【課題】有機ＥＬディスプレイや液晶ディスプレイなどの表示装置において、半導体層と例えばソース電極やドレイン電極を構成するＡｌ系膜とを安定して直接接続させることが可能であるとともに、ウェットプロセスで用いる電解質液中で、半導体層とＡｌ系膜との間でガルバニック腐食が生じにくく、Ａｌ系膜の剥離を抑制することのできる配線構造を提供する。
【解決手段】基板１の上に、基板１側から順に、薄膜トランジスタの半導体層４と、半導体層４と直接接続するＡｌ合金膜６と、を備えた配線構造であって、半導体層４は酸化物半導体からなり、Ａｌ合金膜６は、Ｎｉおよび／またはＣｏを含む。 （もっと読む）

【課題】高性能な半導体装置を提供する。
【解決手段】絶縁表面上に設けられるゲート電極層と、ゲート電極層上に設けられるゲート絶縁層と、ゲート絶縁層上に設けられる第１の酸化物半導体層と、第１の酸化物半導体層上に接して設けられる第２の酸化物半導体層と、第１の酸化物半導体層の第１の領域及び第２の酸化物半導体層の第１の領域と重なり、且つ第２の酸化物半導体層に接して設けられる酸化物絶縁層と、酸化物絶縁層上、第１の酸化物半導体層の第２の領域上、及び第２の酸化物半導体層の第２の領域と重なり、且つ第２の酸化物半導体層に接して設けられるソース電極層及びドレイン電極層と、を有し、第１の酸化物半導体層の第１の領域及び第２の酸化物半導体層の第１の領域は、ゲート電極層と重なる領域、並びに第１の酸化物半導体層及び第２の酸化物半導体層の周縁及び側面、に設けられる領域である。 （もっと読む）

【課題】表示装置用アレイ基板を得る。
【解決手段】パッド部において、ボトムバリアメタル／アルミニウム／トップバリアメタルの積層からなる配線上に、絶縁層を介して接続パッドが設けられている。 （もっと読む）

【課題】基板側から順に、Ａｌ合金膜と、当該Ａｌ合金膜と直接接続する薄膜トランジスタの酸化物半導体層と、を有し、ＴｉやＭｏなどの高融点金属を省略してＡｌ合金膜を酸化物半導体層と直接接続しても低コンタクト抵抗を実現できる新規な表示装置用Ａｌ合金膜を有する配線構造を提供する。
【解決手段】上記配線構造において、半導体層は酸化物半導体からなり、Ａｌ合金膜は、Ｎｉおよび／またはＣｏを含むものである。 （もっと読む）

【課題】製造工程を大幅に増加させることなく、カラーフィルタの色毎に好適な光学特性を得ることのできるカラー表示パネルを実現する。
【解決手段】画素電極は、第１の透明導電膜１５１と第２の透明導電膜１５２とからなるＲ色用の画素電極１５０Ｒと、第１の透明導電膜１５１からなるＧ色用の画素電極１５０Ｇと、第２の透明導電膜１５２からなるＢ色用の画素電極１５０Ｂとによって構成される。画素電極の形成の際、まずＴＦＴ付き基板１０１上に第１の透明導電膜１５１が形成され、Ｒ色およびＧ色に対応する部分のみが残るよう第１の透明導電膜１５１にパターニングおよびエッチングが施される。次に、ＴＦＴ付き基板１０１上に第２の透明導電膜１５２が形成され、Ｒ色およびＢ色に対応する部分のみが残るよう第２の透明導電膜１５２にパターニングおよびエッチングが施される。 （もっと読む）

【課題】効率的にタッチパネル電極付カラーフィルタ基板を得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】まず、ガラス基板２の一方面に、第１透明電極３１、第１絶縁膜４１、第２透明電極３２及び金属電極３を形成する。次に、最上層の第２透明電極３２及び金属電極３３の表面全体を覆うように、第２透明絶縁膜４２を形成する。次に、ガラス基板２の他方面にカラーフィルタ層５を形成する。このとき、第２透明絶縁膜４２は金属電極３３の保護膜として機能する。最後に、金属電極３３を覆う第２透明絶縁膜４２の少なくとも一部を選択的に除去する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の開口率を向上することを課題の一とする。
【解決手段】同一基板上に駆動回路部と、表示部（画素部ともいう）とを有し、当該駆動回路部は、ソース電極及びドレイン電極が金属によって構成され且つチャネル層が酸化物半導体によって構成された駆動回路用チャネルエッチ型薄膜トランジスタと、金属によって構成された駆動回路用配線とを有し、当該表示部は、ソース電極層及びドレイン電極層が酸化物導電体によって構成され且つ半導体層が酸化物半導体によって構成された画素用ボトムコンタクト型薄膜トランジスタと、酸化物導電体によって構成された表示部用配線とを有する半導体装置である。多階調マスクを用いたフォトリソグラフィ工程を用いることで、作製工程を簡略化できる。 （もっと読む）

