【課題】従来に比べ、微細で深い溝パターンを形成可能なメタルマスクを提供すること。また、微細で深い溝パターンを有するガラス成形型を提供すること。
【解決手段】開口パターン部１０ａと非開口パターン部１０ｂとを有するメタルマスク１０の非開口パターン部１０ｂを、触媒金属１８が付与された下地層１２の表面に積層された無電解Ｎｉめっきまたは無電解Ｎｉ合金めっきよりなるめっき層１４と、めっき層１４の表面を被覆するＮｉＦ_２層１６とから構成する。このメタルマスク１０を介して型基材部２０表面をエッチングする工程を経て、溝部を有するガラス成形型とする。 （もっと読む）

【課題】柔らかい樹脂基板の表面にＡＤ法を用いてセラミックス、金属、半金属膜を直接形成できる製膜方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板にダメージを与えることなく材料粒子を粉砕する。第一の方法として、２つ以上の多数のノズルから構成され、それぞれのノズルから噴射されるエアロゾルを互いにぶつけ合うことで微粒子を粉砕して基板に膜を形成する。第二の方法として、基板に直接噴射するのではなく、粉砕板にエアロゾルを噴射することで間接的に微粒子を粉砕する。 （もっと読む）

【課題】ＡＤ法により圧電膜を形成した場合に、基板を加熱しなくても十分に高い圧電特性が得られる非鉛系セラミックス粉末、及びその製造方法、並びに当該セラミックス粉末から形成される圧電膜を備える圧電素子を提供すること。
【解決手段】構成元素として鉛を含まない化合物を主成分とするエアロゾルデポジション用セラミックス粉末であって、平均粒径が０．６μｍ以上１．７μｍ以下であり、かつ、格子歪が０．３以下であるセラミックス粉末。 （もっと読む）

【課題】十分に厚い金属膜をエアロゾルデポジッション法によって再現性よく成膜すること。
【解決手段】表面を露出した金属製の微粒子が集合した粉末をエアロゾル化し、
エアロゾル化した前記粉末を真空中で基板に向けて噴射すること。 （もっと読む）

【課題】
粒子流あるいは粒子噴流を用いて粒子を物質表面に埋め込んで、表面度平坦度、粒子の付着強度、埋め込み痕の形状、密度などの性状を向上させる方法を提供する。
【解決手段】
レーザーなどの光子熱源やジュール熱源を使い所定の物質表面を変形し易くして、粒子流あるいは噴流粒子を物質表面に噴射して粒子を埋め込むことにより加工後の表面平坦度、粒子の付着強度を高める。また、ジュール熱源条件やレーザーの出力、レーザー径、波長などを変化させて、埋め込み痕の形状、密度などの性状を向上させることにより、本発明の方法で作製されたデバイスの機能、性能の向上を高める方法とする。 （もっと読む）

【課題】低コストの製造設備により簡易かつ確実に多孔質体を形成可能な多孔質体形成方法等を提案する。
【解決手段】材料粉末をＡノズル１１Ｎから所定温度の作動ガスＧとともに高速噴射して基材Ｂ上に堆積させて多孔質体を含む皮膜Ｒを形成するコールドスプレー工程と、多孔質体を基材Ｂから分離する多孔質体分離工程と、を有する。また、絶縁油中に浸漬した電極と被加工物との間に放電を発生させて電極の形成材料を被加工物の表面に溶着させて皮膜を形成するマイクロスパークコーティング装置において、上記多孔質体を電極として用いる。 （もっと読む）

