【課題】金属表面に発生した赤錆を短時間で効率よく除去することのでき、また金属表面に付着した塩化ナトリウムや塩化マグネシウム等の塩を効率よく除去することのできる金属表面処理剤を提供する。
【解決手段】（Ａ）リン酸及び／又はその塩、（Ｂ）２価アルコール及び／又は該２価アルコールから誘導されるエーテル化合物、及び（Ｃ）シリカ含有化合物を含む金属表面処理剤である。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の金型表面の発錆を抑える洗浄液を提供する。
【解決手段】脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、および、トリエステルの３種混合物とジメチルスルホキシドを含む洗浄液である。脂肪酸グリセリルのモノエステル、ジエステル、およびトリエステルの混合比としては、好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝３０〜７０：２０〜６０：１〜３０、より好ましくは、モノエステル：ジエステル：トリエステル＝４０〜６０：３０〜５０：２〜２０である。 （もっと読む）

【課題】鉛を含む高融点はんだを実装した電子部品を洗浄する際、水すすぎにて鉛崩壊現象を抑制することができ、すすぎ剤を使用した場合と同等の洗浄性を有する洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）：


（式中、Ｒ^１は炭素鎖８〜７２の直鎖若しくは分岐鎖の不飽和または飽和のアルキル基又はアルキレン基を、ｎは２〜４を示す。）で表わされ、かつ、非水溶性のポリカルボン酸系化合物、（Ｂ）リン酸エステル系界面活性剤、及び、（Ｃ）有機溶剤を含むはんだ付けフラックス用洗浄剤組成物を用いる。 （もっと読む）

【課題】主面上に中間層や超電導層などを成膜した際に、膜剥がれが生じ難い酸化物超電導線材用基材の製造方法の提供。
【解決手段】超電導線材用基材の製造方法は、表面粗さＲａが６ｎｍ以下であって、成膜法により主面上方に中間層１０２を介して酸化物超電導層１０５が積層される金属基材１００に対し、金属基材１００の表面を有機溶剤により拭き取り洗浄することにより、洗浄前後で金属基材１００の表面の水に対する接触角を９．８％以上減少させることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ガラス面、光沢のある金属面や塗装面、プラスチック面の拭掃は勿論、処理液によって処理された面が光沢を失うことなく汚れを防ぎ、長期間効果が持続する表面処理液含浸布材を提供する。
【解決手段】 エタノール、精製水、弗素を所定の割合で混合し、高速回転機能の攪拌機で攪拌した表面処理液を布材に浸透させた表面処理液含浸布材。 （もっと読む）

【課題】鋼板の圧延工程及び圧延された鋼板に付着する圧延油を、アルカリ洗浄液を用いて洗浄する工程を有する鋼板の製造方法であって、高速ラインにより前記洗浄を行う場合において、良好な洗浄性を保持することができる、鋼板の製造方法を提供すること。
【解決手段】前記アルカリ洗浄液として、アルカリ剤（Ａ）、カルボン酸化合物（Ｂ−１）及び水を含有し、更に圧延油に含まれる脂肪酸及び／又は脂肪酸エステル由来の塩を１．５〜２．５重量％含有するものを用いて、鋼板の洗浄を前記アルカリ洗浄液への連続接触時間が１．０〜１．８秒間の範囲で行う。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び油水分離性に優れるアルカリ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（Ａ）、下記式（１）で表されるカルボン酸（Ｂ−１）、


該カルボン酸（Ｂ−１）のＣＯＯＨ基をＣＨ2ＯＨに置換した構造で表されるアルコール（Ｂ−２）、及び水を含有し、前記カルボン酸（Ｂ−１）と、前記アルコール（Ｂ−２）との重量比｛（Ｂ−１）／（Ｂ−２）｝が、９７／３〜２５／７５である、アルカリ洗浄剤組成物。この洗浄剤組成物には更に、キレート剤（Ｃ）、非イオン界面活性剤（Ｄ）及び／又は水溶性高分子カルボン酸類（Ｅ）が含有されていてもよい。 （もっと読む）

