【課題】低コストのパルス電子ビーム発生装置を提供する。
【解決手段】パルス電圧が印加される一次コイル、及び、この一次コイルとコアを共有する二次コイルを備え、樹脂モールドされ、大気側に設置された高圧パルス電圧発生部と、前記高圧パルス電圧発生部の前記二次コイルに電気的に接続されたエミッターと、前記エミッターから電子ビームを引き出すアノードと、前記エミッターと前記アノードとの間に位置し、前記エミッターに電気的に接続されるとともに前記エミッターから引き出した電子ビームを収束するウエネルトと、前記エミッター、前記ウエネルト、及び、前記アノードを真空状態の内部に収容する真空容器と、を備えたことを特徴とするパルス電子ビーム発生装置。 （もっと読む）

【課題】検査物の急速放電のためのシステム及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビームシステム１００の変調器９００が、インダクタ４００に供給する変調信号を生成するように構成され、インダクタ４００が、この変調信号を受け取って、荷電粒子ビームシステム１００のための供給電圧信号をインダクタンスにより変調する。供給電圧信号の変調により、荷電粒子ビームシステム１００により生成された荷電粒子ビームの焦点距離を変更する。 （もっと読む）

【課題】ｎＡレベルのきわめて小さい電流値の電子線を利用して反射電子像回析パターンを生成することができる反射高速電子回析装置を提供する。
【解決手段】反射高速電子回析装置１０は、真空チャンバーの内部に着脱可能に設置された蒸着源１４ａ〜１４ｃと、試料１１に形成された薄膜に向かって電子線２８を発射する電子銃１５と、薄膜の表面において反射した反射電子から生成される反射電子像回析パターンを映し出す蛍光スクリーン１８と、反射電子を電流増幅するマイクロチャンネルプレート１７ａ，１７ｂとを有する。反射高速電子回析装置１０では、ｎＡのレベルのエミッション電流値の電子線２８を電子銃１５から薄膜に向かって発射する。 （もっと読む）

【課題】パルスビームを高周波化できるとともに、パルスビームの最大値や最小値の値を任意にコントロールでき、品質の高い溶接を可能にする電子ビーム加工機を得ることである。
【解決手段】電子銃の陰極とバイアス電極間に電圧を印加して電子ビームを制御するバイアス電源が、直列に接続された、高安定電源と高応答電源とで形成されており、高安定電源が、ビーム電流を計測する電流検出回路から出力されたビーム電流信号に基づき、ビーム電流をフィートバック制御する電圧を出力し、高応答電源が、パルス信号発生器で発生したパルス基準信号により制御されたパルス電圧を出力するものである。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査透過型電子顕微鏡（ＳＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）、集束イオン・ビーム（ＦＩＢ）システムなどの集束粒子ビーム・システム用の荷電粒子源を提供すること。
【解決手段】この源は、荷電粒子システムの軸を中心とすることができる小さな領域内にある独立してアドレス指定可能な多数の放出器を使用する。１つのチップから放出させ、または２つ以上のチップから同時に放出させることを可能にするため、これらの放出器は全て、個別に制御することができる。１つの放出器だけが活動化されるモードは高輝度に対応し、複数の放出器が同時に活動化されるモードは、高い角強度およびより低い輝度を提供する。単一の放出器を逐次的に使用することによって源の寿命を延ばすことができる。全ての放出器に対する機械／電気組合せアラインメント手順が記載される。 （もっと読む）

【課題】カソードの寿命を向上させることのできる電子銃およびその電子銃を使用した電子ビーム描画装置を提供する。
【解決手段】電子を放出するエミッタ１０を有する電子銃において、エミッタ１０を、電子放射特性を有する第１の材料からなる第１の部材１１と、第１の材料より仕事関数が大きい第２の材料からなる、第１の部材１１を被覆する第２の部材１２とを有するように構成し、さらに、第１の部材１１と第２の部材１２との間に溝１５を設ける。溝の長さ（Ｈ＋Ｗ）は５０μｍ以上であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明はエミッタアレイを用いた電子プローブ装置に関し、プローブの径を保持したままでプローブ電流を増加させる電子プローブ装置を提供することを目的としている。
【解決手段】リング状に並べられたＦＥエミッタアレイ１と、該ＦＥエミッタアレイ１のビームを回折面に集束させるためのレンズ２と、回折面に配置された絞り３と、該絞り３の絞り面の縮小像を試料６に照射させるための光学系５とからなり、装置のプローブ径を保ったままでプローブ電流値を増大させるように構成される。 （もっと読む）

