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Fターム[4K063DA13]の内容

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【目的】焼成中に焼成雰囲気を短時間で切り替えることができ、高精度のガス雰囲気制御が可能で、処理品の搬送を連続的に行うことができるプッシャー式連続焼成炉を提供する。
【構成】処理品を焼成するための炉本体内に、処理品を載せた台板がプッシャーにより搬送されるよう構成されたプッシャー炉において、炉本体には台板が滑動できる床面が設けられ、各台板はさやで覆われてそれぞれ独立した焼成さやを構成し、炉本体内の各焼成さやの位置には、その位置にある焼成さや内の雰囲気を調整するためのガスを導入するガス導入管とガスを排出するガス排出管がそれぞれ配置されるとともに、前記炉本体内の各焼成さやの位置の床面にはそれぞれ貫通穴が設けられ、該貫通穴に前記ガス導入管とガス排出管が接続され、各台板にも貫通穴が設けられてなる。 (もっと読む)


【課題】成形材に対する熱伝播効率をより一層向上させると共に省力運転を可能とするオートクレーブのガス循環方法および装置を提供する。
【解決手段】圧力容器2内に、マッフル炉3を設置し、前記マッフル炉3内を流通するガスへ熱量を補給し、以って、前記圧力容器2内で材料を加圧、加熱、冷却し、成形材を接着、成形するオートクレーブの熱風循環方法において、前記マッフル炉3内の長手軸に沿うガスの主たる流れに混・乱流を発生させる螺旋流を形成するオートクレーブの熱風循環方法とその装置。 (もっと読む)


【課題】炉本体内の雰囲気改善を容易に図ることができる回転炉及び回転炉用流体供給装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るロータリーキルン1によれば、キルン本体2の処理部2cへ導入される窒素ガスGがN入口部16から供給され、キルン本体2の外壁面2aに沿って敷設されたN溜め配管14に溜められる。このN溜め配管14は、キルン本体2と共に回転するため、キルン本体2は支障なく回転することができる。そして、N溜め配管14に溜められた窒素ガスGは、N出口部30を通じて処理部2cへ導入される。よって、キルン本体2内の任意の箇所に雰囲気改善のための窒素ガスGを供給することができ、キルン本体2内の雰囲気改善を図り易くなる。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成により、適宜的に、熱処理空間の内部の雰囲気を熱処理空間の外部に対して完全に独立させることが可能な熱処理装置を提供する。
【解決手段】真空加熱炉10は、真空容器12、および真空容器12に対して着脱可能な炉芯管30を備える。真空容器12は、炉芯管端部支持部22、炉芯管導入部25、挿通孔191を有する第1のマッフル蓋体182および第1の断熱材蓋体202、ならびに挿通孔193を有する第2のマッフル蓋体184および第2の断熱材蓋体を備える。第2のシール部34は、炉芯管側フランジ部材348、真空用ベローズ342、およびガス流入出ユニット350を備え、炉芯管30を真空容器12に気密に接続可能にするように構成される。 (もっと読む)


【課題】煤煙の発生を抑制するだけでなく、陶磁器の焼き上がりに不具合を生じさせることのない登り窯や穴窯を提供する。
【解決手段】登り窯1の煙道15a,15bには、背が高く、幅も広く、中程に中間壁21を備えた二次燃焼室20を備えている。中間壁21の上流側直前には、バーナー22が設置される。バーナー22は、燃料(ガス、灯油等)を停止して空気のみを吹き込むブロワーとして使用可能なものであって、それ自体が、二次燃焼室20内に進入・後退可能に設置される。二次燃焼室20の中間壁21の上部にはロストル23及び温度センサ24が設置される。二次燃焼室の入口25の近傍には仕切り壁26が設置される。二次燃焼によって発生したガスは、仕切り壁26に遮られると共に、送風機30が煙突内に発生させる気流に引かれ、逆流することなく排出される。 (もっと読む)


