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Fターム[4K063DA13]の内容

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【課題】短時間で効果的に結露を防止し、作業効率を向上させて良好な被処理品を得ることができる単室型真空熱処理炉及び単室型真空熱処理炉における被処理品の酸化防止方法を提供する。
【解決手段】炉壁11に水冷ジャケット15が設けられ、該炉壁11により内部に被処理品Wの処理空間Sが形成された炉本体1と、炉本体1内に設置された被処理品Wを加熱する加熱装置2と、処理空間S内に冷却ガスを供給する冷却ガス供給装置3と、処理空間S内に設置された熱交換器52により前記冷却ガスを介して被処理品Wを冷却する第一の冷媒循環系と、前記処理空間内を減圧する減圧装置4と、冷却ジャケット15に冷媒Cを供給する第二の冷媒循環系とを備えた単室型真空熱処理炉Aにおいて、前記第二の冷媒循環系は、冷媒Cを加熱する冷媒加熱部65を備えていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】安定した特性の焼結物を得るのに適した焼成炉制御方法及び焼成装置を提供すること。
【解決手段】焼成炉1は、搬入準備室10と取出準備室18との間に、第1炉室11〜第7炉室17を有している。炉圧制御に当たり、第1炉室11〜第7炉室17の内圧P1〜P7を大気圧Paよりも高く保つ。また、搬入準備室10に隣接する第1炉室11の内圧P1を、第2炉室12の内圧P2よりも高く保つ。更に、取出準備室18に隣接する第7炉室17の内圧P7を、第6炉室16の内圧P6よりも高く保つ。 (もっと読む)


【課題】大型の平板状部材であっても、熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材50を、トンネル状の炉体1の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材の熱処理炉であって、炉体1の両側壁1bから炉内に延出するローラ2を、互いに対向させて、炉内1側が側壁1b側よりも低くなるように傾けて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、ローラ2上に平板状部材50を載せ、ローラ2を一定方向に回転させて、平板状部材50を、炉体1の炉長方向に移送するように構成する。なお、対向するローラ2の少なくとも一方の下方に、ローラ2を転支する受けコロ4を設けることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】大型の平板状部材であっても、熱処理することができる平板状部材の熱処理炉を提供する。
【解決手段】平板状部材を、トンネル状の炉体1の炉長方向に移送しつつ熱処理を行う平板状部材50の熱処理炉であって、炉体1の両側壁1bから炉内に延出するローラ2を、互いに対向させて、炉長方向に複数、回転自在に配設し、対向するローラ2の先端2a間に、平板状部材50を転支する受けコロ4を配設し、ローラ2及び受けコロ4上に平板状部材50を載せ、ローラ2を一定方向に回転させて、平板状部材50を、炉体1の炉長方向に移送するように構成する。 (もっと読む)


原材料を、電気アーク炉内で、方向が可変な炎を使用して溶融させる方法及び装置であって、前記装置は、バーナーとランスとを具備し、ランス出口(31)開口部及びバーナー出口開口部(21)は同心ではなく、互いに距離を以って位置しており、ランス軸(32)は、バーナー軸(22)と、10°乃至40の範囲にある角度を成している。 (もっと読む)


【課題】簡易な追加作業によって既設の真空熱処理炉において対象物のプラズマ処理を可能とする。
【解決手段】熱処理室3の内部に第1の絶縁材11を介して導電材料からなるワーク台12を設置する工程と、電源装置13の電極131を第2の絶縁材15を介して熱処理室3を貫通させてワーク台12と接続する工程と、熱処理室3を接地する工程と、少なくとも電源装置13及びガス供給装置5を制御することによって熱処理室3の内部にプラズマを発生させる第2の制御装置14を設置する工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】内部応力および隅部亀裂が発生せず、所望品質のシリコン結晶インゴットが得られる対流冷却構造を有する結晶成長炉を提供する。
【解決手段】炉本体、加熱室、ヒータを含み、加熱室は炉本体に収容され、上側隔壁、複数の側方隔壁、および下側隔壁を含む。上側隔壁には、上側開口部と、中央開口部を有する下側隔壁とが設けられる。加熱室には、上側ドア、下側ドア、上側ドライバ、および下側ドライバが設けられ、シリコンスラリーが冷却および凝固される際、冷却ガス流が中央開口部を通って加熱室の下部に流れ込む。次に、上側開口部が、上側ドライバによって駆動される上側ドアにより開放されるため、加熱されたガス流が上側開口部から排出され、炉内壁に沿って下方に流れ、中央開口部から加熱室へ戻り、自動対流循環冷却流れ場が形成されるので、時間を節減し、生産効率を向上させた状態で、シリコンスラリーを迅速に冷却することができる。 (もっと読む)


