【課題】高純度の多価イオンを取り出すことができるイオン源を提供する。
【解決手段】イオン源１０は、レーザ１３が照射されると電子と陽イオンに電離したプラズマ１４を生成するターゲット１２と、このターゲット１２の電位を陽イオンの出射目標（加速チャンネル１８）よりも高く設定する第１電源（第１電圧Ｅ₁）と、この陽イオンがターゲット１２から出射目標（加速チャンネル１８）に至る経路上（フィルタ電極１５）の電位をターゲット１２の電位よりも高く設定する第２電源（第２電圧Ｅ₂）と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 不要なイオンの放出を抑制することができ、不要なイオンによる下流の線形加速器側の汚染を低減する。
【解決手段】 レーザ光の照射によりイオンを発生させるレーザ・イオン源であって、真空排気される容器１０と、容器１０内に配置され、レーザ光の照射により多価イオンを発生するターゲット２１が収容された照射箱２０と、照射箱２０からイオンを静電的に引き出し、イオンビームとして容器１０の外部に導くイオンビーム引き出し部１２と、照射箱２０から引き出されたイオンビームを静電力により収束する静電レンズ５１と、静電レンズ５１の下流側の位置に設けられ、該位置で収束されたイオンビームを通過させるアパーチャ５２とを備えた。 （もっと読む）

【課題】高い価数のイオンを送ることができ、加速器無しで必要価数のイオン速度分布とイオン数を測定できる低コストなレーザイオン発生装置を提供する。
【解決手段】本発明のレーザイオン発生装置は、レーザ光を発生させるパルスレーザ光源１１と、パルスレーザ光源１１からのレーザ光を物質１４に照射してプラズマを発生させるプラズマ発生手段１５と、発生したプラズマ中の重粒子イオンを電界によって引き出すイオン引出手段１６と、引き出された重粒子イオンのイオン速度分布を測定するイオン速度測定手段１８と、イオン速度測定手段から各価数のイオン速度分布とイオン数を演算して出力するイオン速度分布演算手段とを有するものである。 （もっと読む）

【課題】レーザー駆動型の加速機構を用いて、指向性が高い高エネルギーのイオンビームを安定して得る。
【解決手段】レーザー光２０は、レーザー光源から発せられ、クラスターガス３０中で集光するような構成とされる。ノズル４０は真空中に設置され、その先端部から真空中にガスが噴出できる構成とされる。このガスは、ヘリウムと２酸化炭素の混合ガスであり、これが真空中に噴出される際の断熱膨張による急激な温度低下によりクラスターガス３０となる。クラスターガス３０中においては、Ｈｅ原子３１からなるガス中に、多数のＣＯ_２分子が凝集してナノ粒子化したＣＯ_２クラスター３２が分散した形態となる。集光点を、クラスターガス３０中の後方とすることが好ましい。高エネルギー電子生成のピークを越え、バブル構造が生成され、かつＸ線も発生している、手前側から見て開口の８０〜１００％の位置が最も好ましい。 （もっと読む）

【課題】大きな放出イオン電流が得られる電界電離型ガスイオン源のエミッタを提供する。
【解決手段】電界電離型ガスイオン源のエミッタ１は、円柱状または円錐台状の基部１ａと、基部１ａの軸方向における一端に位置する先細り形状の先端部１ｂとを備え、先端部１ｂは、基部１ａの軸方向に沿って外側に向けて突出して位置する微小突起部１ｃを含む。基部１ａと先端部１ｂとの境界面１ｄの直径をｒとし、上記軸方向に沿った境界面１ｄと微小突起部１ｃの先端との間の距離をｄとした場合に、これらｒおよびｄが、ｄ／ｒ≦１／１０の条件を充足する。 （もっと読む）

【課題】 マクロンの供給量を精確に制御することができ、かつ、マクロンにダイヤモンド等の絶縁性物質(半絶縁性物質を含む)を使用した場合でもターゲットに多量のマクロンを照射できるマクロン加速装置の電極構造を提供すること。
【解決手段】 マクロン加速装置のマクロン供給機構Ｓを、前記ベース板Ｂの裏側に固定され、かつ、筒壁に微粒子の投入口11を有する円筒電極１と；この円筒電極１の内側に固定され、かつ、投入口11の下方からベース板Ｂに向けて下方に傾斜した樋型のスロープ部21を有する浮遊電極２とを含んで構成し、
前記円筒電極１の投入口11から筒内部に投入された微粒子が、前記浮遊電極２のスロープ部21上を滑り落ちてベース板Ｂの近傍に落下するようにした。 （もっと読む）

