【課題】シリコン膜を精度良く検査するシリコン膜検査方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、シリコン膜の形成された領域を第１膜厚の第１領域と前記第１膜厚と異なる第２膜厚の第２領域とに仮想的に分割する分割工程と、互いに異なる波長の第１波長と第２波長とを含む照射光を前記シリコン膜に照射する照射工程と、前記照射光が照射された前記第１領域からの前記第１波長の第１反射光を用いて第１反射率の測定を行う第１測定工程と、前記第１反射率から前記シリコン膜の第１結晶化率を導出する第１導出工程と、前記照射光が照射された前記第２領域からの前記第２波長の第２反射光を用いて第２反射率の測定を行う第２測定工程と、前記第２反射率から前記シリコン膜の第２結晶化率を導出する第２導出工程と、を含む有機ＥＬ表示装置用シリコン膜検査方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】安定した電気特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい半導体装置
を提供することを課題の一とする。また、高信頼性の半導体装置を低コストで生産性よく
作製することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体層とする薄膜トランジスタ
を有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体層に接する酸化物絶縁膜を形成す
る。酸化物半導体層を減圧されたチャンバー内に導入後、窒素雰囲気下で加熱処理工程、
プラズマ（少なくとも酸素プラズマを含む）の導入工程を行い、成膜ガスを導入して酸化
物絶縁膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】導電性が高く、透明性に優れ、更にコントラスト比が高い液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明の液晶表示装置は、液晶層と、前記液晶層を介して互いに対向して配置された第１の透明基板及び第２の透明基板と、前記第１の透明基板の前記液晶層とは反対側に配置された透明導電膜とを備え、前記透明導電膜は、前記第１の透明基板の前記液晶層とは反対側の主面上に塗布により形成され、前記透明導電膜は、導電性無機粒子と樹脂成分とを含み、前記導電性無機粒子の平均粒子径が、３０〜１８０ｎｍであり、前記導電性無機粒子の前記透明導電膜の全体に対する重量含有率が、７１％以上８５％未満であり、前記透明導電膜を配置した前記第１の透明基板のヘイズ値が、１．４％以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛に代表される酸化物半導体膜を用いて薄膜トランジスタを形成することで、作製プロセスを複雑化することなく、尚かつコストを抑えることができる半導体装置及びその作製方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上にゲート電極を形成し、ゲート電極を覆ってゲート絶縁膜を形成し、ゲート絶縁膜上に酸化物半導体膜を形成し、酸化物半導体膜上に第１の導電膜及び第２の導電膜を形成する半導体装置であって、酸化物半導体膜は、チャネル形成領域において少なくとも結晶化した領域を有する。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、限られた基板上の領域内で蓄積容量の容量値を向上させる。
【解決手段】電気光学装置は、基板（１０）上に設けられた画素電極（９）と、基板と画素電極との間に設けられ、互いに交差するデータ線（６）及び走査線（１１）と、基板とデータ線との間に設けられ、データ線に電気的に接続された第１ソースドレイン領域、及び前記画素電極に電気的に接続された第２ソースドレイン領域を有する半導体層（３０ａ）と、データ線と半導体層との間に設けられた第１絶縁膜（４２）と、データ線と画素電極との間に設けられた第２絶縁膜（４３）と、半導体層と画素電極との間に設けられ、第１絶縁膜及び第２絶縁膜を貫通するように設けられた溝（９１）内の少なくとも一部に設けられた溝内部分（７０ａ）を有する蓄積容量（７０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、サンプリング用トランジスターの高速化とプッシュダウン現象の抑制を両立させ、高品位な表示を行う。
【解決手段】電気光学装置は、データ線（６）に画像信号線（６０）から供給される画像信号をサンプリングするサンプリング用トランジスター（７１）を備える。サンプリング用トランジスターのゲート絶縁膜（７３）は、ゲート電極（７１Ｇ）の第１ソースドレイン領域（７４Ｓ）側の縁部（７１Ｇｅｓ）に重なる部分及びゲート電極の第２ソースドレイン領域（７４Ｄ）側の縁部（７１Ｇｅｄ）に重なる部分の各々の膜厚が、ゲート電極の中央部（７１Ｇｃ）に重なる部分の膜厚よりも厚くなるように形成されている。 （もっと読む）