【課題】 プリント基板及びこのプリント基板に実装される実装部品からなるワークを均一な熱風の対流によって、ムラなく且つ効率よく加熱することで、鉛フリーハンダに対応した実装が可能なリフロー加熱装置を提供することである。
【解決手段】 加熱空間26を有する加熱炉15と、外気を導入して圧縮空気を発生させる加圧ユニット50及び加熱ユニット40とを備えたリフロー加熱装置であって、前記加熱炉15には、載置したワーク20を挟んで対向する一対の側壁部47,48に設けられ、前記加圧ユニット50及び加熱ユニット40を経た圧縮空気による熱風を前記加熱空間26内に噴出する噴出部32,33と、加熱空間26内で循環させた熱風を排出する排出部34とが設けられ、前記噴出部32,33から噴出される熱風による対流によって、プリント基板からなるワーク20の加熱処理を行う。 (もっと読む)


トンネル炉が、生産工程の中で連続的方法において製品の熱処理のために用いられる。このトンネル炉は、典型的には、複数の同一の炉の部分からなり、各部分は、ファンと、新鮮な空気を加熱するための加熱要素と、共有された排気空気ラインとを有する。製品の処理のために、それらは、ファンの吸引側または圧力側とのいずれかを通過するように動かされる。そのような炉の容積全体を低減し、エネルギーを節約するために、ファンが炉の内部に配置され、その結果、ファンは、移動の方向を横断する循環の流れを生成し、乾燥されるべき製品は、互いに平行な移動の方向において、循環の流れを介して、ファンの圧力側と、また吸引側との両方で輸送されるべきであることが提案される。この炉は、好適には、自動車排気ガス接触コンバーターにおいて用いられ、その中でモノリシックハニカム体に適用される触媒層が乾燥され、焼成されなければならない。
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【課題】Li系原料を1030℃以上の高温で熱処理した場合にも、低融点化合物の流れ落ち現象を生ずることがないLi系原料熱処理用のローラハースキルンを提供する。
【解決手段】Li系原料をローラ搬送しながらSiCヒータにより加熱し、1030℃以上で熱処理するローラハースキルンであり、SiCヒータ8をローラ2よりも下側のみに配置する。またSiCヒータ8の下部にSiC系反射板9を配置し、ローラ間の開口率を50%以上とすることが好ましい。さらに炉室7の底部に空気供給口10を設け、また各炉室の上部に排気孔11を設け、焼成ゾーンを含む各炉室7の内部に、上向きの空気流を形成してLi上記がローラよりも下側に流れることを防止する。 (もっと読む)


【課題】廃木材を再利用可能で高品質な炭化物に炭化させる。
【解決手段】密閉した反応槽内に廃木材(例えば枕木など)を投入し、該反応槽内に加熱蒸気を供給して所定温度(例えば400℃〜500℃程度)まで雰囲気温度を高め、前記廃木材から添加物(例えばコールタールや防腐剤など)を気化させて除去すると共に、該廃木材を炭化させる廃木材炭化方法を実施する。特に、前記加熱槽内は、外気圧よりも高い気圧にして前記気化と炭化を実施する。 (もっと読む)


【課題】装置を大がかりにすることなく、炉内の一時的な急速加熱に対応できるバーナ炉及びバーナ炉の加熱方法を提供する。
【解決手段】炉体10内部に配設されたレトルト2を加熱するバーナは、少なくとも一対の蓄熱式バーナ4A、4Bからなる。更に、炉体10内の排気を行う排気口5が開閉自在に設けられている。排気口5の設置により、急速加熱時には、一対の蓄熱式バーナ4A、4Bを同時に燃焼させて、一時的に燃焼能力を向上させることができる。 (もっと読む)


【課題】内槽内の被加熱物の熱履歴を均一にできるオーブンを提供する。
【解決手段】オーブン1は、第1側壁4aに熱風導入口13が形成され、第2側壁に排気口16が形成された内槽4と、内槽を囲む外槽6と、内槽と外槽の間隙にある加熱手段8と、熱風12を熱風導入口から内槽内を通過させ、排気口から内槽と外槽の間隙へ還流させる送風手段9と、熱風導入口の周りにあり、熱風導入口を挟んで熱風の上流側と反対側で熱風に対向する第1集風板18と、熱風導入口の風上側にあり、熱風の循環方向に沿って配置され互いに対向する第2集風板26とを備え、熱風導入口の開口面積が内槽4内の被加熱物100を第1側壁に投影した面積よりも大きく、熱風導入口は、第1側壁に垂直な方向から見て被加熱物全体が熱風導入口の内側に収まるように位置する。 (もっと読む)


【課題】ガス供給源から供給されたガスをガス吹込みプラグに供給しつつ、タンク内にガスを充分かつ速やかに充填することが可能なガス供給装置を提供する。
【解決手段】ガス供給装置1は、タンク40と、上流側継手11と下流側継手15とを接続した主管路10と、一端が主管路に第一接続部12で接続され他端がタンクに接続された第一副管路21と、一端が第二接続部14で主管路に接続され他端が第一副管路に接続された第二副管路22と、主管路のガスの流通を第一接続部から第二接続部に向かう方向に規制する第一逆止弁31と、第一副管路のガスの流通を第一接続部からタンクに向かう方向に規制する第二逆止弁32と、第二副管路のガスの流通をタンクから第二接続部に向かう方向に規制する第三逆止弁33と、第一接続部より下流側で主管路におけるガスの流通抵抗を増加させる絞り抵抗管13と、第二副管路22に設けられた圧力調整弁51とを具備する。 (もっと読む)