【課題】放電の開始（点火）を容易にする宇宙機用ホローカソードを提供すること。
【解決手段】キーパ電極板６に対面する先端部が、ナノカーボンの微小突起群構造、微細加工技術による微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成・維持されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料で構成された部材を放電開始促進板Ａ〜Ｅ３１,３２,３３,３４,３５としてオリフィス板４の下流側に取り付ける。
または、オリフィス板４自体を、キーパ電極板６に対面する先端部が上記微細突起（群）構造、電気伝導体と電気絶縁体が交互に隣接した上記複合部材、あるいは放電等の作用により自発的にナノカーボン構造が形成されるカーボン系材料または熱電子放出特性に優れたカーボン系材料によって成形する。 （もっと読む）

荷電粒子源、例えばガスイオン源の先端の頂部を加熱するシステム及び方法であって、先端頂部が発生させた光を検出するよう構成した検出器と、荷電粒子源及び検出器と結合したコントローラとを備え、コントローラを、検出器が検出光に基づき先端頂部の加熱を制御できるようにした、システム及び方法。 （もっと読む）

【課題】イオン源に流入させる種々のガスをできる限り迅速に切り替えることができるようにする。
【解決手段】とりわけ粒子線治療設備用の、ガス噴射システムであって、イオン源にガスを導き入れる第１の導管と、分離された２つのガス流のための第２および第３の導管と、多方切替弁とを有する。第２および第３の導管はそれぞれ多方切替弁の入口に開口しており、第１の導管は多方切替弁の出口に接続されており、多方切替弁は一方または他方の入口が出口と選択的に接続されるように形成されており、これにより第２または第３の導管は流体技術的に第１の導管と接続される。 （もっと読む）

開示されたものは、ガスクラスターイオンビーム（ＧＣＩＢ）システム（１００，１００’１００’’）において、プロセスガスの混合物、又は多重のプロセスガスの混合物、を導入するためのマルチ−ノズル及びスキマーの組み立て品、並びに基体（１５２，２５２）に層を成長させる、それを変更する、それを堆積させる、又はそれをドープするための動作の関連させられた方法である。多重のノズル及びスキマーの組み立て品は、少なくとも部分的にそれから単一のガスクラスタービーム（１１８）へと放出されたガスクラスタービームを合体させるために相互の近接で配置された、及び／又は、交差するガスクラスタービームのセットを形成するために、及び、ガススキマー（１２０）へと単一の及び／又は交差するガスクラスタービームを向けるために、単一の交差する点（４２０）に向かって各々のビームを収束させるために角度が付けられた少なくとも二つのノズル（１１６，１０１６，２１１０，２１２０，４１１０，４１２０，７０１０，７０２０）を含む。
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【課題】 アンテナを有するＥＣＲ型のプラズマ発生装置において、プラズマによるアンテナカバーの消耗の課題を解決する。
【解決手段】 このプラズマ発生装置１０は、プラズマ２４を生成するプラズマ室２０に隣接して設けられていて真空に排気されるアンテナ室４０と、その内部に設けられていて高周波を放射するアンテナ４２と、絶縁物から成り、プラズマ室２０とアンテナ室４０との間をガスを阻止するように仕切ると共にアンテナ４２から放射された高周波を通す仕切り板５４と、プラズマ室２０の外部に設けられていてプラズマ室２０内に電子サイクロトロン共鳴を起こす磁界Ｂを発生させる磁石装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】より高い電流密度を得ることを可能とすることにより、プロセスの高速化を図ることが可能なイオンガン及び成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明のイオンガン１は、スリット状の開口部１１が形成された陰極２と、開口部１１の幅方向に磁場を発生させる磁石３と、この磁場に対して略垂直方向に電界を生じさせるように陰極２の裏面から離間して配置された陽極４と、を備え、陰極２の表面の開口部１１からイオンビームＢが引き出されるもので、陽極４を構成する材料が強磁性材、または非磁性のステンレス鋼を熱処理により弱磁性材化した弱磁性材である。 （もっと読む）

【課題】高温でもクランプ力の低下が少なく、クランプ力の再生も容易で、フィラメントの保持や位置調整の作業性が良いフィラメント保持構造を提供する。
【解決手段】フィラメント保持構造は、溝を挟んで板厚方向に二つに分かれている部分の両方の相対応する位置に、フィラメント５０を通すフィラメント穴９６、支点部材１１０を通す支点部材穴９８を有しているフィラメント導体９０と、それの溝内に位置している部分１０２に、フィラメントを通すフィラメント穴、支点部材を通す支点部材穴を有しているフィラメントクランパー１００と、上記穴に通された支点部材と、ボルト１１２及びナット１１４とを備える。フィラメント導体９０及びフィラメントクランパーのフィラメント穴にフィラメントを通し、ボルト及びナットでフィラメントクランパーを締め付けて、フィラメントにせん断方向に力を加えてフィラメント導体９０に保持する。 （もっと読む）