本発明は、金属学的熔融及び処理ユニットに関し、特に非鉄金属溶融浴を保持するとともに処理するための実質的に筒状の容器に関する。
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【課題】 光輝焼鈍用の雰囲気ガス中で処理材を加熱帯から冷却帯に連続して搬送させて焼鈍するにあたり、雰囲気ガス中に含まれているホワイトパウダーを適切に除去し、ホワイトパウダーが、冷却器等に付着して冷却効率が低下したり、処理材の表面に付着して処理材の表面の光沢が損なわれたりするのを適切に防止する。
【解決手段】 光輝焼鈍用の雰囲気ガス中で処理材1を加熱帯12から冷却帯13a〜13cに連続して搬送させて焼鈍する連続焼鈍炉10において、ホワイトパウダー成分を含む雰囲気ガスを連続焼鈍炉からホワイトパウダー除去部30に導く案内ダクト17を設けると共に、このホワイトパウダー除去部に、雰囲気ガスを冷却させてホワイトパウダーを発生させる冷却ロール32と、この冷却ロール上に発生したホワイトパウダーを冷却ロールから除去する除去手段33を設けた。 (もっと読む)


【課題】過熱蒸気を利用して加熱を行う際に、新規に供給する過熱蒸気量を低減し、エネルギー効率の向上及び環境負荷の低減を図る。
【解決手段】加熱システム10のボイラ12は、水蒸気供給管14によって過熱蒸気発生装置20に接続され、該過熱蒸気発生装置20は、第1の過熱蒸気供給管22によって、加熱炉30の第1の吹出用配管32に接続される。加熱炉30は、過熱蒸気36の吹出口34を有する第1の吹出用配管32と、吹出口42を有する第2の吹出用配管40を備えている。加熱炉30の過熱蒸気は、吸引ポンプ50により回収されて大部分が再加熱装置64へ送られ、再利用可能な温度に加熱されて、第2の過熱蒸気供給管70により前記第2の吹出用配管40に送られる。前記加熱炉30における第1の吹出用配管32及び第2の吹出用配管40からの過熱蒸気の供給量の比率は、予め設定されている。 (もっと読む)


【課題】被処理物を容器内で移動させながら、加熱,乾燥,焙煎,水蒸気加熱,水蒸気蒸留,水蒸気抽出等の各種の処理を、いわゆるバッチ処理方式によって行う際に好適に利用可能な、研究開発段階において使用するに好適な、回転型処理装置を提供すること。
【解決手段】被処理物の供給・取出し部を有し、被処理物を保持する回転可能な筒状体と、筒状体に収容され、筒状体の内壁に摺接する、3枚のブレードから構成される1つ以上のブレードブロックと、ブレードブロックを含む筒状体を外部から加熱する加熱手段と、ブレードブロックを含む筒状体内に、過熱水蒸気を供給する過熱水蒸気発生・供給手段とを備え、ブレードブロックを含む筒状体は、その回転軸に沿う一端部が回転駆動部に接続されており、他端部には被処理物の供給・取出しのための開閉可能な蓋部を有し、回転軸上の1点を中心として垂直面内で揺動可能であることを特徴とする回転型処理装置。 (もっと読む)


【課題】温度の制御性がよく、熱風の吹き出し温度を被加熱物の設定温度に短時間で到達できる加熱炉を提供する。
【解決手段】炉体1内に熱風を送り込み炉体から吹き出させた熱風により被加熱物を加熱処理する加熱炉において、加熱風送りダクト4と、非加熱風送りダクト5と、加熱風と非加熱風を混合し炉体に送る混合風送りダクト6と、加熱風送りダクトと非加熱風送りダクトの送り風量比率を制御する制御手段10を備え、被加熱物を加熱する設定温度の変更時に、制御手段より加熱風送りダクト及び非加熱風送りダクトの送り風量比率を制御して、高温の或いは低温の熱風を送り出すことにより、加熱風送りダクト、混合風送りダクト、炉体を加熱或いは冷却して昇温或いは降温させて被加熱物を設定温度とほぼ同程度の温度とさせてから、制御手段により送り風量比率を制御して被加熱物の設定温度とほぼ同程度の温度とした熱風を送り出せるようにした。 (もっと読む)


