説明

Fターム[4K044BA12]の内容

その他の表面処理 (34,614) | 被膜を構成する材料 (9,251) | 非金属質無機質のもの (4,020) | 酸化物、水酸化物 (2,161)

Fターム[4K044BA12]の下位に属するFターム

Fターム[4K044BA12]に分類される特許

201 - 220 / 1,178


【課題】回転応力にさらされる高強度鋼タービン部品の腐食を防ぐ方法を提供する。
【解決手段】部品1の表面の少なくとも一部に犠牲上塗コーティング材料4を塗布して保護済み部品を形成すること、並びに、この保護済み部品の少なくとも一部にシール材料を塗布して、約500°Fを超える耐熱性を有するシール被膜を形成することを含む。これらの方法は、腐食水にさらされた後のタービン部品1の応力腐食割れ又は表面点食の少なくとも一方を防ぐことができる。 (もっと読む)


セラミック層(16)の延性がナノ構造を有する内部セラミック層(10)によって改善される。
(もっと読む)


【課題】 鉛を含まない高い圧電定数を有する圧電膜を使用した高性能、かつ、温度特性に優れた圧電膜型アクチュエータおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 基板1上に形成された圧電膜2とこの圧電膜2に電圧を印加するための下部電極3および上部電極4とからなり、この両電極間に電圧を印加することにより圧電膜2に生ずる変位を利用して物体の駆動を行う圧電膜型アクチュエータであって、圧電膜2は粒径が0.2〜0.5μmのチタン酸バリウム(BaTiO)の多結晶から構成されている。圧電膜2はエアロゾルデポジション法により形成され、その後、850〜1100℃の温度で熱処理される。 (もっと読む)


高温で過酷な気候に曝される基材のCMAS浸透を低減するコーティングシステムを設ける方法。例示的な方法は、任意選択的に基材の上にボンドコートを配置するステップと、ボンドコートの上又は該ボンドコートがない場合には基材の上に内側セラミック層を設けるステップと、高速酸素燃料(HVOF)溶射法を用いて最大で約50重量%までのチタニアを含む外側アルミナ含有層を配置するステップとを含む。耐CMASコーティングを得るために、追加のセラミック層及びアルミナ含有層を設けることもできる。1つ又はそれ以上の好適な熱処理を利用して、アルミナを相安定することができる。コーティングは、ガスタービンエンジン構成要素に用いることができる。セラミック層の堆積法は、構成要素の最終用途に応じて決めることができる。 (もっと読む)


【課題】耐酸化性及び延性に優れる遮熱コーティングを提供する。
【解決手段】耐熱合金基材11上に、金属結合層12と、セラミックス層13とを備え、金属結合層12が、基板11側から順に第1層12a及び第2層12bが積層されて構成される遮熱コーティング。第1層11aが、質量%で、Ni:20〜40%、Cr:10〜30%、Al:4〜15%、Y:0.1〜5%、Co:残部、第2層11bが、質量%で、Ni:20〜40%、Cr:10〜30%、Al:4〜15%、Y:0.1〜5%、Re:0.5〜10%、Co:残部とされるまたは、第1層11aが、質量%で、Co:0.1〜12%、Cr:10〜30%、Al:4〜15%、Y:0.1〜5%、Ni:残部、第2層11bが、質量%で、Co:0.1〜12%、Cr:10〜30%、Al:4〜15%、Y:0.1〜5%、Re:0.5〜10%、Ni:残部とされる。 (もっと読む)


【課題】 基材に影響を与えることなくレーザ光を皮膜材料に照射して、皮膜材料の粉末堆積層の密度を向上させる等皮膜の性状向上を図る。
【解決手段】 スプレーノズル7から皮膜材料の粉末を当該皮膜材料の融点温度未満の作動ガスと共に基材Kに向けて噴射して、基材Kに皮膜材料の皮膜を形成するコールドスプレーによる皮膜形成方法において、レーザ照射機10によりスプレーノズルKから基材に至る皮膜材料の粉末の経路に該粉末を加熱するレーザ光を照射する。 (もっと読む)


【課題】費用のかかる真空及び機器要件なしで、EBPVDによって生じるコーティングと構造的に類似したコーティングを作製することができるシステムを提供する。
【解決手段】超合金基板にサーマルバリアコーティングを施すシステムは、サーマルバリアコーティングを作製するための材料を供給する少なくとも1つのターゲットと、ターゲットから原子粒子を遊離させるためにターゲットに向けて操作可能に指向される少なくとも1つのレーザと、プラズマを発生させ、原子粒子を加速させて超合金基板上にサーマルバリアコーティングとして堆積させるためのプラズマトーチとを備え、超合金基板は、ニッケル基超合金又はコバルト基超合金である。
(もっと読む)