【解決手段】 本発明は、液体金属イオン源、二次質量分析計、および対応する分析方法、ならびにこれらの利用に関する。特に、ジェントルＳＩＭＳ（Ｇ−ＳＩＭＳ）法に基づく質量分析方法に関する。
上記の目的を実現するべく、原子量が１９０Ｕ以上の第１の金属と、原子量が９０Ｕ以下の第２の金属とを有する液体金属イオン源を利用する。
本発明によれば、Ｇ−ＳＩＭＳ法に基づき、一次イオンビームから２つの種類のイオンのうち一方を交互にフィルタリングで取り出し、質量高純度一次イオンビームとしてターゲットに当てる。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度を部分的に制御可能にして、リボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くすることや、所定の不均一な分布を実現可能にしたイオン源を提供する。
【解決手段】 このイオン源１０ｂは、Ｙ方向の寸法がＸ方向の寸法よりも大きいリボン状のイオンビーム２を発生させる。このイオン源１０ｂは、Ｙ方向に伸びたイオン引出し口１４を有するプラズマ生成容器１２と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の一方側にＹ方向に沿って複数段に配置された複数の陰極２０と、プラズマ生成容器１２内のＸ方向の他方側に陰極２０に対向させて配置された反射電極３２と、プラズマ生成容器１２内に、しかも複数の陰極２０を含む領域に、Ｘ方向に沿う磁界５０を発生させる電磁石４０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】投入電力の増大を抑制しつつ、寿命を向上可能なイオンドーピング装置用フィラメントおよびその製造方法、さらに当該イオンドーピング装置用フィラメントを備えたイオンドーピング装置を提供する。
【解決手段】フィラメント１１は、導電性を有するタングステン線からなり、当該タングステン線が直線状に延在する２つの直線部１２と、複数の直線部１２のうち、互いに隣接する直線部１２の端部を接続する接続部１３とを備えている。そして、直線部１２には、接続部１３よりもタングステン線が延びる方向に垂直な断面における断面積であるフィラメント断面積が大きい大径部１４が形成されている、 （もっと読む）

【課題】イオンビーム照射開始直後から、安定した成膜を可能にした、プラズマ発生装置、成膜装置、該成膜装置に用いた液晶装置の製造方法、及ぶ該液晶装置を備えた電子機器を提供する。
【解決手段】放電室６内に所定のガスを導入すると共に放電室６の外周に設置したコイル７に高周波を通電してガスを放電させてプラズマを形成するプラズマ発生装置５である。放電室６の外側に、放電室６の内部を加熱する加熱手段Ｈを備えている。 （もっと読む）

【課題】メンテナンス時等において、固体ソースの酸化を防止することができる気化装置および気化装置を備えたイオン源装置を提供する。
【解決手段】気化装置１は、開口１１１が形成され、固体ソースＳを収容するとともに、内部で固体ソースＳが気化する収容部１１と、収容部１１内のガスを排出するための流路１２１Ｃが形成された排出部１２と、排出部１２が摺動するとともに、収容部１１の開口１１１に連通する孔１３１が形成され、収容部１１に接続された被摺動部１３とを備える。排出部１２の孔１３１内を摺動する摺動面１２１Ａには、流路１２１Ｃへのガスの導入口１２１Ｂが形成されている。排出部１２を収容部１１側に向けて摺動させた際には、導入口１２１Ｂを介して流路１２１Ｃと収容部１１内部とが連通し、排出部１２を収容部１１と反対方向に向けて摺動させた際には、導入口１２１Ｂが被摺動部１３の孔１３１の内面で閉鎖される。 （もっと読む）

【課題】 イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。
【解決手段】 このイオン注入装置は、イオン源２の引出し電極１３をＹ方向において複数の引出し電極片３０に分割して構成している。かつ、プラズマ電極１２と各引出し電極片３０との間の電位差Ｖ_d を各引出し電極片３０ごとに独立して制御することができる引出し電源４２と、イオンビーム８のＹ方向のビーム電流密度分布を測定するビームモニタ５６と、ビームモニタ５６からの測定データに基づいて引出し電源４２を制御して、上記電位差Ｖ_d をそれぞれ制御することによって、ビームモニタ５６で測定するビーム電流密度分布を均一に近づける制御を行う制御装置６０とを備えている。 （もっと読む）

【課題】原料ガスのリークの抑制と、装置コストの低減化とを図り得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】原料ガスに電圧を印加してこれをプラズマ化させるイオン発生部２と、接地電位に接続され、且つ、処理対象物１２が配置される処理部３と、イオン発生部２と処理部３とを電気的に絶縁する絶縁部４と、ガス導入口１４から導入された原料ガスをイオン発生部２に導くためのガス導入路５とを備えるプラズマ処理装置を用いる。イオン発生部２、絶縁部４、及び処理部３は、これらの接合体の内部にチャンバー１となる空間が設けられるように形成される。ガス導入口１４は、処理部３に設けられる。ガス導入路５は、チャンバー１の側壁の内部に形成された孔５ａ〜５ｃを備え、ガス導入口１４とイオン発生部２とを電気的に絶縁する。 （もっと読む）