【課題】複層クロムめっきよりも優れた耐焼付性を有すると共に複層クロムめっきと同等以上の加工性を有する溶射皮膜を備えるピストンリングの提供。
【解決手段】硬質相として炭化タングステン及び炭化クロムを含有し、金属結合相としてニッケルを含有する溶射皮膜を備え、前記溶射皮膜は、炭化タングステンの平均粒子径をＢＥＴ法で０．１５μｍ以上、且つ、０．４５μｍ以下の範囲で調整した硬質粒子を含む、造粒焼結法で作製された溶射粉末を、溶射することによって形成されていることを特徴とするピストンリング。 （もっと読む）

【課題】連続焼鈍炉用ハースロール周面の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、ロール周面に対する異物の付着を抑制する。
【解決手段】本発明の連続焼鈍炉用ハースロール１０は、ロール周面の周方向の表面粗度が、Ｒｓｋで０未満であることを特徴とする。これにより、ハースロール１０のロール周面の表面粗度の評価指標としてＲｓｋを用い、ロール周面の表面粗度をＲｓｋで０未満として、適切な粗度に調整できるので、ロール周面に対する異物の付着を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】成分汚染が生じ難く、それと共に半導体製造装置におけるパーティクルの発生を十分に減少させることのできる半導体製造装置用部材を提供する。
【解決手段】搬送アーム１の載置部材１６にセラミックを溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜にレーザービームを照射して、セラミック組成物を再溶融、再凝固させて変成させたセラミック再結晶物からなる高強度セラミック層５を形成し、半導体製造装置５０における外的要因により、載置部材１６から脱落する粒子を、半導体製造プロセスに影響を与えない程度に低減させる。 （もっと読む）

【課題】過大なクラックの発生を防止しつつ、十分な効果が得られる緻密化層を形成し、それ共にコストアップを招かない溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表層６の皮膜組成物を再溶融、再凝固させる高エネルギービームを、Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査する際に、走査方向へ向けて先行して走査させる先行レーザービーム２０と、この先行レーザービーム２０と同一軌跡上で追従して走査させる追従レーザービーム２１とで構成し、先行レーザービーム２０をＡｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査させながら照射すると共に、追従レーザービーム２１を当該先行レーザービーム２０で走査した被照射領域２２へ走査させながら重ねて照射し、当該被照射領域２２の表層６を緻密化する。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性や靭性に優れる他、皮膜の長寿命化に優れる製鉄設備用ロールを提供する。
【解決手段】ロール表面に、４〜１０質量％のＣｏと残部ＷＣからなるＷＣ−Ｃｏサーメット溶射材料を溶射して製鉄設備用ロールを製造する際に、η相の含有率が１０質量％以下であるＷＣ−Ｃｏ溶射材料を、フレーム温度を３０００℃以下としかつ、粒子速度を３００ｍ／ｓ以上とする高速フレーム溶射法によってＷＣ−Ｃｏ溶射皮膜を被覆成形するロールの製造方法。 （もっと読む）

【課題】塩酸，クロム酸，リン酸等の酸薬液飛散下での溶射皮膜の寿命を延長できる耐食性ロールおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】第１の方法は耐食性ロールであり、ロール１の表面に形成された第１層として硬化肉盛の溶接被覆層２と、第２層としてＮｉ系の超合金系による溶射被覆層３と、第３層としてＷＣ―ＮｉＣｒ溶射被覆層４と、セラミック系流体を被覆表面に流し込んで焼成した封孔処理層とを備える。第２の方法は耐食性ロールの製造方法であり、ロール１の表面に第１層として硬化肉盛溶接加工を行い、次いで、機械加工、研磨加工をおこない、次いで、第２層としてＮｉ系の超合金系による溶射加工を行い、次いで、第３層としてＷＣ―ＮｉＣｒ溶射加工を行い、次いで、研磨加工をおこない、次いで、セラミック系流体を被覆表面に流し込んで焼成する封孔処理を行う。 （もっと読む）