【課題】フィラメント電流値を自動的に調整することが可能な電子ビーム加工装置を提供する。
【解決手段】電子ビームを照射する照射手段（5,1）と、照射手段（5,1）から照射された電子ビームのビーム電流を検出し、該検出したビーム電流実測値とビーム電流指令値との差分に応じたバイアス電圧値を取得する取得手段（3）と、照射手段（5,1）が電子ビームを照射する際に使用するフィラメント電流値を調整する調整手段（4）と、を有し、調整手段（4）は、取得手段（3）が取得した複数のバイアス電圧値を基に、バイアス電圧値の変化率を算出し、該算出したバイアス電圧値の変化率が所定の目標値に収束するように、フィラメント電流値を調整する。 （もっと読む）

【課題】照射対象物に均一に分布する電子ビームを照射することができる電子ビーム照射装置およびその方法を提供する。
【解決手段】本発明の電子ビーム照射装置は、電子を発生させる電子発生器２４を備え、電子発生器２４が電子を発生させる少なくとも１つの電子源３０を収容するハウジング２６を有し、電子源３０が所定の幅を有し、ハウジング２６が、電子源３０から距離をあけて配置された電子透過領域３２を有し、電子透過領域３２がハウジング２６に形成され、電子源３０の所定の幅を横断する横断方向に延在する一連の狭く細長いスロットおよびリブを含み、電子源３０によって発生される電子を電子源３０の所定の幅を横断する横断方向に拡散させるように、前記少なくとも１つの電子源に対して構成され、位置決めされている。 （もっと読む）

【課題】 電界放射型電子源での電力損失をなくし、電界放射型電子源を用いる装置の省電力化及び小型化を可能にする電子流制御方法を提供する。
【解決手段】 電界が印加されることにより電子を放出する電界放射型電子源において、ターゲット３に対し電子流を放出するエミッタ１１の周囲に導電性材料１２を配置し、該導電性材料１２にエミッタ１１に対して負の電圧を印加することにより、ターゲットに供給する電子流を制御する。 （もっと読む）

【課題】高分解能、高スループットのマルチビーム検査装置を実現するために、ラングミュア限界を越える高輝度、かつ高エミッタンスの電子ビームを得る。
【解決手段】平面カソード、ウェーネルト、引き出し電極（又はアノード）を有する電子銃の後方に、レンズを設けてクロスオーバを形成することにより高輝度でエネルギー幅の小さい電子ビームを実現した。このビームを得るために、カソード電流Ieとカソード半径Rcは、単位をそれぞれmAとμｍとしたとき、シミュレーション結果に基づいて、0.5＋0.0098Rc＜Ie＜2.3＋0.026Rcとし、電子銃の輝度は前記レンズの強さを変えて調整する。輝度Ｂとカソード電流密度Ｊｃの関係を示すシミュレーション値５７１（破線）は実測値５７２と比較的良く一致し、かつ輝度はラングミュア限界５７３を超えている。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置のスループット向上のために、複数の陰極を備えた電子銃を実現し、各電子ビームの調整方法を提供する。
【解決手段】
加速空間内に全ての電子ビームに作用する偏向器（４０８）と回転コイル（４０９）を設置する。加速空間外に各電子ビームに作用する偏向器（４１０）を設置する。加速空間外に放熱機構を有する電子ビーム遮断板（４１１）を設置する。各陰極を温度制限領域にて使用する。 （もっと読む）

【課題】電子線応用装置の稼働率および動作の信頼性を向上させる。
【解決手段】走査型電子顕微鏡１００の中央制御部１２は、ビーム電流検出器８、真空圧検出器１０、エミッション電流検出部２１、引出し電圧検出部２２などの検出装置によって検出した検出データに基づき、電子銃１の電子源が安定稼働状態に到達したか否かを判定し、その結果を表示装置１８に表示する。また、中央制御部１２は、前記検出データ、または、その検出データについての平均値、変動幅、安定度などの時間推移に基づき、それらの値の時間推移を表す近似式を求め、その近似式の値が所定の値に達する時刻を算出することによって電子源の安定稼働到達時刻を推定し、その推定した安定稼働到達時刻を表示装置１８に表示する。 （もっと読む）

【課題】平面カソード、ウエーネルト、引き出し電極又はアノードを有する平面引き出し電極電子銃で、Langmuir限界を越える高輝度、高エミッタンスのビームを得る。
【解決手段】円形平面のカソード１、球面の一部の形状を有する引出し電極又はアノード３、及び円錐台形状のウエーネルト電極２を有し、カソードの外周と引き出し電極位置で光軸と交わる仮想的な円錐と６７．５の角度差を有する仮想的な円錐台を想定し、その外側に、ウエーネルト電極を設ける。特に、カソード半径が１０μmＲ から９６０μmＲ では高輝度がシミュレーションで得られている。また、光陰極のカソードから放出させた電子線が、カソードから引き出し電極間はそのビーム径を単調に減少させ、引き出し電極の後方でクロスオーバを形成するよう制御するようにした電子銃では、高輝度で、エネルギー幅の小さいビームを利用することができる。 （もっと読む）