【課題】動作性能および信頼性の高いＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】第１のチャネル形成領域と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域と、ゲート絶縁膜と、第１のゲート電極とを備えた第１のＴＦＴと、第２のチャネル形成領域と、第２のソース領域及び第２のドレイン領域と、ゲート絶縁膜と、第２のゲート電極とを備えた第２のＴＦＴと、第１のＴＦＴ及び第２のＴＦＴ上に設けられた第１の絶縁膜と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域の一方と接続されたソース配線と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域の他方と接続し、且つ第２のゲート電極に接続された第１のドレイン配線と、第１の絶縁膜上に設けられ、第２のソース領域及び第２のドレイン領域の一方に接続された第２のドレイン配線と、第１の絶縁膜上に設けられ、第２のソース領域及び第２のドレイン領域の他方に接続された電流供給線と、を有する。 （もっと読む）

【課題】新規なｐ型酸化物半導体を活性層に用いた電界効果型トランジスタなどの提供。
【解決手段】ゲート電圧を印加するためのゲート電極と、電流を取り出すためのソース電極及びドレイン電極と、前記ソース電極及び前記ドレイン電極との間に形成されたｐ型酸化物半導体からなる活性層と、前記ゲート電極と前記活性層との間に形成されたゲート絶縁層とを有し、前記ｐ型酸化物半導体が、一般式ＡＢＯ_３（Ａは、Ｓｒ及びＢａの少なくともいずれかを含む。Ｂは少なくともＢｉを含む。）で表され、かつ擬ペロブスカイト構造である電界効果型トランジスタである。 （もっと読む）

【課題】動作性能および信頼性の高いＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】第１のチャネル形成領域と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域と、ゲート絶縁膜と、第１のゲート電極とを備えた第１のＴＦＴと、第２のチャネル形成領域と、第２のソース領域及び第２のドレイン領域と、ゲート絶縁膜と、第２のゲート電極とを備えた第２のＴＦＴと、第１のＴＦＴ及び第２のＴＦＴ上に設けられた第１の絶縁膜と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域の一方と接続されたソース配線と、第１のソース領域及び第１のドレイン領域の他方と接続し、且つ第２のゲート電極に接続された第１のドレイン配線と、第１の絶縁膜上に設けられ、第２のソース領域及び第２のドレイン領域の一方に接続された第２のドレイン配線と、第１の絶縁膜上に設けられ、第２のソース領域及び第２のドレイン領域の他方に接続された電流供給線と、を有する。 （もっと読む）

【課題】トランジスタの寄生容量の容量値の低減を図ることにより、画素回路や周辺回路が実行する回路動作を確実に行うことができるようにした表示装置、及び、当該表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】画素（画素回路）を構成する画素トランジスタ８０、即ち、駆動トランジスタ及び書込みトランジスタの少なくとも一方としてＬＤＤ構造のトランジスタを用いる。そして、画素トランジスタ８０のＬＤＤ領域８７の幅Ｗ₁をチャネル領域８３の幅Ｗ₂よりも狭く設定することで、画素トランジスタ８０に付く寄生容量、即ち、ＬＤＤ領域８７−ゲート電極８１間に形成される寄生容量の容量値を小さくする。 （もっと読む）