【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 （もっと読む）

【課題】安価であり、厳しい高温条件下においても伸縮性が高くかつ耐磨耗性を両立する溶射材料の提供する。
【解決手段】ＮｉＣｒ合金と、Ｃｒ₃Ｃ₂とを含み、造粒焼結法により粒子状に形成され、前記ＮｉＣｒ合金におけるＣｒ含有量が４０〜５０質量％である溶射材料。前記溶射材料は、Ｃｒ₃Ｃ₂を１００質量％とする場合のＮｉＣｒ合金の配合比が、２５〜３５質量％であるのが好ましい。また、基材の表面に、本発明の溶射材料を高速フレーム溶射することにより、前記基材上に溶射被膜を形成する方法も提供される。 （もっと読む）

【課題】 下地層なしに容易にかつ安価に基材表面を改質できる鉛フリーはんだ用部材の新たな製造方法と、その方法により製造した、基材と表面層の密着力が大きく、耐鉛フリーはんだ性の高い、表面改質をした鉛フリーはんだ用部材を提供する。
【解決手段】 本発明は、表面にWC-Co系サーメット溶射皮膜を形成した鉛フリーはんだ用部材に関するものであり、前記鉛フリーはんだ用部材としては、はんだ溶解槽または、はんだ撹拌羽が挙げられる。また、本発明は、鉛フリーはんだ用部材の金属基材の表面をブラスト処理により粗面化し、該表面にWC-Co系サーメット材料を溶射し、前記金属基材の表面に溶射皮膜を形成することを特徴とする前記鉛フリーはんだ用部材の製造方法に関するものである。 （もっと読む）

【課題】高温用途材の表面に耐熱性や耐高温摩耗性に優れる溶射皮膜を形成するときに有効な、サーメットからなる溶射粉末材料を得ること。
【解決手段】セラミック粒子と、その表面に被覆されている０．５〜１０ｍａｓｓ％のＷを含有し、かつ残部がＮｉであるＮｉ−Ｗ合金あるいはさらにＰやＢを含む耐熱合金の無電解めっき膜とからなるサーメット溶射粉末材料であって、粒径が６〜７０μｍの大きさである高温用途材被覆用サーメット溶射粉末材料およびその製造方法。 （もっと読む）

【課題】溶射効率のよい溶射用粉末を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、セラミックス粒子を含む溶射用粉末であって、セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以下であることを特徴とする溶射用粉末である。セラミックス粒子は造粒−焼結粒子であることが好ましく、セラミックス粒子の平均アスペクト比は１．３０以下であることが好ましい。また、溶射用粉末が追加セラミックス粒子を含んでもよく、追加セラミックス粒子のフラクタル次元の値が１．０８以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】ロール周面の溝底の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、溝底に対する異物の付着を低減する方法を提供する。
【解決手段】ロール周面に複数の溝１０が形成され、前記溝１０の底部１２の表面粗度の評価指標として、従来一般的なＲａやＲｚではなく、粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを用いる。Ｒｓｋは、溝底１２の粗さの評価指標として適切であり、Ｒｓｋで０未満である溶融金属めっき浴中ロールとすることにより、溝底１２に対する異物の付着を低減できる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、溶融材料をスリットから外部に吐出させるためのガイド部材を提供する。
【解決手段】本発明のガイド部材は、外部に溶融材料が吐出する境界のエッジ部に溶射法を用いて金属基材の表面に形成した超硬合金層に摩擦攪拌プロセスを施し、該超硬合金層に含まれる結合相の結晶粒を微細化することで改質された超硬合金改質層で形成される。このガイド部材は、溶融材料の押し出し成形に使用するＴダイに適しており、超硬合金改質層が形成されるエッジ部は、溶融材料を外部まで案内するＴダイのスリットの開口端側の内壁である。 （もっと読む）

【課題】ＨＶＯＦ溶射で得られる皮膜と同等又はより優れた皮膜特性を有する溶射皮膜を形成することが可能な、ＨＶＡＦ溶射用途で使用される溶射用粉末、及びその溶射用粉末を用いた溶射皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の溶射用粉末は、ＨＶＡＦ溶射により溶射皮膜を形成する用途で使用される溶射用粉末であって、コバルト及びクロムの少なくともいずれか一種を含む金属と炭化タングステンを含んだ造粒−焼結サーメット粒子からなり、造粒−焼結サーメット粒子の平均径は１〜３０μｍ以下、造粒−焼結サーメット粒子のセラミックスの含有量は６０〜９５質量％、造粒−焼結サーメット粒子を構成する一次粒子の平均粒子径が０．２〜６．０μｍ、造粒−焼結サーメット粒子を構成する金属一次粒子の個数平均径を同じ金属一次粒子の体積平均径で除することにより得られる値として定義する分散性の値は０．４０以下の溶射用粉末である。 （もっと読む）

