【課題】筐体間の隙間からの処理液流出を防止することができる処理液供給装置を提供する。
【解決手段】処理液供給ノズル１は、所定間隔の隙間２を隔てて上下に対向配置された上部筐体１０および下部筐体２０を備える。上部筐体１０および下部筐体２０のそれぞれの側壁面には処理液供給部１２，２２および処理液排出部１５，２５が付設されている。処理液供給部１２，２２が隙間２の一方側から処理液を供給して処理液排出部１５，２５が他方側から吸引することによって隙間２に処理液流が形成され、ガラス基板ＧＳはその隙間２中を搬送される。下部筐体２０の上面２１には、ガラス基板ＧＳの先端部が支持コロ５０に接触して跳ね上がりが生じた場合であっても、隙間２の基板入口側に形成された処理液のメニスカスを維持できるようなピッチにて複数の支持コロ５０が配列されている。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの清浄化のために消費された、ＨＦ、ＨＮＯ₃、Ｈ₂ＳｉＦ₆及びＨＮＯ₂を含有する水性のエッチング混合物から簡単に廉価に酸回収する。
【解決手段】消費されたエッチング混合物を、段階的に蒸留するにあたり、第一の留分において、約２０〜５０質量％の消費されたエッチング混合物を希酸として留去し、その際、該希酸は、ヘキサフルオロケイ酸として溶解されたケイ素９０質量％より多くを含有し、かつ消費されたエッチング混合物中の含水率は、約１０〜３０質量％だけ低下し、そしてこの水が少ない混合物を、消費された水性エッチング混合物の出発量の約１〜５質量％の残留物を残して蒸発させ、そしてここで留去された第二の留分を、１つの容器中に受容し、そして引き続き残留物を廃棄処理する。 （もっと読む）

【課題】 ガラス等の絶縁膜基板、シリコン基板および化合物半導体基板上にスパッタリング法により成膜したチタンまたはチタンを主成分とする合金からなる層と、アルミニウムまたはアルミニウムを主成分とする合金からなる層とを含む金属積層膜を下地の基板等にダメージを与えることなく、さらに、テーパー角度を３０〜９０度に抑制し、積層膜を一括にエッチング可能なエッチング液組成物を提供する。
【解決手段】 本発明のエッチング液組成物は、ヘキサフルオロケイ酸、ふっ化水素酸の金属塩またはアンモニウム塩、およびヘキサフルオロケイ酸の金属塩またはアンモニウム塩からなる群から選ばれた少なくとも1種のふっ素化合物と酸化剤とを含有する。 （もっと読む）

【課題】第１及び第２の薬液タンクを有する薬液処理装置を用いた薬液処理工程において、第１の薬液タンクと第２の薬液タンクとを切替える際に、流路中に残留する旧薬液が新薬液に混入して、薬液濃度の変化や薬液の劣化を生じさせるのを未然に防止すること。
【解決手段】本発明では、薬液を用いて被処理体を処理する薬液処理部(12,13)に循環流路(10)を介して第１及び第２の薬液タンク(2,3)を連通し、制御部(22)で第１又は第２の薬液タンク(2,3)を切替えて薬液処理部(12,13)に薬液を供給するように構成した薬液処理装置(1)において、制御部(22)は、第１の薬液タンク(2)から第２の薬液タンク(3)に切替えるときに、第２の薬液タンク(3)から供給される薬液を循環流路(10)を介して第１の薬液タンク(2)に送る薬液切替流路(D)を一時的に形成することにした。 （もっと読む）

【課題】 導電性及び光透過性を有するようにパターニングされた電磁波遮蔽部材に有用な導体層パターン付き基材を転写法を用いて生産性よく製造するためのめっき用導電性基材を提供する。
【解決手段】 凸部のパターン及びそれによって描かれる幾何学図形状の凹部を有し、凸部の上端から０．５〜３μｍ低い位置よりも低い位置の凹部表面に絶縁層が形成されており、凸部の導電性基材の露出部分の幅が１μｍ〜４０μｍであって、凹部に絶縁層を施した後の凸部の高さが、１０μｍ以上であるめっき用導電性基材。凸部の露出部分が先端方向に進むにつれて幅が広がっておらず、全体として下部よりも上部で幅が小さくなっていることが好ましい。
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【課題】基板エッチング装置を提供する。
【解決手段】エッチング槽、基板に装着されエッチング槽の内部に設置されたカセット、カセットの下部面に設置される多孔板、多孔板に形成されてそれぞれ複数の吐出口からなる吐出部、吐出口にそれぞれ連結され、ガスの供給を受けて吐出口を通じて基板にバブルを提供する第１ラインを含む基板エッチング装置を提供する。第１ラインは、複数のグループに区分され、複数のグループ中で少なくとも一つのグループは、残りのグループと異なる圧力のガスの供給を受ける。 （もっと読む）

