【課題】 エッチング深さを短時間で計算することができる時間応答性に優れたエッチング深さの検出方法を提供する。
【解決手段】 本発明のエッチング深さの検出方法は、半導体ウエハに光Ｌを照射する工程と、被エッチング層Ｅの上面及び被エッチング部Ｅ’の表面からの反射光Ｌ_０による周期変動する干渉光Ｌ_１を検出する工程と、干渉光強度から近似式(6)の定数Ｉ_ｄｃ、Ｉ_ｐｐ、γを決定する近似式定数決定工程と、定数Ｉ_ｄｃ、Ｉ_ｐｐ、γの決定した近似式(6)と干渉光強度の極値Ｉ_１、Ｉ_２、Ｉ_３とに基づきエッチング深さδ(ｔ)を算出するエッチング深さ算出工程とを備えている。 （もっと読む）

【課題】板体が、薄物（例えば厚み０．０６ｍｍ未満）搬送時であっても、板体の搬送性を確保しながら、表面処理を効率よく行うことができる水平搬送型表面処理装置を提供する。
【解決手段】板体５を上下のローラ１〜３で挟持し水平搬送しながら、板体に表面処理液を接触させて表面処理を施す装置において、スプレーにより液を噴射するスプレー領域２３と、このスプレー領域より下流にて板体に付着した液体を液切りする液切り領域２４を備え、上記スプレー領域が板体を搬送する搬送ローラ１を有し、上記液切り領域が板体を搬送し液切りする搬送ローラ２を有し、上記搬送ローラ１の径を搬送ローラ２の径よりも大とする水平搬送型表面処理装置。 （もっと読む）

【課題】既存のエッチング処理する工程において、薄物基板等の製品が処理及び取り扱いに耐えられるようにするとともに、簡易的に作業を行えるようにする。
【解決手段】表面に金属層を有する金属層付板状物の金属層を湿式法によってエッチング液でエッチングする際、各々両面に貫通する複数の細孔を設けた対峙する２枚の保護板の間に、該金属層付板状物を、その片面を一方の保護板に対峙させ、他方の面を他方の保護板に対峙させて支持した状態でエッチングすることを特徴とするエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エッチング液の流れを促進させ、高密度回路が形成される基板を高い収率で製造できるエッチング装置を提供する。
【解決手段】本発明に係るエッチング装置は、基板（２２０）を支持する基板支持台（２１０）と、基板（２２０）にエッチング液（２４０）を噴射する噴射ノズル（２３０）と、エッチング液（２４０）の流れが促進されるように基板支持台（２１０）の外周縁に配置され、エッチング液（２４０）を回収する吸入器（２５０）と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
製造の作業性と検査の作業性が向上したブリッジレスのエッチング製品とその製造方法を提供する。この際、テープに貼った状態で客先に提供できるものとし、しかも、必要に応じ、任意に単体製品を配置できるものとする。
【解決手段】
金属板上に、複数のエッチング製品単体を個別に相互に間隔を置いて離間して設けられており、これに、ＵＶ粘着消失テープを貼り付けられていることを特徴とするブリッジレスのエッチング製品 （もっと読む）

【課題】銅や黄銅からなる基材にスズめっき層を形成した試料について、スズめっき層をより正確に定量する方法を提供する。
【解決手段】銅または黄銅からなる基材に、スズまたはスズ合金からなるめっき層を形成してなる試料、もしくは金属製の基材に、銅または黄銅からなる下地層を介して、スズまたはスズ合金からなるめっき層を形成してなる試料における前記めっき層の定量分析方法であって、 ホウフッ化水素酸をホウ素元素換算で１．６質量％、ホウ素化合物をホウ素元素換算で０．２質量％以下、チオ尿素を１質量％以下の割合で含む水溶液からなるめっき剥離液を前記試料に接触させて前記めっき層を溶解し、溶解分を含有する前記めっき剥離液について定量することを特徴とするスズまたはスズ合金めっき層の定量分析方法。 （もっと読む）

