【課題】
アパーチャの寿命を長くでき、カラムバルブを閉じた際にも、コンタミの増加を防止し、また、再起動も短時間で行える集束イオンビーム装置を提供することにある。
【解決手段】
高圧電源制御器１８１は、カラムバルブ１４の閉動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を下げ、または、制御電極１６に印加する制御電圧を下げて、エミッションを０μＡにする。また、カラムバルブ１４の開動作時に、引出電極１７に印加する引出電圧を元に戻し、または、制御電極１６に印加する制御電圧を元の電圧に戻す。 （もっと読む）

本発明は、粒子線によって対象物（５）の画像を生成するための方法および装置（１）に関する。この方法または装置（１）では粒子線が対象物（５）上にラスタ走査される。本発明は、粒子線によって対象物（５）の画像を生成するための方法および装置（１）において、良好な画像が常に保証されているように冷陰極電界エミッタ（２）と共に使用可能であるものを提案することを課題としている。この課題は、本発明による方法において、ビームのパラメータが変化した場合に、補正されたパラメータにより対象物（５）のラスタ走査を繰り返すことにより解決される。本発明による装置（１）は、このために対応する手段（４，６，７）を有している。
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イオンビーム電流の均一性を監視するモニタ、イオン注入装置及び関連の方法を開示する。一実施形態では、イオンビーム電流均一性モニタ（１５）は、複数のロケーションにおけるイオンビーム（１２）の電流を測定する複数の測定デバイス（１７）を有するイオンビーム電流測定器と、イオンビーム電流測定器によるイオンビームの電流の測定値に基づいてイオンビーム電流の均一性を維持する制御器（１８）とを備える。 （もっと読む）

【課題】三相遮断素子が故障しているか否かの判別が困難であったという点である。
【解決手段】電子ビームを発生する電子銃と、前記電子銃の加速電圧を検出する加速電圧検出回路と、前記電子銃のエミッション電流を検出するエミッション電流検出回路と、加速電圧検出信号とエミッション電流検出信号に基づいて前記電子銃の放電を判定する判定回路と、を備えたことを特徴とした電子ビーム発生装置。また、加速電圧検出信号が所定の加速電圧設定値より低く、エミッション電流検出信号が所定のエミッション電流設定値より高い場合に、前記電子銃の放電と判定し、遮断回路により前記電子銃に供給される電流を遮断することを特徴とする電子ビーム発生装置。 （もっと読む）

【課題】
電子線源装置フィラメントの断線・変形を的確に予測・判定し、従来の装置における使用可能なフィラメントの交換による不必要な資源消費および交換費用の発生ならびに、突然の断線や変形発生時の後追い処理による工程の混乱を防止し、測定時間、保守管理工数を低減する。
【解決手段】
フィラメント電流測定回路１１によってフィラメント電流を常時測定し、演算回路１２によって点灯時間零時点におけるフィラメント電流と現在のフィラメント電流の比を常時演算し、比が予め定めた限界比を下回ったときはフィラメントＦの寿命時間到達、また予め定めた上限比を上回ったときはフィラメント異常と判定し、ディスプレイ１３に適切なメッセージを表示する。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線分析装置を備える電子顕微鏡において専門的な知識や能力がなくても試料の観察および分析において精度の高い結果を得ることができるようにする。
【解決手段】 ＳＥＭハードウェア１と、Ｘ線検出器およびエネルギー分散型Ｘ線分析装置で構成されるＥＤＸハードウェア２とを制御するコンピュータ３に、ＳＥＭ制御データ８,７１の通信を高速化し、ＥＤＸ側の測定結果をフィードバックしてＳＥＭ側の条件をリアルタイムに制御するデータ共有オブジェクト７を追加して、ＳＥＭアプリケーション５を介さずに、ＳＥＭ制御データ８,７１を直接ＥＤＸアプリケーション６へ送信する構成とした。 （もっと読む）

【課題】 試料の描画中に発生する電子ビームの位置異常、電子ビーム照射量等の特性の異常の発生を即座に検出できる電子ビーム装置及びその電子ビーム装置を用いるデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】ブランキングデータに基づいて、電子ビームを偏向制御する偏向制御手段と、偏向制御手段により試料上に照射されるように偏向制御された電子ビームを通過させる開口部、および、前記偏向制御手段により前記試料上に照射されないように偏向制御された電子ビームを遮蔽する遮蔽部を有するアパーチャ手段と、電子ビームが遮蔽部に照射された際に前記アパーチャ手段から発生する光または反射電子及び２次電子のうち少なくとも１つを検出する検出手段と、検出手段の検出結果に基づいて、試料上での照射状態を求める手段と、を備える。
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【課題】 電界放射型電子銃を用いた電子線装置において、エミッション電流の測定を正確に行えるようにする。
【解決手段】 引出電極３に流れる電流Ｉｅを検出するための検出抵抗５と、Ｉｅ計測回路５ａと、加速電圧アンプ６に負帰還をかけるためのフィードバック抵抗７と、電子銃から前記加速電圧アンプに流れる電流Ｉａを検出するための検出抵抗８と、Ｉａ計測回路８ａとを備える。フィードバック抵抗７に流れる電流Ｉｆを、引出電極電源４をｏｆｆした時のＩａとして求める。（Ｉｅ＋Ｉａ−Ｉｆ）をエミッション電流値として求めることにより、加速電圧に電圧降下の影響を及ぼすことなくエミッション電流を正しく計測できる。 （もっと読む）