【課題】実質的なクラスター生成効率を高めたクラスター生成装置を提供する。
【解決手段】エネルギー照射を受けてクラスター構成物質を放出する放出源を減圧室内に配置し、該放出されたクラスター構成物質のイオンを冷却ガスとの接触下でクラスター化させてイオンクラスターとし、生成した該イオンクラスターを該減圧室のクラスター出口から室外へ供給するクラスター生成装置において、
上記放出源から上記クラスター出口に至る軸線を取り巻く環状の電極、および
上記イオンクラスターの帯電極性と同じ極性の電位を上記電極に印加する直流電源
を備えたことを特徴とするクラスター生成装置。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１の製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、Ａｕを主成分とし、６．０〜９．０ｗｔ％のＰｄ、６．０〜８．０ｗｔ％のＡｇ、および、７．０〜９．０ｗｔ％のＩｎを含むＡｕ−Ｐｄ−Ａｇ−Ｉｎ系合金をターゲットとして用いた乾式めっき法により、第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】装飾部品の表面にＡｕを含有する硬質膜であり、特に金固有の光沢と色調を有し、耐摩耗性の高い高品位であることを特徴とした金色装飾部品を提供すること。
【解決手段】Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物で構成された下地層と、Ａｕ、または任意組成のＡｕ−Ｎｉ合金、Ａｕ−Ｃｕ−Ｐｄ合金などＡｕ合金からなる仕上層と、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆのうちから一種類以上の金属からなる窒化物、炭化物もしくは炭窒化物から成る保護層とから構成される硬化層を形成させることにより、効果的に金固有の光沢と色調を有し、耐摩耗性に優れた高品位の金色装飾部品が達成される。 （もっと読む）

【課題】ＴＢＣ膜の表面の色むらを解消することができる遮熱コーティング構造、ガスタービン高温部品、ガスタービンを提供する。
【解決手段】本発明に係る遮熱コーティング構造は、耐熱合金基材１１上に成膜してなるボンドコート層１２とセラミックス層１３とからなる遮熱コーティング膜（ＴＢＣ膜）１４と、該遮熱コーティング膜１４の表面に形成され、色むらを調色する調色膜２０とからなり、前記調色膜２０が、耐熱性の微粒子と、該微粒子の１〜３倍量の耐熱性の粗粒子とのスラリーを塗布し、乾燥してなるもの。 （もっと読む）

【課題】耐エロージョン性と耐コロージョン性に優れた蒸気タービン翼およびその表面改質方法を提供する。
【解決手段】蒸気タービン翼１のエロージョンまたはコロージョンが発生する部位（２）に電子ビーム照射により表面改質処理を施して形成した高硬度層３を有し、この高硬度層３は平滑化した表面を有する構成とする。 （もっと読む）

【課題】金属基材から輻射体への熱抵抗を小さくし、輻射による放熱量を大幅に増加させた炭素被覆材の製造方法及び炭素被覆材を提供する。
【解決手段】炭素材料を噴き付けるエアロゾルデポジッション法により、エアロゾルデポジッション装置１のチャンバー２内に保持された金属製の基材５上に、エアロゾル供給装置７の生成容器７ａ内で生成した炭素材料の粉体と搬送流体から構成されるエアロゾロを噴きつけて、炭素被覆層を形成する。 （もっと読む）

【課題】電極３とワークＷにおける被処理部Ｗａとの間の放電を安定させて、均一な被膜を形成することができ、放電表面処理の品質を向上させること。
【解決手段】先端側に電極３を突当て可能な突当て部１３を有した保持具本体７と、電極３を保持具本体７の突当て部１３に対して固定する固定部材１９，２３と、を備え、保持具本体７に加工液供給源２５から加工液Ｌを供給するための加工液供給通路２７が形成され、固定部材１９に電極３の内側から電極３の先端側に向かって加工液Ｌを噴出する加工液噴出孔３１が形成され、加工液噴出孔３１は加工液供給通路２７に連通可能であること。 （もっと読む）

【課題】バルク状に凝固する非晶質合金で作られたブレード及びメスのような、改良された鋭く刃がつけられた切削工具であり、向上させた鋭利性と耐久性とが要求される切削ブレードまたは工具を提供する。
【解決手段】鋭く研いだ切刃を有するブレード部３０とボディ部２０とを含む切削工具１０であって、前記ブレード部と前記ボディ部のうちの少なくとも一方が、下記の分子式：(Ｚｒ,Ｔｉ)ａ(Ｎｉ,Ｃｕ,Ｆｅ)ｂ(Ｂｅ,Ａｌ,Ｓｉ,Ｂ)ｃ(Ｎｂ,Ｃｒ,Ｖ,Ｃｏ)ｄで表される組成を有するバルク状の非晶質合金から作られており、at％で、ａは３０〜７５、ｂは５〜６０、ｃは０〜５０、ｄは０〜２０であり、前記バルク状の非晶質合金は、弾性限が１．２％以上であり、少なくとも一部の厚みが０．５ｍｍ以上である切削工具。 （もっと読む）