【課題】エミッション電流の変化に対応し、安定した電子ビームを放出することができるように制御可能なマルチコラム用電子ビーム生成装置を提供すること。
【解決手段】マルチコラム用電子ビーム生成装置は、一つの加速電圧源により負の加速電圧が印加され、熱電子を発生させる複数のカソードと、前記複数の各カソード毎に、前記カソードから放出された前記熱電子を集束させ、電子ビームを形成するグリッドと、前記グリッドに前記カソードの電位に対して負の電位を与えるグリッド電圧源と、前記加速電圧源に接続され、前記グリッドの電位を制御する制御回路とを有する。前記制御回路は、前記グリッド電圧源の正極側とカソードの間に接続された電流方向規制素子を有し、前記グリッド電圧源から供給されるグリッド電流を、前記電流方向規制素子を介してカソードに流すようにしている。 （もっと読む）

【課題】試料に対して照射する電子ビームの強度や加速電圧を低く抑え、かつ高いＳ／Ｎの電子顕微鏡画像を得ることを可能とする電子顕微鏡制御装置を提供する。
【解決手段】電子線照射行列設定部６５は、プロジェクタ８から出射すべき電子ビームの２次元パターンの時系列を示す電子線照射行列を設定する。この電子線照射行列は、２次元パターンに含まれるピクセルのうち、電子ビームが照射されるピクセルを複数含むように設定されるとともに、２次元パターンに含まれるピクセル数と等しい数の２次元パターンを、互いに独立した２次元パターンの時系列となるように設定される。行列演算部６６は、上記電子線照射行列と、上記２次電子検出器において検出された時系列の検出信号を表したベクトルとに基づいて行列演算を行うことによって、試料の電子顕微鏡画像を示すベクトルを算出する。 （もっと読む）

【課題】 電子顕微鏡、Ｘ線装置、オージェ電子分光器等の分析装置および電子線描画装置等において、公知の技術では、輝度が大きい、すなわち電子流密度が高く、精細にフォーカスでき（クロスオーバーが小さい）、且つ、装置が小型であるという特長を同時に有する電子銃は知られていなかった。
【解決手段】本発明は、 カーボンナノチューブ（以下、ＣＮＴと略称する）からなる電子エミッターと、該電子エミッターから電子を放出、加速および収束させるための静電レンズとして、バトラー型レンズとを備えたことを特徴とする電界放出型電子銃であり、該バトラー型レンズにおいて、引出し電極が電気的に独立して２〜１６分割されている。 （もっと読む）

【課題】不連続的放出パターンを有する荷電粒子エミッタによる荷電粒子装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子ビーム装置及び方法。装置は、少なくとも２つの放出ピークを含む放出パターンを有するエミッタ（１０２）と、ガンレンズ（１１９、５１９、９１９）と、ダイヤフラム（１２０）とを含み、ガンレンズは、デフレクタ・ユニット（１１０）を含み、デフレクタ・ユニットは、少なくとも２つの放出ピークのうちの放出ピークをダイヤフラムの開口部に向け、それによって少なくとも２つの放出パターンから放出ピークのうちの放出ピークを選択するようになっている。 （もっと読む）

【課題】 装置の運転中に、生産を中断することなく、ピアス式電子銃から発せられる電子ビームの状態をリアルタイムでモニタし、その結果を電子ビームの状態を適正なものに改善や維持するためにフィードバックすることで、優れた効率性と安定性のもとに、基板の表面に蒸着被膜を形成することができる、電子ビーム蒸着装置、当該装置を用いて行う基板の表面への蒸着被膜の形成方法、ビーム状態のモニタが可能なピアス式電子銃、および、ピアス式電子銃のビーム状態のモニタ方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の電子ビーム蒸着装置は、電子ビームに起因乃至由来する電子を捕捉するためのセンサがビームパスの近傍に設置され、センサによって捕捉された電子に基づく電流および／または電圧を検出することで、ビーム状態をモニタするようにしたピアス式電子銃を備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】真空中での溶解、溶接、加工、および蒸着等に用いられる電子源において、電子銃のビームパワーを急速に変化させる。
【解決手段】フィラメントカソード１とブロックカソード２との間に第1の電圧を印加し、ブロックカソード２とアノード３との間に第２の電圧を印加する。第1の閉ループ調整システム８，７を使用してフィラメントカソード１を定電流値に調整することによって、ブロックカソード２の最大ビームパワーに十分なフィラメント温度にする。瞬時ブロック電力値と公称ブロック電力値との間の差に反応するブロック電力調整器１３等を含む第2の閉ループ調整システム１７、１３、１２が、フィラメントカソード１とブロックカソード２との間の電圧を調整する。 （もっと読む）