【課題】水溶性含浸液を用いた、鋳造品等の対象物の含浸工程において発生する、含浸液含有洗浄廃水から、洗浄水を経済的に有利に回収して、再利用し得る手法を提供する。
【解決手段】重合性成分として水溶性の（メタ）アクリル酸エステル類を含有する含浸液を含む洗浄廃水を、親水性精密濾過膜にて濾過して、洗浄廃水中の非水溶性成分を分離・除去した後、かかる含浸液の重合性成分を、炭素数が７〜１２の一価のアルコールからなる抽出剤にて抽出することにより、得られた抽出残液を、洗浄水として再使用するようにした。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の洗浄作業を行う作業室を、洗浄槽内を上下移動可能とし洗浄槽とは別個に気密的に遮断して形成したものであるから、減圧乾燥等の被洗浄物の洗浄作業に必要な最小限の空間を形成する事が可能となるとともに洗浄槽に洗浄液や洗浄蒸気が存在する状態での減圧乾燥が、減圧機構に無駄な負荷をかけたりすることが無く効率的に行う事を可能とする。
【解決手段】洗浄槽１内を上下移動可能とするとともに上下移動方向の側面に開放および密閉可能な開口部２２を形成して被洗浄物１２を収納するための耐圧性の作業室２を設ける。この作業室２の側面に設けた開口部２２を被覆して作業室２内を密閉可能とするとともにこの作業室２内を減圧機構２７に接続して減圧可能とする被覆体２４を、洗浄槽１の内面に水平方向に進退可能に形成する。 （もっと読む）

【課題】実装された電子部品やその接合部分に悪影響を与えることなく、プリント配線板の各種電子部品との接合面である銅電極面に形成された有機防錆膜と銅酸化膜を除去し、清浄な銅面に洗浄することができるプリント配線板用の水系洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】グリコールエーテル系化合物（Ａ）、下式で表される非イオン性界面活性剤（Ｂ）、および有機酸類（Ｃ）を含有することを特徴とする。


（式中、Ｒ^４は炭素数６〜２０の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基、フェニル基、または炭素数７〜１２の直鎖または分岐鎖アルキル基で置換されたフェニル基を、Ｒ^５は水素原子またはメチル基を示す、ｍは２〜２０の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】人体への影響が小さく、環境負荷が小さく、且つ、さびとの反応速度が速いさび除去剤水溶液を提供する。
【解決手段】水溶液全体を基準（１００重量％）として、有機酸を０．３重量％以上５０重量％以下含有し、塩化第一鉄を０．０１重量％以上３０重量％以下含有するさび除去剤水溶液とする。 （もっと読む）

【課題】高価なＨＦＥ溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、廉価な蒸気洗浄作業を可能にする。即ち、高価なＨＦＥ溶剤液を用いて蒸気洗浄を行いながら、ＨＦＥ溶剤液の消耗を小さなものとし、ＨＦＥ溶剤液を繰り返し使用し、結果的にはＨＦＥ溶剤液を用いた廉価な蒸気洗浄作業を可能とするものである。本発明は環境性能とともに洗浄性能に優れた高価なＨＦＥ溶剤液を用いながら廉価な蒸気洗浄を可能にする事が出来るものである。
【解決手段】ＨＦＥ溶剤液２の上面を、ＨＦＥ溶剤液２よりも比重が小さいとともに沸点が高い液体にて形成した表面被覆液４により被覆し、この表面被覆液４の上面にＨＦＥ溶剤液２を加熱して発生した洗浄蒸気を供給し、この洗浄蒸気を被洗浄物５に凝縮液化して被洗浄物５の蒸気洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】洗浄性及び消泡性が高いために長寿命の洗浄剤となり得る鋼板用洗浄剤組成物と、これを用いた冷間圧延鋼板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルカリ剤（ａ）、非イオン性界面活性剤（ｂ）、脂肪酸アミド（ｃ）、炭素数８〜２４の分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を有し、オキシアルキレン基が付加されていないアルコール（ｄ）、及び、水を含有する鋼板用洗浄剤組成物であって、前記非イオン性界面活性剤（ｂ）の含有量と、前記アルコール（ｄ）の含有量の比｛（ｂ）／（ｄ）｝が、０．１０〜０．９０である、鋼板用洗浄剤組成物とする。 （もっと読む）

