【課題】本発明は、ロードロック室に設置された真空計の状態を適切にモニタすることが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、試料室と予備排気室を備えた荷電粒子線装置において、試料室の真空度を測定する第１の真空計と、予備排気室の真空度を測定する第２の真空計と、仕切り弁が開放されたときに、第１の真空計と第２の真空計との測定値の差分が所定値より大きくなった場合、或いは測定値の比率が所定値に達した場合に、所定の信号を発生する制御装置とを備えた荷電粒子線装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】微小な試料の温度を精度良く測定すること。
【解決手段】電子銃１０から放出された電子の試料１への衝突によって試料表面から放出された二次電子および熱電子をシンチレータ２０によって光子に変換し、光電子倍増管３０で光子数を増加させるとともに電気信号に変換し、光電子倍増管３０が出力する電気信号を電気信号増幅器４０が増幅し、温度変換器５０が電気信号増幅器４０によって増幅された電気信号と校正曲線と基づいて試料１の温度を算出するよう構成する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、異なる帯電が混在するが故に、正確な検査，測定が困難になる可能性がある点に鑑み、異なる帯電現象が含まれていたとしても、高精度な検査，測定を可能ならしめる方法、及び装置の提供にある。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子線走査個所の表面電位の電位計測結果から、当該走査個所より広い領域の電位分布に基づいて得られる電位を減算する装置、及び方法を提案する。このような構成によれば、特性の異なる帯電現象が混在するような場合であっても、走査荷電粒子線装置による正確な検査，測定を行うことが可能となる。 （もっと読む）

【課題】本発明は電子線装置の位置決め方法及び装置に関し、周期的な揺らぎを減少させることができる電子線位置決め方法及びその機能を具備する電子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】電子線を発生させる電子源１と、当該電子線を加速、減速、収束及び偏向させる光学系と、当該電子線を走査し、またはブランキング制御するための制御系と、前記電子線が照射される材料７を保持するためのステージ６と、該ステージ６の位置を計測するためのステージ測長系１６ａと、前記材料７から放出される電子線を検出する電子検出部１８と、該電子検出部１８から得られた検出信号を処理するための信号処理系１９とからなる電子線装置において、前記ステージ測長系１６ａからの補正信号に振幅と位相を調整可能な周期信号を加算するように構成される。 （もっと読む）

【課題】電子顕微鏡画像、光学拡大観察画像の観察視野切り替えをスムーズに行う。
【解決手段】胴部２４の対向する端面を閉塞する一対の端面板と、第一の観察手段として、胴部２４の円筒状側面の第一の位置４１に固定され、試料室２１内の電子顕微鏡画像を取得するための電子線撮像手段１１と、第二の観察手段として、胴部２４の円筒状側面であって、第一の位置４１と異なる第二の位置４２に装着され、試料室２１内の光学画像を撮像可能な光学系撮像手段１２と、電子線撮像手段１１及び光学系撮像手段１２の光軸を共通の回転軸に向かう姿勢に維持しつつ、該回転軸までの距離を一定に維持するように、電子線撮像手段１１及び光学系撮像手段１２を胴部２４の円筒状側面に沿って回転させるための回動手段と、観察対象の試料を載置するため試料室２１内に設置され、回転軸と略一致する位置に配置される試料台３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】試料表面を荷電粒子により調査及び／又は改変するのを容易且つ費用効率的に可能にし、表面電荷蓄積に関係する問題が克服されるような装置及び方法を提供する。
【解決手段】荷電粒子により試料を調査及び／又は改変する装置、特には走査電子顕微鏡が提供される。この装置は、荷電粒子のビームと、該荷電粒子のビームが通過する開口３０を持つ遮蔽エレメント１０とを有し、該開口３０は充分に小さく、上記遮蔽エレメント１０は上記試料の表面２０に対して十分に接近して配置されて、上記荷電粒子のビームに対する該表面における電荷蓄積効果の影響を減少させる。 （もっと読む）

【課題】試料の構造を高いコントラストで撮像する。
【解決手段】粒子ビーム装置の試料室に導入した試料４の表面５６の特定の位置上にコントラスト剤前駆体５１を供給した後、粒子ビーム５０および／または光ビーム４７を前記特定の位置に供給する。粒子ビーム５０および／または光ビーム４７とコントラスト剤前駆体５１の相互作用によってコントラスト剤層５２を試料４の表面５６の特定の位置に貼付する。所定時間の間、試料４の表面５６上にコントラスト剤層５２を残す。所定時間の間、コントラスト剤層５２の第１の部分５３は試料４内に拡散し、コントラスト剤層５２の第２の部分５４は試料４の表面５６上に残留する。光学装置および／または粒子光学装置および／または粒子ビーム５０を用いて試料４を撮像する。 （もっと読む）