【課題】
製造プロセスのステップ数を少なくでき、素子の構造が簡単でコストを抑制することが可能な薄膜トランジスタを提供する。
【解決手段】本発明の薄膜トランジスタ１００は、主面を有する基材１１０と、前記基材１１０の前記主面に対する積層方向に配設される遮光層１１１と、前記積層方向からみて、前記遮光層１１１に含まれるように設けられる有機半導体層１５０と、前記有機半導体層１５０と接触するように設けられ、互いに対向しチャネル領域を形成するソース電極１２０及びドレイン電極１３０と、前記積層方向からみて、前記有機半導体層１５０の外周において前記ソース電極１２０と前記ドレイン電極１３０と重畳しない溝部１６５が設けられたゲート絶縁層１６０と、前記積層方向からみて前記有機半導体層１５０を含むように、前記ゲート絶縁層１６０上及び前記溝部１６５に設けられるゲート電極１４０と、からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素中の発光素子の輝度が同輝度の場合、画素中の発光領域の面積が大きくなれば一画素から高い光度を得ることができる。つまり、一画素中の光を通さない領域（ブラックマトリクスともいう）を除いた光を通す領域の面積と、一画素の面積の割合で示される開口率が高ければ、高精細化により一画素の面積が小さくなっても一画素から所望の光度を得ることができる。ここで、画素を構成するトランジスタや配線の数が多いと画素の開口率が低くなってしまう。そこで、画素を構成するトランジスタや配線の数を減らし、開口率を高める。
【解決手段】ある電位が設定されている電源線の代わりに、電位を信号により制御する電位供給線を設ける。つまり、発光素子への印加電圧の供給を、スイッチを設けずに電位供給線の信号により制御することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の開口率を向上することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に第１の薄膜トランジスタを有する画素部と第２の薄膜トランジ
スタを有する駆動回路を有し、画素部の薄膜トランジスタは、ゲート電極層、ゲート絶縁
層、膜厚の薄い領域を周縁に有する酸化物半導体層、酸化物半導体層の一部と接する酸化
物絶縁層、ソース電極層及びドレイン電極層、及び画素電極層とを有し、第１の薄膜トラ
ンジスタのゲート電極層、ゲート絶縁層、酸化物半導体層、ソース電極層、ドレイン電極
層、酸化物絶縁層、及び画素電極層は透光性を有し、駆動回路部の薄膜トランジスタのソ
ース電極層及びドレイン電極層は、保護絶縁層で覆われ、画素部のソース電極層及びドレ
イン電極層よりも低抵抗の導電材料である半導体装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】プラズマディスプレイパネルの放射ノイズの影響でタッチ位置の検出精度が低下することを避けることができるようにする。
【解決手段】送信電極７および受信電極８が格子状に設けられて、プラズマディスプレイパネル２の前面に配置されるパネル本体５と、送信電極に対して駆動信号を印加する送信部９と、送信電極に印加する駆動信号に応じて受信電極から出力される応答信号を受信して電極交点ごとの検出データを出力する受信部１０と、受信部から出力される電極交点ごとの検出データに基づいてタッチ位置を求める制御部１１と、プラズマディスプレイパネルの維持放電期間を検知するアンテナ受信回路１９と、を備え、制御部は、アンテナ受信回路の検知結果に基づいて、維持放電期間を除く期間で取得した電極交点ごとの検出データに基づいてタッチ位置を求めるものとする。 （もっと読む）

【課題】表示部の密封機能を向上させると共に、駆動ドライバ信号線の抵抗を減らすことによってＲＣ遅延を抑制できる表示装置及び有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】
基板１０と、基板上に形成された表示部２０と、表示部の外側に配置された、複数の信号線を含む駆動ドライバ３０と、表示部と駆動ドライバとを囲む接合層４１によって基板に固定され、樹脂マトリックスと複数の炭素繊維とを含む複合部材５１、及び複合部材の一面に配置された第１金属膜５２を含む密封基板５０と、接合層の外側に配置され、拡張配線３３を通じて複数の信号線それぞれに接続された複数のパッド部３４と、複数のパッド部に対向した複合部材の一面に配置され、導電接合層４２を通じて複数のパッド部それぞれに接続された複数の第２金属膜５３と、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数の有機ＥＬ素子への供給電流ばらつきを低減する。
【解決手段】有機ＥＬ素子５０と電源ラインＶＬとの間に、電源ラインＶＬから供給する電流量を制御する素子駆動用ＴＦＴ２０を備え、ＴＦＴ２０のチャネル長方向を、画素の長手方向、又はＴＦＴ２０を制御するスイッチング用ＴＦＴ１０にデータ信号を供給するデータラインＤＬの延在方向、又はＴＦＴ２０の能動層１６を多結晶化するためのレーザアニールの走査方向に平行な方向に配置する。さらに電源ラインＶＬとＴＦＴ２０の間にＴＦＴ２０と逆特性の補償用ＴＦＴ３０を備えていても良い。 （もっと読む）