【課題】 熱風の吹き出し温度を被加熱物の設定温度に短時間で到達させることができる加熱炉を得る。
【解決手段】 ダクト3を通して炉体2内に熱風を送り込み炉体2から吹き出させた熱風により被加熱物を加熱処理する加熱炉において、ダクト3及び/又は炉体2に、ダクト3及び/又は炉体2を昇温或いは降温させるための加熱及び又は冷却手段13を備えることにより、被加熱物を加熱する設定温度の変更時に、加熱及び/又は冷却手段13によりダクト3や炉体2を加熱或いは冷却して昇温或いは降温させ、ダクト3や炉体2を急速に被加熱物を加熱する設定温度とほぼ同程度の温度とさせ、ダクト3や炉体2内を通る熱風の熱に対するダクト3及び/又は炉体2の熱的影響を抑えるようにした。 (もっと読む)


【課題】焼成炉でセラミック焼成を行う際、バインダー由来の有機性分解物が炉内ガスの露点測定手段に付着することのなく、かつ、高精度の露点の制御が可能な露点制御方法を提供する。
【解決手段】脱バイ工程では、焼成炉1内へ供給される炉内供給ガスをサンプリングして制御用露点計3による露点測定を行い、設定露点との誤差をフィードバック調整する露点制御を行い、焼結工程では、炉内ガスをサンプリングして制御用露点計3による露点測定を行い、設定露点との誤差をフィードバック調整する露点制御を行う。 (もっと読む)


【課題】冷却温度プロファイルを最適化することができる連続焼成炉を提供する。
【解決手段】冷却部30が、複数の隔壁31により搬送方向に対して仕切り形成されて成形体51の搬送速度に合わせて個別に冷却温度プロファイルの制御が可能な複数のゾーン32を有することで、急峻すぎる冷却温度勾配やなだらか過ぎる冷却温度勾配をなくして、より短時間でより均一冷却が可能となるように、冷却温度プロファイルを最適化することができるようにした。 (もっと読む)


【課題】溶融金属中の含有ガスの脱ガスと蒸気圧の高い金属成分の除去により製品不良を少なくするとともに、真空精錬装置内の処理ガスを再利用してコスト低減を図ることを課題とする。
【解決手段】溶融金属を収納する真空精錬装置1と、該真空精錬装置に接続され,真空精錬装置内を1気圧以下に保持しえる高真空ポンプ10と、真空精錬装置内で溶融金属を攪拌する攪拌手段と、真空精錬装置内で生じる処理ガスを精製する精製器11、精製器に接続するコンプレッサ付き粗引きポンプ12と、真空精錬装置内にフラックス及び不活性ガスを導入するガス導入回転手段6を具備し、真空精錬装置1、高真空ポンプ10、精製器11及びコンプレッサ付き粗引きポンプ12がループ状になるように順次接続されている。 (もっと読む)


【課題】真空容器中において被加熱物を加熱するのに要する時間を短くすることができる加熱装置および加熱方法を提供する。
【解決手段】真空容器30と、第1のガス経路21aとを有する。真空容器30は被加熱物11を収納するためのものである。第1のガス経路21aは、加熱されたガスを被加熱物11に直接吹き付けるための噴出部22を有する。 (もっと読む)