【課題】 動圧作用を発生させるための動圧発生部の形成工程を簡略化して、その加工コストの低減を図る。
【解決手段】 軸受隙間に動圧作用を発生させるための動圧発生部を形成するに際し、先ず、素材２ａ’表面にインク１２を供給して、微量インクの集合体で動圧発生部の形状に対応したマスキングパターン１を形成する。次いで、非マスク部１ｂの素材表面を化学エッチングで表面粗さＲａ０．３以内となるように除去し、その後、マスキングパターン１を除去する。 （もっと読む）

【課題】残渣の発生を防止することが出来る導電膜パターニング方法を提供する。
【解決手段】基板Ｐ上にアルミニウムを含む導電材料によって導電膜Ｌを形成する導電膜形成工程と、この導電膜形成工程によって形成された導電膜Ｌ上に耐アルカリ性材料によってレジスト膜Ｒを積層して形成するレジスト膜形成工程と、このレジスト膜形成工程によって形成されたレジスト膜Ｒに対して露光マスクＭを介して露光を行う露光工程と、この露光工程の終了後に、キレート剤が添加されたアルカリ性の現像液によって、レジスト膜Ｒの現像を行うとともに導電膜Ｌのエッチングを行う現像およびエッチング工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】非破壊検査方法等において、標準試料として必要な水素脆化チタン管を容易に作製する方法およびその装置を提供する。
【解決手段】本発明の水素脆化チタン管の作製方法は、チタン管の表面を溶液中で金属に擦り付けることを特徴とし、また作製装置は、溶液を入れる容器、該容器内に配置され、チタン管を挿入する孔を有する金属製バッフル、該金属製バッフルの孔に挿入されたチタン管の一端を保持し、回転させるための回転手段からなり、該金属製バッフルの孔の直径がチタン管外径より０．０４〜２ｍｍ大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】撮像装置の美感の向上と撮影時における撮像装置の確実な保持及び操作。
【解決手段】撮像装置（デジタルスチルカメラ１）のレンズ鏡筒部３側の外筐２表面である外筐フロント形成部４１表面にエッチングが施される。前記エッチングによって形成された食像（凹凸模様３１）は複数の凹部３２と凸部３３とが連続的に配置されてなる。凹部３２及び凸部３３の設置面は菱形に形成される。前記エッチングによって形成される凹部及び凸部の設置面は三角形に形成してもよい。前記設置面が三角形に形成される場合、凹部と凸部の設置面の組み合わせからなる輪郭の形状が菱形となるように凹部と凸部が配置される。前記菱形の横対角線の長さは縦対角線の長さよりも長く設定される。尚、デジタルスチルカメラ１のモードダイヤルの側面にエッチングによって凹凸からなる模様が形成される。前記模様としては唐草模様や月桂樹模様が例示される。 （もっと読む）

【課題】 準備期間を短縮し、かつコストを抑えた、放電加工用電極を製造する方法を提供する。
【解決手段】 放電加工用電極が、本体およびこの本体に１つまたは複数の所定形状の歯部を含み、これらの本体および歯部は、導電性材料からなる基体を光化学エッチング処理することによって形成される。本発明の方法は、放電加工用電極を設計し（ステップ５０）、この設計は、フォトツールを作成すること（ステップ１００）を含む。光化学エッチング処理の前に、基体フォトツール複合体を形成するように、フォトツールを基体の上に貼付する（ステップ１５０）。酸性の腐食液を基体に噴霧し、フォトツールによって被膜されてない全ての金属を除去し、電極１０を形成する（ステップ２００）。 （もっと読む）

【課題】内表面を侵すことなく基体の外表面上の金属コーティングを化学的に剥離する方法を提供する
【解決手段】処理段階は、基体（１０）の内表面をマスクするために７５℃より高い溶融温度を有する熱分解可能なワックス（２０）を内部通路（１８）内に堆積する段階と、式Ｈ_ＸＡＦ_６を有しＡが珪素、ゲルマニウム、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、またはガリウムであり、ｘが１から６までの数値である酸を含有する水溶液を用いて基体（１０）を処理する段階とを含む。水溶液は、ワックス（２０）の溶融温度より低い温度であり、実質的に基体（１０）の外表面から金属コーティングを除去し、同時にワックス（２０）は、実質的にこの水溶液に非反応性でありこの水溶液が基体（１０）の内表面に接触することを防止する。その後、基体（１０）は、有害な副生成物を生成することなくワックス（２０）を熱分解するために加熱される。 （もっと読む）