【課題】発光装置の各部に寄生する容量の影響を低減する。
【解決手段】単位素子Ｐは、第１電極２１と第２電極２２との間に発光層２３が介在する発光素子Ｅと、発光素子Ｅに供給される電流量を制御する駆動トランジスタＴｄｒと、駆動トランジスタＴｄｒのゲート電極に電気的に接続された容量素子Ｃ１と、駆動トランジスタＴｄｒのゲート電極の電位をデータ信号に応じて設定するための選択トランジスタＴｓｌと、駆動トランジスタＴｄｒのゲート電極とドレイン電極との接続を制御するための初期化トランジスタＴｉｎｔとを含む。第１電極２１は、容量素子Ｃ１と重なり合う一方、選択トランジスタＴｓｌや初期化トランジスタＴｉｎｔとは重なり合わない。 （もっと読む）

【課題】画素アレイ部の各画素を駆動する周辺回路部の機能を制限することなく、表示パネルの更なる狭額縁化を図ることを可能にする。
【解決手段】表示パネル７０を構成する基板として、折り曲げ可能な基板、例えば、ステンレス基板やプラスチック基板を用いる。そして、画素アレイ部３０を基板本体部７０Ａに搭載し、画素アレイ部３０の周辺の少なくとも１辺において折り曲げられて表示裏面側に位置する基板端部７０_B，７０_C，７０_Dに周辺回路部８０_A，８０_B，８０_Cを配置する。これにより、周辺回路部８０_A，８０_B，８０_Cの機能を制限することなく、表示パネル７０の更なる狭額縁化を図る。 （もっと読む）

【課題】複数の画素に電源を供給する電源線による開口率の減少を最小化し、電源線の電圧降下によるクロストークの発生を低減できる表示装置を提供する。
【解決手段】複数の画素が行列状に配列される画素領域を含む表示装置は、前記画素領域の一側及び前記一側に対向する他側に設けられる複数の主電源線、前記画素領域の一側に設けられる第１主電源線に接続して、前記画素領域に延長される複数の第１副電源線、及び前記画素領域の他側に設けられる第２主電源線に接続して、前記画素領域に延長される複数の第２副電源線を含み、前記複数の第１副電源線及び前記複数の第２副電源線は、互いに異なる画素列に沿って延長され、一つの画素列に含まれる複数の画素は、隣接した第１副電源線及び隣接した第２副電源線に交互に接続される。 （もっと読む）

【課題】金属層と金属酸化物層からなる画素電極とが接する構造を採用した場合でも、金属層と画素電極との接続抵抗の低減、および画素電極のシート抵抗の低減の双方を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００においては、画素電極９ａに用いた第１金属酸化物層９１および第２金属酸化物層９２のうち、下層側の第１金属酸化物層９１は酸素含有量が少ないＩＴＯ膜からなるため、ドレイン電極６ｂとの接続抵抗が低い。第２金属酸化物層９２は酸素含有量が多いＩＴＯ膜からなるため、シート抵抗が低い。かかる画素電極９ａは、ＩＴＯ膜を成膜する際、第１スパッタ工程ＳＴ１と第２スパッタ工程ＳＴ２との間でターゲットを変えず、第２スパッタ工程ＳＴ２での酸素ガス流量比を大に設定する。 （もっと読む）