【課題】大量のＨ₂ガスを必要とせず、処理対象が粉末であっても組織の粗大化や焼結を生じさせることがなく、しかも比較的短時間で表面近傍の酸素や炭素を除去することが可能な清浄表面を有する金属材料の製造方法を提供すること。
【解決手段】チャンバー内に、Ｈ₂ガスを原子状Ｈに分解するための触媒として機能するヒーターと、水素還元可能な金属元素を含む金属材料（但し、その融点がＳｎの融点以下であるものを除く）とを所定の間隔を置いて配置する設置工程と、前記チャンバー内を排気する排気工程と、前記ヒーターの加熱と前記チャンバー内へ前記Ｈ₂ガスの導入とを同時に又は段階的に行い、前記ヒーターの表面において原子状Ｈを発生させ、前記原子状Ｈと前記金属材料とを反応させる反応工程とを備えた清浄表面を有する金属材料の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリコーン材料を主材料として構成される被膜を、ステンレス鋼を主材料として構成される基材に形成したとしても、この基材に対して被膜を優れた密着性をもって成膜することができる基材の前処理方法を提供すること。
【解決手段】被膜を優れた密着性をもって成膜することのできる基材の前処理方法は、シリコーン材料を主材料として構成される被膜３が形成され、ステンレス鋼を主材料として構成される基材２１に施されるものであり、前記基材２１の前記被膜３が形成される側の表面におけるＣｒ／Ｆｅが０．０２５以下となる表面処理を施す。 （もっと読む）

【課題】生産コストを低くできるプラズマ処理装置及び基材の表面処理方法を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、チャンバー１と、チャンバー１内に配置され、基材２を保持する基材ホルダー３と、チャンバー１に繋げられ、チャンバー１内にエッチング用の処理ガスを導入するガス導入経路と、チャンバー１内に５０〜５００ｋＨｚの高周波出力を供給する高周波電源４と、を具備し、高周波電源４から供給された高周波出力によりチャンバー１内に前記エッチング用の処理ガスのプラズマを発生させて基材２の表面層を除去する。 （もっと読む）

【課題】耐食性、伝導性、耐久性等の物性に優れた燃料電池用金属分離板及びその製造方法について開示する。
【解決手段】本発明にかかる燃料電池用金属分離板は、分離板形状に成形された金属母材及び前記金属母材上に形成されるコーティング層を含み、前記コーティング層は厚さによって炭素元素（Ｃ）と金属元素（Ｍｅ）が濃度傾斜を有するが、前記金属母材から遠ざかるほどＣ−ｅｎｒｉｃｈで、前記金属母材側に近づくほどＭｅ−ｅｎｒｉｃｈであることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、表面が酸化ケイ素の層で覆われているシリコン基板の表面の洗浄方法を提供する。この方法は、上記表面をフッ素化ガスから発生させた高周波プラズマに60秒〜900秒からなる時間暴露させ、上記プラズマによって発生させた出力密度が10mW/cm²〜350mW/cm²からなり、上記フッ素化ガスの圧力が1.333Pa〜26.664Pa (10ミリトール〜200ミリトール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップa)；および、上記表面を水素高周波プラズマに5秒〜120秒からなる時間暴露させ、出力密度が10mW/cm²〜350mW/cm²からなり、水素圧が1.333Pa〜133.322Pa (10ミリトール〜1トール)からなり、そして、上記シリコン基板の温度が300℃以下であるステップb)を含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機物質でコーティングされた材料４の表面をクリーニングするための方法に関する。
【解決手段】本発明の方法は、内部の圧力が１０ｍｂａｒから１ｂａｒであり、且つ容量で少なくとも９０％の酸素を含むガス流が供給される処理チャンバ２内に、材料４を導入する工程と、材料の表面と誘電体で覆われた電極（５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄ、５ｅ、５ｆ、５ｇ）との間で放電を引き起こすことによりプラズマを形成し、生成されたフリーラジカルＯ^・の作用により有機物質を分解する工程とを含むことを特徴とする。本発明はさらに、前記方法を行なうために使われる装置１に関する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのコーティングされた表面を有するコーティングされた基材から、１つ以上のポリマーコーティング層を少なくとも部分的に除去するための方法を提供する。
【解決手段】大気圧において放出されるイオン化ガス流中に少なくとも一種の反応性種を生成する工程；および該コーティングされた表面をイオン化ガス流中に配置する工程、を包含する。少なくとも一種の反応性種が、１つ以上のポリマーコーティング層と反応し、その結果、該１つ以上のコーティング層が、大気圧において基材のコーティングされた表面から少なくとも部分的に除去される。 （もっと読む）