【課題】 簡素な構造で組み立てが簡単でありながら防塵可能な炉の天井構造体及び炉の天井構造体の組み立て方法を提供すること。
【解決手段】 保持部は、発熱体の端部を係止する溝を有する一対の絶縁体を備える。発熱体を一対の絶縁体の溝間でこの発熱体が長手方向に対し円弧状になるように保持してある。天井部材6は複数の第一薄板部材20a〜eを積層し、発熱体に沿って円弧状に形成してある。各天井部材6が少なくとも炉内外を貫く貫通部材14を挿入可能な間隙をおいて並ぶように複数のヒーターユニットを配置してある。この間隙11を第二薄板部材12a,bによって塞ぐことで天井を形成する。この第二薄板部材12a,bは、貫通部材14がクリアランス15をもって貫通する第一貫通孔13を備え、貫通部材14を密接状態で貫通させる第二貫通孔を有する閉塞部材16及びこの閉塞部材16を固定する固定部材17,18によって複数の第一薄板部材20a〜eの間で先のクリアランス15を閉塞する。 (もっと読む)


【課題】複数の基板搬送機構を有するリフロー装置において、省エネルギ化を大きく促進でき、しかも基板列毎に異なる温度プロファイルを設定することが可能なものを提供する。
【解決手段】基板Pを通過させる内部空間が複数の加熱ゾーンZに分けられた加熱炉1と、前記内部空間に配置されて基板Pを搬送する互いに平行な複数の基板搬送機構6と、前記各加熱ゾーンZにそれぞれ設けられた加熱ガス供給機構2とを設け、前記加熱ガス供給機構2を、前記各基板搬送機構6による基板通過領域ARにそれぞれ対応して設けられた加熱ガス吹出口2aを具備したものにした。そして、各加熱ガス吹出口2aから、基板通過領域AR毎に異なる温度の加熱ガスを吹き付け可能であるとともに、いずれかの基板通過領域ARに選択的に加熱ガスを吹き付け可能に構成した。 (もっと読む)


【課題】ガラスハーメチックを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉のマッフル内に水分が侵入することを阻止するようにしたハーメチックシール用連続式熱処理炉を提供する。
【解決手段】一体形状のマッフル2を外部から加熱する加熱部3と冷却する冷却部4及びマッフル2内を通って加熱部3から冷却部4へと所定速度で移動して被焼成体10を搬送する搬送手段5を有し、被焼成体10のガラスハーメチックシールを行うハーメチックシール用連続式熱処理炉1において、マッフル2の少なくとも入口側2aにマッフル2内への水分の侵入を阻止する手段7を設けた。 (もっと読む)


【課題】 炉内雰囲気ガスのカーボンポテンシャルの指標値を、CO濃度に起因するハンチングなしに精度よく基準値に維持できる熱処理炉の雰囲気制御方法を提供する。
【解決手段】 炉内のカーボンポテンシャルの指標値を、炉内に供給する吸熱形変成ガスと窒素ガスのうちの少なくとも吸熱形変成ガス量を調節することにより基準値に制御する雰囲気制御方法において、炉内のCO濃度が所定の設定値SV以下に低下したときに炉内へ空気を送入し、設定値SVとCO濃度の検出値の偏差に応じたフィードバック制御出力に、吸熱形変成ガスとNガスの炉内への送入量に応じたフィードフォワード制御出力を加えた総制御出力Sに基づいて、空気の送入量を調節することによりCO濃度を設定値SVを目標値として制御し、その後CO濃度が設定値SVより所定値以上大となったとき空気の送入を停止することにより、CO濃度を設定値SV以上に維持する。 (もっと読む)


【課題】基板等の被加熱物を熱風によって熱処理する熱処理装置を改良するものであり、開閉扉の開閉に伴う加熱室内の温度変動を抑制することができる熱処理装置の開発を課題とする。
【解決手段】熱処理室には排気ダクト30が設けられており、当該排気ダクト30の中途に送風機8が設けられており、基板を加熱する際に生じるガスを外部に排気するために、送風機8が常時運転されており、熱処理装置1内部の圧力が負圧傾向となるが、通気装置61を設けることで熱処理装置1の内外における圧力差が殆どない状態にすることができる。即ち熱処理装置1では、内部の圧力を検知する圧力センサーを有し、当該圧力センサーの信号をアクチュエータ73にフィードバックし、シート66を上方向に移動させて通気装置61の有効開度を調節し通気量を調整する。 (もっと読む)


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