【課題】測定対象領域のサイズを動的に設定し、半導体パターンのエッジ部分を精度良く検出する技術を提供する。
【解決手段】本発明に係るエッジ部分検出方法では、観察画像のうち半導体パターンのエッジ部分を含む大きめの画像領域を走査することにより、検出対象のエッジ部分と直交する第２エッジ部分を検出し、最終的な走査範囲を第２エッジ部分よりも内側に設定する。 （もっと読む）

【課題】SACP法およびSACP法を行うための粒子光学系を提案する。
【解決手段】SACP法は、粒子光学系を用いて物体表面に荷電粒子ビームを向けるステップと、物体から放出した粒子の強度を検出するステップとを含む。粒子光学系は、ビームを集束するための対物レンズと、ビーム経路で対物レンズの上流側に配置した第１ビーム偏向器と、ビーム経路で第１ビーム偏向器と対物レンズとの間に配置した収差補正器と、ビーム経路で収差補正器の下流側に配置した第２ビーム偏向器とを備える。SACP法は、（ａ１）第２ビーム偏向器の励起を調整し、物体表面におけるビームの入射位置を調整するステップと、（ａ２）第１ビーム偏向器の励起を調整し、入射位置を変更することなしに物体表面におけるビームの入射角を調整し、強度を検出するステップと、（ａ３）ステップ（ａ２）を繰り返し、同じ入射位置における少なくとも１００個の異なる入射角についてそれぞれ対応した強度を検出するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】性能指標が向上したスピン検出器、及び当該スピン検出器を用いた表面分析装置を提供する。
【解決手段】スピン検出器５は、電子線が照射される面に、面の法線方向に対して傾斜した傾斜面を有する突起部５２が形成されたターゲット５１と、突起部５２の傾斜面で電子線が電子線のスピン偏極度に応じて散乱する方向側に配置された電子検出器ＤＲｙ，ＤＬｙと、を有する。また、表面分析装置１は、試料Ｓ表面に１次電子線を照射する電子線鏡筒３と、上記スピン検出器５と、を有する。 （もっと読む）

【課題】
チルト像には立体的なパターンの様々な輪郭線が存在し、またパターン表面のラフネス等により計測対象外の形状変化に伴うエッジも含まれるため形状認識は複雑になり画像処理による形状計測は容易でない。さらに，パターンの形状評価に適した観察方向を判断することが困難であった。
【解決手段】
評価対象となるパターンの撮像方向と撮像領域内に含まれる回路パターンの設計データから撮像画像上でのパターンの輪郭線の予想位置（予想輪郭線）を推定し，予想輪郭線と実際の輪郭線との位置ずれ予想範囲を設定し，前記位置ずれ予想範囲を基に画像処理範囲あるいは画像処理方法を設定してパターンの寸法，輪郭線，画像特徴量，三次元形状を算出するようにした。 （もっと読む）

【課題】高精度かつ短時間で結晶格子像と相似のモアレパターンを得ることを可能にする。
【解決手段】走査型顕微鏡を用いて、結晶構造の結晶格子モアレパターンを取得する方法であって、前記結晶構造の走査面において、前記結晶構造と方位に対応して、複数の仮想格子点を周期的に配置する工程と、入射プローブを用いて複数の前記仮想格子点からの信号を検出する工程と、検出した前記信号に基づいて、前記結晶構造の結晶格子モアレパターンを生成する工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】試料表面のスピン状態分布を高精度に分析するための電子スピン分析器を提供する。
【解決手段】試料Ｗから放出される二次電子を入射方向に対して横方向に走査する走査偏向器５ａ、５ｂを通してパルス化された二次電子を放出するパルスゲートユニット４と、パルスゲートユニット４から出る二次電子を加速させる加速ユニット７と、加速ユニット７から出た二次電子を照射するターゲット８と、ターゲット８の周囲に配置される電子スピン検出器１５ａ〜１５ｄと、電子スピン検出器１５ａ〜１５ｄから出る二次電子を受けるコレクタ１０ｂとを有する。 （もっと読む）