【課題】基材表面からの酸化物のコスト効果が高く、効率的な除去方法および装置の提供。
【解決手段】本明細書中に記載されているのは、ターゲット領域内の基材表面から金属酸化物を除去するための方法および装置である。ある特定の態様において、この方法および装置は、導電性ワイヤーによって電気的に接続されている突き出た導電性チップの配列を有し、そして第１の電気的に接続された群および第２の電気的に接続された群に分離されており、導電性チップの少なくとも一部分が、負にバイアスされている直流電源によって活性化されて、ターゲット領域内に存在する還元ガスの少なくとも一部分に付着する電子がターゲット領域内で発生し、処理表面と接触して基材の処理表面上の金属酸化物を還元する負に帯電した還元ガスを生成する、通電電極を有する。 （もっと読む）

本発明は、表面を、表面障壁放電により形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去（細菌除去、消毒、滅菌）するための方法及び一連の装置に関する。本発明は、表面を、表面障壁放電により流動状の所定のガス雰囲気内に形成される大気圧プラズマを用いて乾式洗浄、活性化、被覆、変性及び生物汚染除去するために用いられ、誘電体又は強誘電体で覆われた高電圧電極、接地された導電性の接触電極、高電圧供給部及びガス供給部、並びにガス出口開口部を備えたガスノズルを含んでおり、この場合にガスノズルは、接地された接触電極のすぐ近くに配置され、又は、ガスノズルは、接地された接触電極内に組み込まれ、又は、ガスノズルはそれ自体、接地された接触電極として作動するようになっており、かつガス出口開口部は、流出するガス流を接地された接触電極に向けるように構成されている。方法は、ガスノズルを有する接触電極と処理すべき材料とを互いに相対的に運動させることを特徴としている。
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【課題】パターンマスクを伴うプラズマエッチングの方法を提供する。
【解決手段】シリコンと砒化ガリウム（ＧａＡｓ）との異なる素子をウェーハの２つの部分内に備え、シリコン部分２は一般的な半導体、ＧａＡｓ部分１はＲＦ素子のためにある。シリコン内２のパッド４ａ，４ｂの材料は通常金属でパッド上に金属酸化物が通常形成され、その金属酸化物は不必要でプラズマエッチングプロセスによって除去される。バッファ膜５とマスク６がエッチングの必要な領域を露出する膜上に位置合わせされた後付着され、次いで、プラズマドライエッチングを行い、金属酸化物を除去する。 （もっと読む）

【課題】還元性ガスのプラズマジェット照射よる金属材料の表面酸化物の還元処理に際し、プラズマ照射表面に表面溶融を生じさせることなく、還元処理を均一かつ効果的に行う方法を提供する。
【解決手段】熱プラズマトーチから噴射させた還元性ガスのプラズマジェット５の金属材料６表面への照射において、熱プラズマトーチ側にマイナスの、被照射材である金属材料側にプラスの電界を印加することを特徴とした金属材料の表面酸化物の還元処理方法。 （もっと読む）

【課題】 プラズマダメージがない状態で被処理体の表面を改質させる処理ができ、しかも被処理体の設置場所の自由度が大きい表面処理方法及びその装置を提供すること。
【解決手段】 Ｎ_２Ｏ、ＮＯ、ＮＯ_２のいずれかの窒素酸化物を含む処理ガスを表面処理ユニット３０にて生成し、その処理ガスを給気連結管２０及び給気部２２を介して被処理体１０の表面に形成された金属酸化物に接触させて、その窒素酸化物により被処理体１０の金属酸化物を還元し、または、窒素酸化物により被処理体の金属酸化物を置換して、被処理体の表面を処理する。 （もっと読む）