【課題】プラズマ電子銃を用いた電子ビーム照射装置は、比較的大きな面積をシングルパルスで同時に照射するから、優れた表面改質結果が得られ、研削、放電加工の後工程に利用される。しかし、電子ビームパルスの深部貫入性と電子飛程により改質表面に現出する噴口（crater）の生成を防止するのは難しかった。そこでこの発明は前記噴口（crater）生成を抑制する電子ビームパルスの照射方法を提供する。
【解決手段】前記プラズマ電子銃を用いた電子ビームパルスの先頭部が高い加速電圧で短い時間幅であり、この先頭部に連続して続く後続部の電子ビームパルスが、低い加速電圧で長い時間幅であるような階段状のエネルギ波形に制御されて照射されるようにする。 （もっと読む）

金属表面、未硬化の自己析出被膜の第１層、及び自己析出被膜の中間硬化なしに当該表面上に析出された第２の塗料層を有してなる塗装品、前記自己析出被膜及び前記塗料層又は塗料層群の共硬化方法、並びに、硬化した自己析出被膜層と少なくとも直に隣接する硬化した塗料層との間における化学結合を有する硬化被覆品を提供する。 （もっと読む）

【課題】耐コークス化性が要求される適用におけるオーステナイト系ステンレス鋼の使用を提供する。
【解決手段】装置または装置の要素に改善されたコークス化耐性特性を提供するために、ステンレス鋼は、多くとも０．１５％のＣ、２〜１０％のＭｎ、多くとも２％のＮｉ、多くとも４％のＣｕ、０．１〜０．４％のＮ、１０〜２０％のＣｒ、多くとも１％のＳｉ、多くとも３％のＭｏおよび多くとも０．７％のＴｉを含む組成を有するオーステナイト系ステンレス鋼である。 （もっと読む）

【課題】 従来の化学吸着膜は吸着剤と基材表面の活性水素との化学結合のみを用いているため、基材表面に活性水素が含まれてない金や白金のような貴金属表面には形成できないという課題があった。
【解決手段】 下地貴金属表面に、アルコキシシリル基、アミノ基、またはカルボキシル基含有のトリアジンチオール化合物またはチオール化合物を用いて第１の被膜を形成する工程と、乾燥雰囲気中でフッ化炭素基と炭化水素基とクロロシリル基を主成分とする物質とクロロシリル基を主成分とする物質とを非水系有機溶媒で混合希釈して作成した複合膜形成溶液を接触させて反応させ第２の被膜を形成する工程とを含む撥水撥油防汚性貴金属製品の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 従来の貴金属被膜形成方法は、基材表面に直接貴金属をメッキしたり、蒸着する方法が用いられているため、膜の密着性は、主として基材表面のアンカー効果に依存して耐剥離性が悪いという大きな課題があった。
【解決手段】 基材表面に、少なくともアルコキシシリル基含有のトリアジンチオール化合物またはチオール化合物で作成された下層被膜を介して形成されていることを特徴とする貴金属被膜を製造提供する。 （もっと読む）

【課題】長尺な基板を巻回してなる供給ロールから基板を送り出して、基板を搬送しつつプラズマＣＶＤによって成膜を行い、成膜済の基板をロール上に巻回する成膜において、成膜を停止することなく、基板への成膜中に電極のクリーニングを行なうことができる成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマＣＶＤによって成膜を行なう成膜部を、基板の搬送方向に、複数、配列して設けると共に、各成膜部に電極のクリーニング手段を設け、常に少なくとも１つの成膜部は、他の空間と気密に分離して成膜を停止した状態としておき、この停止状態の成膜部において、必要に応じて、クリーニング手段によって電極のクリーニングを行なうことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）