イオン注入システムの汚染を軽減するためのシステム及び方法を提供する。本システムは、イオン源、イオン源のフィラメント及びミラー電極にパワーを供給するように動作可能な電源、加工物操作システム、及びコントローラーを含み、イオン源は、コントローラーによって、イオンビームの形成を迅速に制御するように選択的に調整可能である。コントローラーは、イオン源に供給されるパワーを選択的に高速制御するように動作可能であり、加工物の位置に関連する信号に少なくとも部分的に基づいて、イオンビームの出力を注入出力と最小出力との間で約２０マイクロ秒以内に変調する。このようにイオン源を制御することによって、イオンビームが注入電流である時間を最小限に留めることにより、イオン注入システム内の微粒子汚染が軽減される。
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【課題】 大電流でしかも均一性の良いシート状のイオンビームをターゲットに照射することができるイオン照射装置を提供する。
【解決手段】 このイオン照射装置では、Ｘ方向に幅広のシート状のイオンビーム４を引き出すイオン源２のプラズマ生成容器８内に、Ｘ方向に伸びているカソード１８を設け、それを電子ビーム源３０からのＸ方向に走査される電子ビーム３８によって加熱して熱電子１９を放出させて、プラズマ１２を生成する。ターゲット６の近傍におけるイオンビーム４のＸ方向のビーム電流分布を計測するビーム計測器５８からのデータに基づいて、制御装置６０によって走査電源５２から出力する走査電圧Ｖ_S の波形整形を行い、イオンビーム４の走査速度を制御して、上記ビーム電流分布を均一化する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームの軌道の調整作業を容易化して調整精度を向上させると共に，装置の稼動中における電子ビームのずれを容易に検出すること。
【解決手段】 加速器Ｙ１から出射されたイオンビームＬのビーム電流を測定する分割電極１０或いはファラデーカップ２０等のビーム電流測定手段を試料分析装置の測定室７３ａに設け，このビーム電流測定手段によるビーム電流の測定値に基づいてイオンビームＬの軌道位置を検出する。これにより，測定されたビーム電流を電流計測器等でモニタリングしながらイオンビームＬの軌道調整を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ビーム断面形状が一方向に長い、幅広形状のイオンビームをターゲット基板に照射して、ターゲット基板にイオンを均一に注入するイオン注入装置であって、イオンビームのビーム幅をターゲット基板のサイズに応じて自在に調整する。
【解決手段】イオン注入装置１は、イオン源１０、イオン分析器１２及び多極子レンズ１４を介して拡がり角度を有するイオンビームＸを生成するとともに、生成されたイオンビームＸの幅方向の拡がりを４重極子デバイス１６により抑制することにより、イオンビームＸを略平行ビームにして幅広形状のイオンビームとする。４重極子デバイス１６は、イオンビームの経路に沿って上流側又は下流側方向に移動して位置決めされて固定される。この後、イオンビームＸの幅方向の拡がりを抑制するようにイオンビームの収束強度が調整される。 （もっと読む）

【課題】 イオンビーム照射による圧電素子の周波数調整装置において、遮蔽マスク等の消耗を抑制する。
【解決手段】 内部に放電部を有するプラズマ生成手段、及びプラズマ生成手段で生成されたプラズマからイオンを引き出してイオンビームを出射するグリッドからなるイオンガンにおいて、イオンビームの断面における電流密度分布を制御する制御手段を備える構成とした。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームの入射角度の変更が容易であり、しかも入射角度を小さくする場合でも照射位置のずれおよび照射領域の広がりを小さく抑えることができる装置および方法を提供する。
【解決手段】 このイオンビーム照射装置は、真空容器１０と、その中に設けられていて基板６にそれよりも幅の広いイオンビーム４を照射するイオン源２と、真空容器１０内で基板６を往復駆動する基板駆動機構３０と、中心軸１４ａがイオン源２から基板寄りに離れた所にありかつ基板表面に実質的に平行である回転軸１４と、真空容器１０内に設けられていてイオン源２を回転軸１４から支持するアーム１２と、真空容器１０外に設けられていて回転軸１４を往復回転させるモータとを備えている。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線の照射量を安定して高精度に計測することができる荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】 感応基板ステージ上に配置され、投影ビームを検出するセンサ４０を具備する荷電粒子線露光装置であって、 センサ４０はビーム入射開口７５を有し、ビーム入射開口７５の大きさが、投影ビームの偏向形態６０の大きさとほぼ等しいか、それよりも大きい。 （もっと読む）

【課題】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の非直線性により、試料上に形成される描画パターンの寸法精度が悪化するという課題がある。
【解決手段】露光／非露光部にて電子ビームを高速にＯＮ／ＯＦＦして描画する電子ビーム描画装置において、ビームＯＮ時間に対するビーム照射量の特性を予め計測し、ビームＯＮ時間の補正データを作成しておき、描画時には前記補正データに基づいて、所望のビーム照射量が得られるようにビームＯＮ時間を補正する。 （もっと読む）

【課題】 露光転写を行っている途中でも、電子線の電流密度を推定することができる方法を提供する。
【解決手段】 電子線源１から放出された電子線２は、照明光学系３を介してレチクル４の所定の領域を照明する。照明された領域にあるパターンの像が、投影光学系５を介して、ウエハ６上に形成されたレジスト上に形成される。それと共に、ウエハ６とレジストからは、反射電子７が発生するが、この反射電子７が電極板８ａに入射し、その電流値Ｉ_ｒが反射電子検出器８で検出される。反射電子検出器８で検出された電流値Ｉ_ｒは、制御装置０に送られ、制御装置９は、この値から、ウエハ６上のレジストに入射する電子線の電流密度を算出する。 （もっと読む）