【課題】エアロゾル化ガスデポジション法によって良好な膜質を得ることが可能なジルコニア膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】エアロゾル化ガスデポジション法によって、高純度安定化ジルコニア膜を成膜する成膜方法であって、平均粒子径が0.7μm以上11μm以下であり、かつ比表面積が1m/g以上6.5m/g以下である、乾式法で作製されたジルコニア微粒子Pを密閉容器2に収容し、密閉容器2にガスを導入することによって、ジルコニア微粒子PのエアロゾルAを生成させ、密閉容器2に接続された搬送管6を介して、密閉容器2よりも低圧に維持された成膜室3にエアロゾルAを搬送し、成膜室3に収容された基材S上にジルコニア微粒子Pを堆積させる。上記条件を満たすジルコニア微粒子を用いることで、緻密かつ、基材への密着力が高いジルコニア薄膜を成膜することが可能となる。 (もっと読む)


本発明のプロセスは、超疎水性の表面の耐久性を著しく増加させると共に、元の表面の光学的性質と同様の光学的性質を保持する。前記プロセスは、形成されたばかりのナノ粒子および超微粒子を、速度および熱によって基板に部分的に埋め込んで化学結合させることで、強く結合されたナノ〜サブミクロンの表面組織を生じる。このナノ表面構造は、所望の表面特性(例えば疎水性、疎油性、親水性など)を有するように改良できる。このプロセスによって製造されるコーティングのうち高い位置にあるものは、残りの表面を摩滅から保護するので、多くの用途で製品寿命を非常に増加させる。好ましい実施形態において、前記プロセスは、車両のフロントガラスをコーティングするために用いられる。 (もっと読む)


【課題】耐食性および密着性の諸性能を有し、低面圧での導通性に優れた亜鉛系めっき鋼板を提供する。
【解決手段】水溶性ジルコニウム化合物とテトラアルコキシシランとエポキシ基を有する化合物とキレート剤とシランカップリング剤とバナジン酸と金属化合物を含み、これらを特定の比率で混合したpH8〜10である表面処理液を亜鉛系めっき鋼板表面に塗布し・加熱乾燥して第1層皮膜を形成し、次いで、有機樹脂を含む表面処理液を第1層皮膜表面に塗布し・加熱乾燥して第2層皮膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】鋼製の転がり軸受の表面に鋼素材強化のための熱処理により酸化皮膜が形成された際、このような酸化皮膜によって要所の機械的強度が弱められることのないようにすることである。
【解決手段】鋼素材からなる深溝玉軸受の外輪1および内輪の両部品の表面に、鋼素材強化のための熱処理により形成された熱酸化皮膜3が所要寸法化のための表面研削後にも部分的に残存する高強度転がり軸受であり、この残存する熱酸化皮膜3の内側の鋼素材上に、強塩基水溶液との反応により四酸化三鉄からなる化成酸化皮膜4を設ける。化成酸化皮膜4を主とする酸化皮膜は、負荷を受けても亀裂の生じにくいものであるため、外輪もしくは内輪または両部品は、鋼素材強化のための熱処理を経ても酸化皮膜を有する部分に強度低下のないものになる。 (もっと読む)


【課題】銅箔に更に電気抵抗膜を形成することにより、電気抵抗材の基板内蔵化を可能とし、且つその接着性を向上させ、抵抗値のばらつきが小さい金属箔及びプリント回路用基板を提供する。
【解決手段】光学的方法で測定した十点平均粗さRzで4.0〜6.0μmに調整した金属箔表面に形成した銅−亜鉛合金膜、この銅−亜鉛合金層の上に形成した酸化亜鉛、酸化クロム、酸化ニッケルから選択した少なくとも1成分からなる安定化膜、さらにこの安定化層の上に形成したニッケルクロム合金からなる電気抵抗膜を備え、さらにこの電気抵抗膜上にテトラエトキシシランを吸着・乾燥させた金属箔であって、前記電気抵抗膜の抵抗値のばらつきを±10%以内にする。 (もっと読む)


【課題】耐食性、耐熱変色性、耐黒変性、耐キズ付き性、及び上層に形成される有機樹脂層との加工後密着性が優れた表面処理組成物およびを提供する。
【解決手段】加水分解性チタン化合物、加水分解性チタン化合物の低縮合物、水酸化チタン、水酸化チタンの低縮合物の中から選ばれる少なくとも1種のチタン化合物を過酸化水素水と混合して得られるチタン含有水性液(A)と、炭酸ジルコニウム化合物(B)と、有機リン酸化合物(C)と、金属リン酸塩(D)と、酸化ケイ素(E)と、水溶性有機樹脂及び/又は水分散性有機樹脂(F)を特定の割合で含有する。 (もっと読む)


【課題】絶縁膜上に中間層を介して金属膜を形成する場合に、その密着性を改善することができる成膜方法及び成膜装置並びに積層膜を提供すること。
【解決手段】基板3の表面の絶縁膜1上に、金属と酸化物とを含む複合層である中間層5を介して金属膜7を積層して、積層膜9を形成する際には、基板3に対して、超臨界流体と複合層5中の金属となる原料と複合層5中の酸化物となる原料とを供給して、複合層5の超臨界成膜を行うとともに、超臨界成膜を行う際には、複合層5中の酸化物となる原料に対する複合層5中の金属となる原料の供給比率を、連続的又はステップ状に、膜厚の増加に伴って増加させる。 (もっと読む)