【課題】側面からの水分の浸入を効果的に遮断し、マイクロカプセル表示層への水分の浸入によるマイクロカプセル表示層の特性の劣化を効果的に防止する。
【解決手段】基板６上に第１の接着層４を介して配置されたマイクロカプセル表示層３、マイクロカプセル表示層側に透明樹脂膜２上に第２の接着層７を介して被着され、透明樹脂膜の側面から側方に突出して、透明樹脂膜及びマイクロカプセル表示層の側面において基板との間に空隙を形成する透明樹脂膜よりも大きなサイズを有する透明樹脂保護膜８、透明樹脂保護膜上に形成された機能層１１、及び空隙に充填された、幅１〜１．５ｍｍの水蒸気遮断性樹脂層９を具備し、透明樹脂保護膜は、１００μｍを超え、２５０μｍ以下の厚さを有し、かつガスバリア物質を含み、水蒸気遮断性樹脂層は、熱又は紫外線の照射により硬化したアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂又はエポキシ樹脂からなる。 （もっと読む）

【課題】表示部だけでなく画面周囲も透明なシースルーディスプレイを得る。
【解決手段】有機ＥＬ素子を基板上に配列させた透光性を有する表示部と、表示部を駆動する駆動部と、基板表面に平行な第一方向に延びる第一電極と、第一方向に直交する第二方向に延びる第二電極と、表示部周囲を額縁領域、当該額縁領域のうち表示部の外側でかつ第一方向の一方側に位置する領域を第一額縁領域、第一方向の他方側に位置する領域を第二額縁領域、第二方向の一方側に位置する領域を第三額縁領域とするときに、表示部から第一又は第二額縁領域に引き出されて第一電極と駆動部を電気的に接続する第一引出配線と、表示部から第三額縁領域に引き出されて第二電極と駆動部を接続する第二引出配線とを備え、駆動部を第三額縁領域に配した透過型有機ＥＬ表示装置で、第一電極をセグメント電極とし、第二電極をコモン電極とし、第一引出配線を透明導電材料で形成した。 （もっと読む）

【課題】高い反射率および低い接触抵抗を有しており、しかも、ヒロックなどの欠陥を生じることのない耐熱性にも優れた反射電極を提供する。
【解決手段】基板１上に形成される表示デバイス用の反射電極２であって、前記反射電極は、０．０５〜２原子％のＮｉ及び／又はＣｏ、並びに０．１〜２原子％のＮｄを含有する第１のＡｌ−（Ｎｉ／Ｃｏ）−Ｎｄ合金層２ａとＡｌとＯ（酸素）を含有する第２のＡｌ酸化物層２ｂと、を有している。上記Ａｌ酸化物層は透明画素電極３と直接接続しており、前記Ａｌ酸化物層中のＯ原子数とＡｌ原子数との比である［Ｏ］／［Ａｌ］が、０．３０以下であり、前記Ａｌ酸化物層の最も薄い部分の厚みが、１０ｎｍ以下である。上記反射電極は、前記Ａｌ酸化物層と前記透明画素電極とが直接接続する領域において、前記透明画素電極と前記基板との間に形成されている。 （もっと読む）

【課題】高い開口率を有し、安定した電気的特性を有する薄膜トランジスタを有する、信頼性のよい表示装置を作製し、提供することを課題の一とする。
【解決手段】チャネル形成領域を含む半導体層を酸化物半導体膜とする薄膜トランジスタを有する半導体装置の作製方法において、酸化物半導体膜の純度を高め、不純物である水分などを低減する加熱処理（脱水化または脱水素化のための加熱処理）を行う。また、ゲート電極層、ソース電極層、及びドレイン電極層を透光性の導電膜を用いて作製し、開口率を向上させる。 （もっと読む）

【課題】安定な表示ができる発光装置を提供する。
【解決手段】発光装置１０は、行方向及び列方向に配置された複数の画素３０を備える。画素３０は発光駆動トランジスタと、画素電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層上に形成された対向電極とを備える。電流供給ライン（電流供給ライン）Ｌａは、画素３０を行方向に接続し、電流供給ラインＬａは同一方向に並んで配置される。隣接する電流供給ラインＬａは、電流供給ラインＬａ間に位置する画素３０の発光駆動トランジスタのドレイン電極を介して電気的に接続されており、これにより隣接する電流供給ラインＬａが同電位とされる。 （もっと読む）