本発明は、クリーニングの間に腐食有益な効果を有する水溶性マグネシウム塩、水溶性カルシウム塩、およびグルコン酸塩を含む組成物に関する。本組成物は、ガラス、アルミニウム、またはスチールの腐食を減少させることができる。本発明はまた、これらの組成物を用いる方法に関する。
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本発明に係る燃料電池用ステンレス鋼分離板の表面処理方法は、ニッケル、クロム及び鉄成分を含み、表面に不動態被膜を有するステンレス鋼板を用意する段階と、前記ステンレス鋼板を、５０℃〜７０℃の温度で、３０秒〜３０分間硝酸（ＨＮＯ₃）及び硫酸（Ｈ₂ＳＯ₄）が混合されたエッチング溶液に沈積させることによって、前記ステンレス鋼板の表面に形成された不動態被膜内部の鉄成分を選択的に低減させる段階とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】処理液の取り替えサイクルを長くしたり、基板処理効率の低下を防止したり、基板処理コストを抑えることができる基板処理装置などを提供する。
【解決手段】基板処理装置１は、貯留槽１１と基板処理機構１２と間で処理液を循環させる第１処理液循環機構２０と、基板処理機構１２における基板処理によって処理液中に含まれるようになった金属イオンを吸着する２つの吸着塔３２，３３と、貯留槽１１内の処理液を吸着塔３２，３３のいずれか一方に選択的に供給して循環させる第２処理液循環機構３４と、処理液の供給される吸着塔３２，３３が所定時間間隔で交互に切り換わるように第２処理液循環機構３４の作動を制御する制御装置２８とを備える。 （もっと読む）

【課題】シュウ酸とＩｎを含むシュウ酸エッチング液中に含有されている不溶性のＩｎ化合物を捕捉するフィルターから、その不溶性のＩｎ化合物を除去するとともに、そのＩｎ、Ｉｎ合金、Ｉｎ化合物等を回収する方法と装置に関し、Ｉｎとともにシュウ酸イオンが含まれているシュウ酸エッチング液を循環させる流路内に配置されるフィルターで捕捉される不溶性Ｉｎ化合物を好適に除去することができるとともに、そのフィルターを再生することもでき、しかもＩｎ、Ｉｎ合金、Ｉｎ化合物等を有価物として好適に回収することができる回収方法と装置を提供することを課題とする。
【解決手段】シュウ酸とＩｎとを含有するシュウ酸エッチング液中の不溶性Ｉｎ化合物を捕捉したフィルターから、無機酸によって前記不溶性Ｉｎ化合物を溶解させて除去し、無機酸に溶解したＩｎ若しくはＩｎ合金、又はＩｎ化合物を回収することである。 （もっと読む）

【課題】複数の金属イオンを含むリン酸水溶液から簡便に金属イオンを除去して精製リン酸を得る方法及び装置の提供、更には、金属エッチング工程で排出される高濃度のリン酸を含む混酸水溶液廃液に応用することにより、回収した精製リン酸を再利用するシステムの提供。
【解決手段】〔１〕複数の金属イオンを含むリン酸水溶液に無機塩水溶液を混合し、次いでリン酸に可溶でかつ無機塩を溶解しない有機溶媒（以下、貧溶媒という）を加えて混合することにより無機塩の結晶を析出させると同時に、前記金属イオンを共沈させた後、該金属イオンを含む無機塩の結晶を濾過して固液分離する工程、〔２〕濾過した濾液中の貧溶媒及び水を蒸発させる工程、を含むことを特徴とする精製リン酸を得る方法。 （もっと読む）

【課題】バルク金属と大きく異なる性質を持ち、物理分野や化学分野で注目すべき多くの機能を有すると期待されるナノ多孔質金属を提供する。
【解決手段】ナノ多孔質金属は、腐食作用を有する媒体に対して感受性を有する金属と、該腐食作用を有する媒体に対して抵抗性を有する金属と、の少なくとも二つの金属を含有する合金を、該腐食作用を有する媒体に接触せしめて、該合金を、低温条件下、ナノ多孔質金属を形成するに有効な時間の間、脱成分腐食せしめ、平均気孔サイズ約33nm以下〜約5nm以下を有しており、ローダミン６Ｇを表面に吸着せしめてのラマン散乱信号測定で著
しい表面増強ラマン散乱が観察されるものを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】有害性、刺激性の強いフッ素化合物を用いることなく、かつ、特別な装置を必要としない簡便な化学的処理により、アルミニウム又はアルミニウム合金を装飾性のある白色面にするための処理液および処理方法を提供する。
【解決手段】リン酸および硫酸を混合してなる基本液１ｋｇに対して、ビスマス化合物をビスマス元素として０．００１〜０．０２０モル添加してなることを特徴とし、好ましくは、更に含窒素ポリカルボン酸類を添加してなる白色処理液。この液を９０〜１１０℃に加温し、アルミニウム又はアルミニウム合金を６０〜１２０秒処理することにより、表面が白色化する。 （もっと読む）