【課題】被洗浄物の蒸気洗浄方法及びその装置に係るもので、被洗浄物の蒸気洗浄に於いて、溶剤ガスの外部への流出を減少し環境に与える影響が少ない安全な蒸気洗浄を可能とするとともに溶剤の消費を減少し廉価な蒸気洗浄を可能にしようとするものである。
【解決手段】洗浄液２の上部に、被洗浄物７の蒸気洗浄を行う蒸気層５を蒸気発生部１１に接続して設け、この蒸気層５の厚みを、被洗浄物７の上下移動方向に於ける最大直径よりも小さい直径とすると共に、この被洗浄物７を洗浄液２側から上部側に蒸気層５を通過させながら、蒸気を被洗浄物７に接触して凝縮させることにより蒸気洗浄を行うものである。 （もっと読む）

【課題】硫酸又は硫酸主体の酸を用いる鋼材の酸洗において、短時間での脱スケールを可能にし、管理幅を広く、酸洗液寿命の長い酸洗剤及びこれを用いた脱スケール方法を提供する。
【解決手段】脱スケール促進剤としてチオ尿素と、チオ尿素ならびにチオ尿素誘導体以外の有機硫黄化合物及び／又はノニオン系界面活性剤を含有する硫酸又は硫酸主体の酸からなる鋼材の脱スケール酸洗剤。 （もっと読む）

【課題】洗浄品質を向上できるとともに大気汚染や作業環境汚染を確実に防止する。
【解決手段】被洗浄物の洗浄を行う洗浄容器内の圧力変動をアキュムレータで吸収するようにした密閉型洗浄装置において、前記洗浄容器と前記アキュムレータとの間に前記洗浄容器内を減圧する真空発生装置を設け、前記被洗浄物の洗浄の際に、前記洗浄容器を減圧させるとともに、該減圧に伴う前記真空発生装置内の圧力変動を前記アキュムレータで吸収させるように構成した。 （もっと読む）

【課題】実質的に中性に調整されたヒドロキシルアミン化合物を含有する洗浄組成物に特有の課題を解決し、半導体基板の金属層、特に窒化チタンの腐食を防止し、しかもその製造工程で生じるプラズマエッチング残渣やアッシング残渣を十分に除去することができる洗浄組成物、これを用いた洗浄方法及び半導体素子の製造方法を提供する。
【解決手段】水と、洗浄剤と、塩基性有機化合物と、酸性有機化合物と、特定の含窒素非芳香族環状化合物とを含有し、実質的に中性に調整された半導体基板用洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】ケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの酸洗作業において、安全面、効率面で問題のある手作業による酸洗方法に替えて、タンク洗浄装置を用いて無人化、自動化による酸洗方法、及びこの自動酸洗方法に好適な高い洗浄効果を得ることができる酸洗浄剤を提供する。
【解決手段】硝酸、フッ酸、硫酸、有機酸、多価アルコール、粘性助剤、錯化合物、消泡剤を含有した構成をもつ酸洗浄剤、及びこの酸洗剤を使用してタンク洗浄装置を用いて行うケミカルタンカーのステンレス製カーゴタンクの自動酸洗方法。 （もっと読む）

【課題】金属表面を酸洗する際、腐食抑制効果が強く、しかも抑制剤濃度が変化しても腐食抑制率の変化が小さい金属の酸洗浄用腐食抑制剤、および洗浄方法を提供する。
【解決手段】第一アミノ基及び／又は第二アミノ基を有するポリアルキレンポリアミン（Ａ）のＣ_３−Ｃ_１５アシル化誘導体（α）を含み、該アシル化誘導体（α）の含有量が、酸液１Ｌに対して０．１〜５００００ｍｇである金属の酸洗浄用腐食抑制剤。および該洗浄液組成物を金属表面に吹付けあるいは金属表面を該洗浄液組成物で浸漬することにより洗浄する。 （もっと読む）

【課題】セリア、シリカ微粒子を容易に洗浄除去できる洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】一般式(I)及び(II)
【化１】


（式中、R^１は炭素数６〜１６のアルキル基であり、R^２、R^３は同一又は異なって炭素数１〜４のアルキル基もしくは、炭素数1〜４のヒドロキシアルキル基である。R^４は炭素数１〜６のアルキル基、R^５はエチレン基またはプロピレン基、nは１〜３の整数である。）で表される化合物群から選択される少なくとも１種の化合物、有機酸および水を含む洗浄剤組成物。 （もっと読む）