法を提供する。
【解決手段】真空下で、連続的に巻出し及び巻き取られる金属箔又は合金箔１０に表面処理する真空処理装置１に用いられ、表面に少なくとも４０％以上の被覆率で銅酸化物層２０ａが形成され、金属箔又は合金箔に密着して冷却を行う冷却ドラム２０である。 （もっと読む）

【課題】
優れた酸素遮断性能、水蒸気遮断性能、耐水密着性を有する蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムおよびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】
上記課題は、少なくとも片面に金属および／または金属酸化物からなる層が積層される態様で用いられる二軸配向ポリエステルフィルムであって、金属および／または金属酸化物からなる層が積層される面のＳＲａ（中心面平均粗さ）が１０ｎｍ以上２５ｎｍ以下であり、かつＳＰｃ（山数）が２５０個以上５００個以下であり、１５０℃・３０分における幅方向の熱収縮率が０．１％以上２．０％以下である蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムによって解決される。 （もっと読む）

【課題】Ｒｏｌｌ Ｔｏ Ｒｏｌｌ方式で、基材の搬送速度を非常に速い条件に設定しても、基材上に絶縁性の高品質な薄膜を成膜することが可能なプラズマアシスト付きの真空成膜装置を提供する。
【解決手段】真空容器内の上部に、成膜用ドラム１３に巻き掛けられた基材１１がその被成膜面１１０を下向きにして配設されるとともに、上記真空容器内の底部には、蒸着材料２を蒸発させる蒸着源１７と、この蒸着源から蒸発した上記蒸着材料に向けてプラズマを照射するプラズマガンとが、上記被成膜面の下方に配置されており、上記プラズマガンは、上記基材の流れ方向に対して直交する方向から、上記被成膜面に向けて配置されている。これにより、薄膜形成前の基材の被成膜面に対してプラズマを照射する前処理、プラズマアシストによる成膜、基材に形成された薄膜に対してプラズマを照射する後処理が１台で逐次連続的に行える。 （もっと読む）