【課題】原料より発生した反応生成ガスを速やかに排気すると共に、焼成に十分な反応ガスを原料に供給することができ、焼成不良を防ぐことが可能となる連続式焼成炉を提供する。
【解決手段】反応生成ガスが発生する区間において、水平に搬送される匣鉢5内の原料の表面に近接する位置で、下端部が開口するように垂下する複数の吸引ノズル8と、吸引ノズルの上端部が開口して連通する吸引パイプ9とを有する。あるいは、複数の反応ガス供給ノズルと、反応ガス供給ノズルの上端部が開口して連通する反応ガス供給パイプとをさらに有し、反応ガス供給ノズルおよび吸引ノズルは、交互に並べて配置する。 (もっと読む)


【課題】反応ガスの流量を低く抑えながらも、反応生成ガスを炉体の出口側に拡散させずに済む連続焼成炉を提供する。
【解決手段】炉体2と、被焼成物Wを搬入口から搬出口まで搬送するローラコンベア3と、複数のヒータと、反応ガスGを炉体内に導入するための導入管と、炉体内のガスG,G1を炉体外に排気するための排気管と、被焼成物Wと反応ガスGとの反応により反応生成ガスG1が発生する領域において、炉体側壁2aの内壁面に、炉体の長手方向に沿って設けられ、外周面の長手方向に複数の吸込孔10aを有し、該吸込孔を通じてガスG,G1を炉体外に排気する反応ガス回収管10と、を備え、被焼成物の上面からローラコンベアの上方に設けられたヒータまでの範囲内にある高さで、反応ガス回収管が配置されている。 (もっと読む)


【課題】金属溶湯中に含まれる水素または酸化物等の非金属介在物を効率的に除去できる金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去を提供する。
【解決手段】本発明の金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置は、金属溶湯を収容する容体(10)と、金属溶湯中に含まれる水素または非金属介在物を除去する作用ガスを金属溶湯中で噴出させる噴孔(42)を有する導気管(40)と、導気管に該作用ガスを供給するガス供給源と、導気管の噴孔から噴出した作用ガスを金属溶湯中で微細分散させる撹拌手段(50)と、を備える金属溶湯の脱ガスまたは非金属介在物除去装置であって、金属溶湯の湯面上にできる湯上空間から容体外へ流出する出向気流を許容すると共に容体の外界にある外気が湯上空間へ流入する入向気流を規制する外気規制手段を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高度な技術や熟練を必要とせず、炉内におけるガスの淀みを発生させることがなく、高機能性材料を得ることに適しており、かつ、反応ガスの使用量を抑止することが可能な連続焼成炉を提供する。
【解決手段】炉内を少なくとも予熱ゾーン、焼成ゾーンおよび徐冷ゾーンに区分けする仕切り板4と、搬送面U上に載置された被焼成物を収容する容器を搬送面に沿って搬入口から搬出口まで搬送する搬送手段3と、反応ガスを炉内に導入するための導入管5と、炉内のガスを排気するための排気管6と、設けた。そして、仕切り板を搬送面より上側に設け、仕切り板の下端中央部に容器を通過可能な切欠部を形成し、仕切り板の下端両端部を搬送面に近接させた。 (もっと読む)


【課題】加熱炉に設置された金属気化用気化室を、クラックを発生させることなく長期に渡って維持する方法を提供する。
【解決手段】加熱炉1に設置された金属気化用気化室2がセラミックスで形成されており、前記気化室内で金属を加熱により気化し、生成した前記金属の気化ガスを、前記気化室2と気化ガス消費装置3とを結ぶ送出配管4を通じて気化ガス消費装置3へ送り出す工程を終えてから加熱炉1を運転停止するまでの間に、前記気化室2にパージガスを供給するための供給配管8と前記送出配管4とからそれぞれ遮断する工程と、前記気化室2と減圧装置5とを結ぶ排出配管6を通じて前記気化室2を真空減圧した後、前記供給配管8を通じて前記気化室2にパージガスを供給する減圧およびパージガス供給工程と、をこの順に、連続して複数回繰り返して行う。 (もっと読む)


【課題】搬送手段による熱損失を低減できるリフロー半田付け装置を提供する。
【解決手段】電子部品を搭載した基板6を搬送手段で炉1内を搬送しながら半田付けを行うリフロー半田付け装置において、搬送手段がベルト14とプーリ13,15を備えたベルトコンベヤ5からなる。ベルトコンベヤ5は左右に間隔を置いて並列配置され、基板6の左右端部を支持しながら基板を搬送する。ベルトコンベヤ5が基板ガイド手段(基板ガイドピン17)を有するのが好ましい。また、ベルト14の上下方向位置をガイドするための上下方向ベルトガイド手段(下ガイドレール21と上ガイドレール24)を有するのが好ましい。また、ベルト14の幅方向位置をガイドするための幅方向ベルトガイド手段(下ガイドレール21や上ガイドレール24に設けられているガイド溝22,23,26とそれに挿入される噛合ピン18,20やベルトガイドピン19)を有するのが好ましい。 (もっと読む)


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