本発明の対象は、アルミニウム合金の帯材、板材、または成形部材の表面処理方法であって、大気プラズマを使った表面準備および、少なくともＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｍｏ、またはＶの各元素のうちの一つを利用する化学変換処理を含む、アルミニウム合金の帯材、板材、または成形部材の表面に化学変換膜を形成するための表面処理方法である。本発明による表面処理は、先行技術の変換処理より時間がかからずまた経済的であり、そして、自動車のボディのために利用され、また接着または溶接によって組み立てられることを目的とした、アルミニウム合金の帯材および板材にとりわけ適用される。
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【課題】 マイクロ波を利用して発生させた水素プラズマを医療器具や調整用具などの被処理物に照射し、被処理物の錆落とし、殺菌、汚れ除去などを行なう処理装置を提供すること。
【解決手段】 被処理物１３を取出し自在に内装する処理室１１を備えると共に、前記処理室１１内にマイクロ波電力を供給するマイクロ波発振器１７と、前記処理室１１内に水素ガスを供給する水素ガス供給機１８と、前記処理室１１内を減圧する真空ポンプ１９とからなるプラズマ発生手段を設け、プラズマ発生手段が発生する水素プラズマ２５を被処理物１３に照射し、被処理物１３の錆や雑菌などの有機物を還元する構成としてある。 （もっと読む）

本発明は、ストリップにプラズマデスケールを受けさせる少なくとも１つのプラズマデスケール装置（２，３）を通してストリップ（１）を移送方向（Ｒ）に案内する、ストリップ（１）の、特に標準鋼から成る熱間圧延ストリップ又はオーステナイト系又はフェライト系ステンレス鋼から成る熱間又は冷間圧延ストリップのデスケールをするための方法及び装置に関して、このようなストリップの製造を改善するために、冷却装置（４，５）の後でストリップ（１）が一定の温度を備えるように、ストリップ（１）が少なくとも１つのプラズマデスケール装置（２，３）内でのプラズマデスケールに続いて冷却装置（４，５）内で調整冷却を受けることを特徴とする。更に、本発明は、方法に関して、プラズマデスケールによる加熱を利用してストリップがプラズマデスケールの後に被覆金属によるコーティングを受けることを特徴とする。
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【課題】他の部位にダメージを与える事なくプラズマ洗浄を実施できるとともに、設計変更や多品種少量生産に容易に対応する事が可能なプラズマ洗浄装置及び方法を提供すること。
【解決手段】開口部１３が設けられたマスク１０をアクチュエータ１６により移動可能としておく。この状態でマスク１０の開口部を部品４に設けられた金属接合部上に位置決めし、プラズマコントローラ１７により第２電極７からと第１電極６に向けてプラズマイオンを照射する。これにより開口部１３を介して金属接合部にプラズマイオンが照射される。別の金属接合部にプラズマイオンを照射する場合には、マスクコントローラ１８によりアクチュエータ１６を制御してマスク１０を移動させる。 （もっと読む）

【課題】 基板に対してダメージを与えることなく、エッチング後の基板上の金属配線から短時間で効率的に塩素を除去する。
【解決手段】 基板１２上の金属層４２に残留するＣｌ成分を除去するためのプラズマ処理方法である。基板１２を真空容器１６内に配置する。次に、真空容器１６内に水蒸気又は水素含有ガスを導入すると共に、基板１２を少なくとも室温よりも高温に加熱した状態で予め定められた第１の時間Ｔ１保持する。さらに、真空容器１２内に酸素含有ガス又は酸素含有ガスとフッ素含有ガスの混合ガスを導入し、真空容器１２内でプラズマを発生させた状態で予め定められた第２の時間Ｔ２保持する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つのコーティングされた表面を有するコーティングされた基材から、１つ以上のポリマーコーティング層を少なくとも部分的に除去するための方法を提供する。この方法は、大気圧において放出されるイオン化ガス流中に少なくとも一種の反応性種を生成する工程；および該コーティングされた表面をイオン化ガス流中に配置する工程、を包含する。少なくとも一種の反応性種が、１つ以上のポリマーコーティング層と反応し、その結果、該１つ以上のコーティング層が、大気圧において基材のコーティングされた表面から少なくとも部分的に除去される。 （もっと読む）