【課題】走査電子顕微鏡としての機能と真空紫外発光検出の機能を両立させた、簡便で小型化された一体型の高性能の電子顕微鏡を提供する。
【解決手段】フィールドエミッション方式或いはフィラメント方式の電子線源を有する走査電子顕微鏡に加えて、真空紫外発光材料を低真空雰囲気に保持して電子を照射する低真空試料室、該発光材料から発光した真空紫外線を含む光を集光する集光ミラーを有する集光伝送部、並びに真空紫外線を検出するための回折格子などの分光器およびＣＣＤや光電子増倍管などの検出器からなる分光装置を具備し、該集光伝送部が集光ミラーにより集光された真空紫外線を含む光を窒素ガスなどの雰囲気下に直接分光装置に伝送する集光伝送部であることを特徴とする電子線励起真空紫外線を検出する機能を兼ね備えた走査電子顕微鏡。 （もっと読む）

【課題】ＳＥＭによる測長値の装置間におけるばらつきを防ぐこと。
【解決手段】ＳＥＭ制御装置は、所定の対象物について、第１の方向に並んだ複数のピクセルから成る画像を、第１の方向に直交する第２の方向の複数の位置において、ＳＥＭにより取得する画像取得部と、当該複数のピクセルのそれぞれの箇所において当該複数の画像の間でグレースケール値の最大値と最小値を求め、当該複数のピクセルにおける最大値の変動幅と最小値の変動幅を算出する変動幅算出部と、当該最大値の変動幅と当該最小値の変動幅との差が最小となるように、ＳＥＭのブライトネス及びコントラストを調整するブライトネス・コントラスト調整部と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】被検査試料の外周部と中心部とで帯電特性が異なることから、被検査試料外周部と中心部とで同等の検査感度を得ることができない。
【解決手段】被検査試料を載置する試料ホルダの外周部に試料カバーを設け、被検査試料の帯電特性にあわせて試料カバーの帯電特性を変更する。これにより、試料外周部と中心部とで均質な帯電状態を形成でき、試料外周部の検査・観察が従来よりも高感度に実現可能となる。 （もっと読む）

【課題】撮像ポイントに対応する撮像領域間が重なった場合、評価ポイントについて撮像される画像の品質が低下する。
【解決手段】荷電粒子線装置における撮像範囲間の重なりの有無を、コンピュータによる演算処理を通じて判定する。この際、重なりの有無の判定は、判定対象に対応する撮像範囲を構成する４つの頂角のうち隣り合う関係にある４組の２つの頂角と、他の１つの撮像範囲を構成する４つの頂角のうちの１つの頂角とによって形成される４つの三角形の面積の総和が、判定対象に対応する撮像範囲の面積と一致する否かによって実行する。 （もっと読む）

【課題】従来のＳＥＭでは、帯電した試料においてフォーカスを合わせることができなかったり、倍率を正しく計算することができないために、正しいパターン寸法を計測することができなかった。
【解決手段】一次電子線が試料に到達しない状態のリターディング電圧と、一次電子が試料に到達する状態のリターディング電圧との間で、リターディング電圧を掃引させ、そのときの二次電子検出器の出力を検出し、リターディング電圧と二次電子検出器の出力の特性を取得し、リターディング電圧と二次電子検出器の出力の特性のシフトに基づいて試料表面の電位を求める。 （もっと読む）

【課題】微細なパターンを観察できる試料観察方法及び装置を提供する。
【解決手段】試料観察方法は、電子ビームを用いて試料のパターンを観察する。この方法は、試料に電子ビームを照射し、電子ビームの照射によって生じるミラー電子を検出し、検出されたミラー電子から試料の画像を生成する。電子ビームを照射するステップは、両側にエッジを有する凹パターンに電子ビームが照射されたときに照射電子が凹パターンにてＵターンしてミラー電子になるようにランディングエネルギーＬＥが調整された電子ビームを試料に照射する。好適な条件は、ＬＥＡ≦ＬＥ≦ＬＥＢ＋５[ｅＶ]である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、アスペクト比の大きなパターンの高さ（深さ）測定を実現することが可能な試料高さ測定方法、及び装置の提供を目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、試料上の第１の部分の高さと、第２の部分の高さの差違に関する情報と、前記第２の部分の輝度に関する情報を関連付けて記憶媒体に記憶させ、前記試料に荷電粒子線を走査したときに検出される荷電粒子に基づいて、前記第２の部分の輝度に関する情報を検出し、当該検出された輝度に関する情報と、前記記憶媒体に記憶された情報に基づいて、前記試料上の第１の部分と第２の部分との差違を求める方法、及び装置を提案する。 （もっと読む）