【課題】鉄系の金属材料に、カゼインを用いたフォトレジストを塗布しフォトレジスト層を形成しても、塗布工程から乾燥工程の間で金属材料の表面に錆が発生しないエッチング部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】フォトエッチング法により鉄系の金属薄板など、金属材料を加工するエッチング部品の製造方法にて、フォトエッチング法にて用いるフォトレジストとして、カゼイン、重クロム酸アンモン、アンモニア水からなり、アルカリ性のフォトレジストを用いること。フォトレジストのアルカリ性がｐＨ７．４５±０．１５であること。 （もっと読む）

【課題】 ＭＣｒＡｌＹコーティングなどのコーティングをもつニッケル基耐熱合金基体の形成方法と、この基体からコーティングを除去する方法を提供する。
【解決手段】 ニッケル基耐熱合金基体からなるタービンエンジン部品のＭＣｒＡｌＹコーティングを除去するストリッピング方法を提供する。基体を所定量の硫酸と塩酸の混合物を含む酸性水溶液中に浸漬することにより、基体からＭＣｒＡｌＹコーティングが除去される。本発明の方法により、ストリッピング時に高体積率のアルミニウム濃縮共晶相を含む合金部品が孔食などの化学的作用を受けることなくコーティングが効果的に除去される。 （もっと読む）

【課題】半導体素子及び電子素子の製造・検査用及び加速器等研究用の低真空から極高真空に到達する真空装置及び真空部品を製作するために最適なチタンまたはチタン合金、並びにその製造方法の提供。
【解決手段】チタンまたはチタン合金の表面を酸液により研磨並びに酸化処理し、その後水により洗浄処理して、当該金属の表面に１０ｎｍ未満の薄い均一かつ緻密な表面酸化層を形成させる。 （もっと読む）

【課題】ハーフエッチングを施した時に平滑な表面が得られる銅又は銅合金箔を提供する。
【解決手段】板厚方向に直角な断面を観察した際に、結晶の〔１００〕方向と圧延方向とのなす角度が１５度以内である結晶粒の面積率が８０％以上で、且つ結晶粒径が最大で５μｍ以下である回路用銅又は銅合金箔。 （もっと読む）

【課題】スプレー処理設備のノズルから噴射されるスプレー液によって、被処理物上に累積される処理液の液厚分布情報を仮想実験によって算出する。
【解決手段】スプレーノズルの仕様データ、被処理物のサイズと搬送速度についてのデータを入力し、サンプリング時点ごとに、ノズルの全体から噴射されるスプレー液が搬送される被処理物上に形成する噴射領域を計算し、所定時間の間に受ける噴射領域に対応するスプレー液の液厚分布データを算出し、この液厚分布データを仮想実験時間について累積し、実験結果とする。なお各ノズルが作る噴射領域に対応する液厚のデイジタル値は一定値とし、複数のノズルが作る噴射領域が重なる領域については液厚の重複レベルに応じてこの一定値を積算する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関する。
【解決手段】エッチング液組成物及びこれを利用した導電膜のパターニング方法並びにフラットパネルディスプレイの製造方法に関し、前記エッチング液組成物は、リン酸、硝酸、酢酸、水及び添加剤を含み、前記添加剤は、塩素系化合物、硝酸塩系化合物、硫酸塩系化合物及び酸化調整剤を含む。また、前記エッチング液組成物を利用して、互いに異なる導電物質からなるゲート電極、ソース／ドレイン電極及び画素電極をパターニングする工程を行ってフラットパネルディスプレイを製造する方法を提供することによって、工程をさらに単純化させることができ、生産費用の低減と生産性の向上を期待することができる。 （もっと読む）

【課題】 熱間圧延、冷間圧延、中間焼鈍、引張歪付与、最終焼鈍を順次実施して製造する電解コンデンサ電極用アルミニウム材において、最終焼鈍後のアルミニウム材のエッチング特性が不十分であるという問題点を解決し、エッチング特性に優れた電解コンデンサ電極用アルミニウム材の製造方法、電解コンデンサ電極用アルミニウム材、電解コンデンサ用電極材の製造方法、アルミニウム電解コンデンサ用陽極材およびアルミニウム電解コンデンサを提供する。
【解決手段】 アルミニウム材のPbの含有量を0.3質量ppm以上2.5質量ppm以下とし、中間焼鈍を酸化性雰囲気中で実施し、引張歪付与後最終焼鈍前のアルミニウム材を酸化性雰囲気中で加熱する。 （もっと読む）

【課題】樹脂に下地金属層を介して金メッキされた金メッキ部分を、簡単かつ安全に樹脂から剥離し、金を回収、リサイクルする。
【解決手段】塩化第二鉄水溶液などのエッチング剤で樹脂３の下地金属層２を腐食させる事で金メッキ層１を樹脂から剥離し、分離された樹脂を取り除き、金を含む溶液をろ過して金のみを回収、リサイクルする。 （もっと読む）