【課題】より過酷なエッチング条件でエッチング加工してもエッチング耐性が良好なウェットエッチング用レジストインクを提供する。
【解決手段】バインダー樹脂と、特定のケイ酸化合物を含む構造を持つ化合物（Ａ）を含有するウェットエッチング用レジストインク。 （もっと読む）

【課題】パターンの寸法精度を保ちつつ、中抜けによるパターンの欠損を抑制することができる凸版反転オフセット印刷用印刷版及び該印刷版を用いた液晶表示装置の製造方法並びに液晶表示装置の提供。
【解決手段】基板に転写するパターンに対応する必要パターン部が凹部となり、基板に転写しないパターンに対応する不要パターン部が凸部となる凸版反転オフセット印刷用の印刷版６において、印刷版６の少なくとも一つの必要パターン部の内部に、少なくとも一つの凸型に形成された補助パターン９を備えるものであり、この補助パターン９により、大面積の必要パターン部の底部にブラケット１のインキ５が接触して残留する中抜けと呼ばれるパターンの欠損を抑制することができ、高精細なパターンと大面積パターンとが両方存在する場合であっても、印刷版６を用いてパターンを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】金属線または間隔のクリティカルディメンションを実質上変化させることなく、所望量の金属を除去するエッチング工程が必要とされている。
【解決手段】エッチングレジストとエッチング後の金属残渣を単一工程で除去する、光学ディスプレーデバイスの製造方法が提供される。これらの方法はＬＣＤの製造に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】二つの動作を二つのリンクの差動で行うことにより、各リンク長の組み合わせで、浸漬深さを維持したまま設備を小型化することが可能な、湿式表面処理装置を提供する。
【解決手段】搬送機構部１３において、搬送歯車１８が１回転する間に上下動ケース２７が６回転する必要から、内歯歯車１７と遊星歯車２２のギア比が３：１、第１、第２伝達ギア２５，２６のギア比を２：１として、搬送歯車１８：上下動ケース２７の回転比を１：６とする設定とする。
また、前記搬送機構部１３により、差動動作を行うために、上記第１上下動歯車２８と第３上下動歯車３０とのギア比を１：２とする一方、第１揺動歯車３２と第３揺動歯車３４とのギア比を２：１とする設定とする。 （もっと読む）

【課題】リン酸を含むエッチング廃液中のＭｏ成分及びＡｌ成分を除去して再生する、エッチング廃液の再生方法及び再生装置を提供する。
【解決手段】エッチング廃液を貯留する廃液貯留槽４と、廃液貯留槽４内のエッチング廃液をそのｐＨが０．５〜０．９となるように希釈する希釈部５と、官能末端基がＨ基であるポーラス型の強酸性陽イオン交換樹脂が装填された吸着塔１４，１５と、官能末端基がＯＨ基であるポーラス型の強塩基性陰イオン交換樹脂が装填された吸着塔２０，２１と、廃液貯留槽４内のエッチング廃液を吸着塔１４，１５に供給する廃液供給部８と、吸着塔１４，１５と吸着塔２０，２１とを接続する接続管１６，１７と、吸着塔２０，２１から流出する希釈エッチング廃液から水分を除去して濃縮する濃縮部２２とを備える。 （もっと読む）

【課題】過酸化物含有溶液を用いて、金属表面を化学研磨する方法を提供する。
【解決手段】研磨溶液は、金属および過酸化物含有酸性研磨溶液を安定化するための、尿素および、１つ以上のヒドロキシル基または１つ以上のアミノ基で置換されていてもよい１種以上のアルカンジホスホン酸またはその塩の混合物を含有した過酸化物含有した溶液である。また、ｐＨが０〜３で、鉄含有金属表面、及び銅含有金属表面を化学研磨するのに適用できる。 （もっと読む）

対象物の表面の少なくとも一部を処理するための流体メニスカスを利用する湿式処理装置および方法である。対象物の表面の１つが処理された後に、対象物の他の側面または表面が同様に処理されうる。いくつかの例を挙げれば、この処理はコーティング、エッチング、めっきでありうる。この装置と方法の用途は、半導体処理産業、特にウェハおよび基板の処理にある。この方法と装置は、電子構成部品の多数の表面の処理をも可能にする。 （もっと読む）