導電フィルム又は装置多層電極は、基板、及び透明又は半透明な介在層によって分離された２つの透明又は半透明な導電層を有する。介在層は、導電フィルム又は電極を組み込んだ装置の特定の層間で生ずる界面反射を低減させるために第１の導電層と第２の導電層との間に導電経路を有する。
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【課題】良好な遮光性を有する保護回路を備え、表示品質の高い電気光学装置を構成し得るアクティブマトリクス基板を提供する。
【解決手段】本発明のアクティブマトリクス基板は、基板上に、画素回路が配列形成された表示部と、前記表示部の配線に接続された保護回路とを備え、前記保護回路が、ダイオード接続されたトランジスタと、前記トランジスタを覆って形成された絶縁層と、前記絶縁層上における前記トランジスタの少なくともチャネル領域と対向する領域に形成されるとともに前記トランジスタのゲートとソースの少なくとも一方に電気的に接続された遮光層と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガリウムがドーピングされた酸化亜鉛系伝導体の固溶限界を増加させ、これを通じて、電子濃度・移動度および電気伝導度を向上させるところにある。
【解決手段】ＺｎＯに、ＧａとともにＭｎをコドーピングしてストレスを緩和させることにより、ＺｎＯ内でのガリウムの固溶限界を増加させ、これを通じて、ＧＺＯの電子濃度、移動度および電気伝導度を向上させ、耐湿性などの安定性（ｓｔａｂｉｌｉｔｙ）を向上させることができる。好ましくは、前記Ｇａは０．０１〜１０ａｔ％、前記Ｍｎは０．０１〜５ａｔ％の濃度でドーピングされる。より好ましくは、前記Ｇａは２〜８ａｔ％、前記Ｍｎは０．１〜２ａｔ％の濃度でドーピングされる。さらにより好ましくは、前記Ｇａは４〜６ａｔ％、前記Ｍｎは０．２〜１．５ａｔ％の濃度でドーピングされる。前記酸化亜鉛系伝導体は、太陽電池の電極、ＬＣＤのようなディスプレイ装置の電極などに使用される透明伝導体とすることができる。 （もっと読む）

【課題】画素内において光学効果の均一化を図る。
【解決手段】一画素Ｐ内において、アクティブ素子３が形成されている素子形成領域Ａ１の少なくとも半導体層６を、透明な金属酸化物で形成し、アクティブ素子３が形成されていない非素子形成領域Ａ２の半導体層６側方に、透明な金属酸化物層１６を形成する。 （もっと読む）

【課題】高精細化によって配線間のピッチが小さくなった場合であっても、ＩＣドライバと接続する端子の所定の面積が確保でき、配線のパターニングを可能とし、ショートマージンの向上を図った表示装置の提供。
【解決手段】各端子は、隣接するもの同士で端子配線１５の走行方向にずれを有して多段に配置され、それぞれ、他の部分よりも幅の広い端子配線からなる第１部分１１と、端子配線の走行方向に第１部分に隣接する端子配線からなる第２部分１２とを有する千鳥配置となっており、隣接する第１端子および第２端子は、第１部分の端子配線の上に形成されたコンタクトホールを覆った幅の広い部分と第２部分の端子配線の上に重ねて配置される幅の狭い部分からなる透明導電膜で構成され、ＩＣドライバのバンプ３1０は、各端子の幅の広い部分に対応させて幅を広くした部分と、幅の狭い部分に対応させて幅を狭くした部分とを有する。 （もっと読む）

【課題】製造コストを上昇させることなくマイグレーション耐性の向上及び有機半導体の劣化の抑制を実現可能な画像表示パネル及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】第一の基板上にゲート電極、ゲート絶縁膜が積層形成され、ゲート絶縁膜上に空隙を隔ててソース電極及びドレイン電極並びに第二の接着剤が形成され、ソース電極及びドレイン電極の空隙を含む領域に有機半導体層が形成され、ゲート絶縁膜、ソース電極、ドレイン電極の一部、及び有機半導体層を覆うように層間絶縁膜が形成され、層間絶縁膜及びドレイン電極と接合されている導電層上に第一の接着剤、第一の接着剤上に形成された画像表示媒体及び第二の接着剤上に無機膜および第二の基板を有する画像表示パネルであって、第二の接着剤は、画像表示媒体と導電層との間に配置された第一の接着層よりも外側に配置され、無機膜及び親水化処理されたゲート絶縁膜と接合形成する。 （もっと読む）

【課題】製造プロセスを増加させずに、信頼性が高く、かつ反射特性に優れる電子デバイスを提供する。
【解決手段】本発明に係る電子デバイス２００は、基板１と、基板１上に形成され、少なくともＭｏ系膜４１と、その上層に形成されたＡｌ系膜４２とからなる導電性反射膜４０とを備える。そして、導電性反射膜４０のＭｏ系膜４１の表面荒さＲａが５ｎｍ以下であり、Ａｌ系膜４２の波長３５０ｎｍ〜５５０ｎｍにおける反射率が８５％以上である。 （もっと読む）

【課題】低温環境下においても表示特性の優れた液晶表示装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る液晶表示装置１００は、液晶分子を駆動する電極対１３，１４を備える第１の基板１と、第１の基板１と所定の間隙を持って対向配置される第２の基板２を備える。第２の基板２は、第１の基板１と対向する側の表示領域５１、及び額縁領域５２に配設されたヒーター用電極２１と、ヒーター用電極２１より上層に、当該ヒーター用電極２１を被覆するように配設され、少なくとも平坦化機能を有するオーバーコート層２４を有する絶縁層２５とを具備する。また、ヒーター用電極２１に対して、外部から電位の供給可能な電位供給手段を有する。 （もっと読む）