【課題】低コストで安定した品質の薄膜を製造することができる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜製造方法であって、基板20の第1主面20a上に形成させる薄膜の原料溶液中に、基板を配置する配置工程と、第1主面20a側から光を照射することにより、基板20の第1主面20a上に薄膜を形成する形成工程とを有する。 (もっと読む)


本発明は、微粒子化の低減を示すプラズマエッチング耐性層で基板をコーティングする方法であって、基板にコーティング層を適用するステップを含む方法を含み、コーティング層は、約20ミクロン以下の厚さを有し、ある時間にわたってフッ素ベースのプラズマに曝露された後のコーティング層は、コーティング層の断面に広がるいかなるクラックまたは亀裂も実質的に含まない。[0062]記載される方法によって調製されるコーティングされた基板。また、本発明には、フッ素ベースの半導体ウエハー処理プロトコルで構造要素として使用するためのコーティングされた基板も含まれ、コーティングは、約20ミクロン以下の厚さを有するコーティング層であり、ある時間にわたってフッ素ベースのプラズマに曝露された後のコーティング層は、コーティング層の断面に広がるいかなるクラックまたは亀裂も実質的に含まず、微粒子化の低減を示す。
(もっと読む)


【課題】粗面化処理することなく、平坦な表面を有する導電性金属箔を用いてなる、有機基材や異方導電フィルムとの密着性を向上させた金属箔部材を提供する。
【解決手段】導電性金属箔1の片面に絶縁性機能膜2を有する金属箔1であって、前記絶縁性機能膜2が、ケイ素、チタン、ジルコニウムおよびアルミニウムの中から選ばれる金属原子を含む金属アルコキシド化合物を加水分解−縮合反応してなるM−Oの繰り返し単位を主骨格とする縮合物を含む塗工液を塗工して形成されてなり、かつ前記絶縁性機能膜2と、異方導電フィルム4との接着強度が、リフロー処理後で5.7N/cm以上であり、リフロー処理後、更に80℃、95%RHで1000時間の処理を行った後において3.5N/cm以上である絶縁性機能膜付き金属箔1である。 (もっと読む)


【課題】最外層となる光触媒層(皮膜)を不連続状態(網目状)とすることで、処理ムラや干渉色が筋状に見えることによる美観の低下を防ぐと共に、プレコート鋼板として必要な外観均一性、加工性等の性能の他に、高度な耐侯性、美観耐久性および光触媒に対する耐分解性能等の各種特性に優れたプレコート鋼板およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】鋼板基材の少なくとも片面に、主成分がケイ素化合物からなり、撥水性微粒子を分散含有するクリアー皮膜層(A)と、そのクリアー皮膜層(A)上に積層される、主成分として光触媒活性を示す酸化チタン微粒子を含有するクリアー皮膜層(B)と、を有すること。 (もっと読む)


【課題】エアロゾル化ガスデポジション法によって良好な膜質を得ることが可能なジルコニア膜の成膜方法を提供すること。
【解決手段】エアロゾル化ガスデポジション法によってジルコニア膜を成膜する成膜方法であって、平均粒子径が2μm以上4μm以下であり、かつ比表面積が4m/g以上7m/g以下であるジルコニア微粒子Pを密閉容器2に収容し、密閉容器2にガスを導入することによって、ジルコニア微粒子PのエアロゾルAを生成させ、密閉容器2に接続された搬送管6を介して、密閉容器2よりも低圧に維持された成膜室3にエアロゾルAを搬送し、成膜室3に収容された基材S上にジルコニア微粒子Pを堆積させる。
上記条件を満たすジルコニア微粒子を用いることで、緻密かつ、基材への密着力が高いジルコニア薄膜を成膜することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】固体酸化物形燃料電池のセルの空気極側のインターコネクタ(SUS材料)の表面がコーティング膜で覆われたコーティング体であって、温度変化の激しい環境下に置かれてもコーティング膜の剥離が発生し難いものを提供すること。
【解決手段】スピネル型結晶構造を有する遷移金属酸化物(MnCo)を構成する各金属元素(Mn,Co)の粉末がコーティング膜の出発原料とされる。この粉末の混合物を含むペーストの膜がインターコネクタの表面に形成された状態でペーストを焼成して、コーティング膜が形成される。このコーティング体では、コーティング膜とインターコネクタとの境界部にて、インターコネクタに近い側から順に、Crを含んで構成されるクロミア層、Mn,Co,Fe,Cr,及びOの元素を含んで構成される第1層、及び、Mn,Co,Fe,及びOの元素を含んで構成される第2層が介在している。 (もっと読む)


201 - 220 / 1,178