【課題】基材基部の金属にさらなる処理をすることなく、縁部が鋭い直角に形成されたチャネルを、構成部品内に形成するための方法を提供する。
【解決手段】構成部品１００を作製する方法は、基材１１０の表面１１２上に一時的被覆を堆積するステップを含み、基材は中空の内部空間１１４を有する。方法は、基材の表面に溝１３２を形成するように、一時的被覆を通って基材を機械加工するステップを含む。溝は基部を有し基材の表面に沿って延びる。方法は、各溝を各中空の内部空間とそれぞれ流体連通して連結するように、溝のそれぞれの基部を通って、のアクセス孔を形成するステップを含む。方法は、溝を充填剤で充填するステップ、一時的被覆を除去するステップ、基材の表面の上に被覆１５０を配設するステップ、および溝および被覆がともに構成部品を冷却するための多数のチャネル１３０を画成するように、充填剤を溝から除去するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】
上記のような課題を解決するためになされたものであり、比較的コストを低く抑えて溶射することが可能であり、金属の酸化や金属酸化物の変質を抑え、基材との密着性に優れた、緻密な溶射皮膜を形成することができるＨＶＡＦ溶射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
金属、セラミックス又は樹脂が不活性ガス及び圧縮空気とともに粉末供給路に供給されると、ラバルノズルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に排出される。金属、セラミックス又は樹脂は比較的低温で、超音速でバレルを通過することにより、酸化や変質が抑えられ、緻密な溶射皮膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、耐食性と耐摩耗性に優れた緻密表面層をもつサーメット皮膜を形成する方法と、この方法によって得られるサーメット皮膜被覆部材とを提案すること。
【解決手段】導電性基材の表面に形成した非導電性セラミック溶射皮膜を電気亜鉛めっき液中に浸漬して、電気亜鉛めっき処理を行うことによって、前記セラミック溶射皮膜の気孔中にめっき析出亜鉛を充填することにより、めっき析出亜鉛を充填したサーメット皮膜を形成し、次いで、高エネルギー照射処理を施して、皮膜表面を再溶融して緻密表面層を生成させる方法と、このようにして得られる皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】摺動部材の耐摩耗性を高めることができる、さらには、相手材の摩耗量をも軽減することができる溶射皮膜を提供する。
【解決手段】Ｃｒ_３Ｃ_２とＮｉＣｒとの混合粉末の溶射によって形成された溶射皮膜を、Ｘ線回折チャートにおける、Ｃｒ_３Ｃ_２の面指数（１２１）のピーク面積に対するＣｒ_２Ｏ_３の面指数（０１２）のピーク面積の割合が２％以上１６％以下となるようにする。 （もっと読む）

【課題】高温に曝される物品に対して耐摩耗性及び低摩擦特性のコーティングための組成物を提供する。
【解決手段】該コーティングのための組成物は、炭化物、ホウ化物、又は、タングステン、アルミニウム、クロム、タンタル、モリブデン、バナジウム、ジルコニウム、ニオブ若しくはこれらの組合せからなる選択される少なくとも１種の元素の酸化物を含む硬いセラミック相、ニッケル、コバルト、鉄、銅、クロム、銀及びこれらの組合せからなる少なくとも１種の金属を含む金属のバインダー相、及び潤滑相を含む。 （もっと読む）

【課題】高温及び浸食環境に曝される基材に耐浸食性保護コーティングを施工するための組成、システム、及び方法を提供すること。
【解決手段】コーティング（１２）組成は、５ミクロン未満の平均粒度の金属炭化物相を有するサーメット材料を含む。コーティング（１２）は、約５ミクロン未満の平均表面粗さを有する。基材にコーティング（１２）を施工するシステム（１０）は、高速酸素燃料又は高速空気燃料システムと共に用いるよう構成された溶射ガン（１６）を含む。システム（１０）は更に、溶射ガン（１６）に供給されたサーメット材料を含み、該サーメット材料は、約５ミクロン以下の平均粒度を有する少なくとも約３４重量％の金属炭化物相を含む。金属炭化物相は、水、アルコール、有機可燃性液体、又は有機不燃性液体からなる群から選択された液体中に分散される。 （もっと読む）