【課題】有機発光ディスプレイ装置を提供する。
【解決手段】半透過電極、半透過電極に対向する反射電極、及び半透過電極と反射電極との間に介された発光層を備える赤色、緑色及び青色ピクセルと、透明電極、透明電極に対向する反射電極、及び透明電極と反射電極との間に介された発光層を備える白色ピクセルと、赤色、緑色、青色及び白色のピクセルのそれぞれに対応して位置した赤色、緑色、青色及び白色フィルタと、少なくとも白色ピクセルの透明電極と白色フィルタとの間に位置した光路調節層と、を備える有機発光ディスプレイ装置である。これにより、視野角特性が確保され、低消費電力及び長寿命の特性を有しうる。 （もっと読む）

【課題】マスクシートの使用枚数を削減することで製造工程の効率化を図る。
【解決手段】薄膜トランジスタ基板の製造方法は、チャネル保護膜を形成するチャネル保護膜形成工程と、入力端子の一部を露出させる端子露出工程とで共通のマスクシートを用いる。マスクシートは、チャネル保護膜の設置位置に重ねられる位置に形成された保護膜用遮光部と、入力端子の設置位置に重ねられる位置に形成された端子用遮光部とを有し、前記遮光部以外の領域は透光性を有している。チャネル保護膜形成工程では、透明基板の下面側及びマスクシートの上面側からそれぞれ光を照射して保護膜用遮光部及びゲート電極に重ねられた部分と端子用遮光部及び入力端子に重ねられた部分とのポジ型フォトレジストを現像し残存させる。端子露出工程では、マスクシートの上面側から光を照射して保護膜用遮光部及び端子用遮光部に重ねられた部分以外のネガ型フォトレジストを現像し残存させる。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ−ＬＣＤアレー基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ＴＦＴ−ＬＣＤアレー基板の製造方法は、基板にゲートライン及びそのゲートラインと接続するゲート電極を形成し、前記ゲート電極にゲート絶縁層と半導体層とを形成し、前記半導体層にオーム接触層を形成することにより、基板にトランジスタ部を形成する工程と、前記工程で作製された基板に、ゲートラインとゲート電極と電気的に絶縁し、オーム接触層を介して前記半導体層の両側にオーム接触する透明画素電極層とソース・ドレイン電極金属層と順次堆積する工程と、作製された基板に、グレートーンマスクでマスキング及びエッチングを行うことにより、透明画素電極及びソース・ドレイン電極が同時に形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置の周囲が薄暗い環境でも画像表示が認識できる液晶表示装置を提供することを課題の一とする。
【解決手段】１つの画素において、液晶層を介して入射する光を反射する領域と、透過領域とを両方有する画素電極を設け、外光を照明光源とする反射モードと、バックライトを用いる透過モードの両モードでの画像表示を可能とする。外光はあるが、その明るさが不十分であり薄暗い場合は、バックライトを弱く点灯し反射モードで表示を行うことによって、画像表示を可能とする。 （もっと読む）

【課題】導電性及び透明性に優れたパターン電極、および該電極を用いた有機電子デバイスを簡便に提供する。
【解決手段】透明支持体１０上に、金属繊維を含有する導電性金属層１を有し、更にπ共役系導電性高分子とポリアニオンを含んで成る導電性ポリマーおよび下記ポリマー（Ａ）を含有する導電性ポリマー層２とを有する透明パターン電極２０において、該導電性金属層と該導電性ポリマー層が、パターン像様の積層構造を有することを特徴とする透明パターン電極。
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【課題】透過率の向上した有機発光表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に透過領域ＴＡと、透過領域を介して互いに離隔した複数の画素領域ＰＡが定義されており、、基板１上に形成され、各画素領域内に位置する複数の薄膜トランジスタと、複数の薄膜トランジスタを覆うパッシベーション膜と、パッシベーション膜上に各薄膜トランジスタと電気的に連結されるように形成され、各画素領域内に位置し、各薄膜トランジスタを遮蔽できるように各薄膜トランジスタと重なって配置された複数の画素電極と、複数の画素電極と対向して透光可能に形成され、透過領域及び画素領域にかけて位置し、透過領域のうち少なくとも一部に対応する位置に形成された第１開口を持つ対向電極と、画素電極と対向電極との間に介在されて発光する有機発光層と、を備える有機発光表示装置。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス型基板において、薄膜トランジスタと、その端子接続部を同時に作り込み、少ないマスク数で歩留まりの良い表示装置を提供する。
【解決手段】画素部および外部入力端子を有する表示装置であって、画素部は、ゲート電極と、半導体膜と、ゲート電極上に形成された絶縁膜、および絶縁膜上に半導体膜と電気的に接続された電極を有するＴＦＴを有し、外部入力端子は、ゲート電極と同じ層に形成された第１の配線と、電極と同じ層に形成され、絶縁膜に形成されたコンタクトホールを介し第１の配線と接続された第２の配線と、第２の配線に接続され、第２の配線上に形成された透明導電膜と、第２の配線と透明導電膜が接続している位置で透明導電膜と電気的に接続するフレキシブルプリント配線板を有する表示装置。 （もっと読む）

【課題】外光があっても良好な表示を行ない得るタッチパネル付ＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】ＥＬ素子を用いた表示装置であって、外側より順番に偏光板１１１、波長板１１２、１１３、タッチパネル１２０及びＥＬ表示部１３０を積層して配置したタッチパネル付ＥＬ表示装置とする。前記波長板１１２，１１３が１／２波長板１１２と１／４波長板１１３を積層したものである。前記タッチパネル１２０が空間部を介して対向している透明電極から形成されている。 （もっと読む）

【課題】配線の電気抵抗の影響が小さく、輝度の均一性が改良された発光装置及びこれを用いた電子機器、ならびに発光装置の製造方法を提供する。
【解決手段】発光装置は、基板３１と、基板３１の一の面に配置され第一の電圧が印加される導体層６０と、基板３１の他の面に配列された複数の発光素子１００と、を備え、基板３１は一の面から他の面に貫通しその内部が導電性を有する１つ以上の貫通部７０を備え、各発光素子１００は第二の電圧が印加される電源線と、電源線から電流を供給される画素電極４２と、第一の電圧が印加される対向電極４６と、画素電極４２と対向電極４６との間に配置されている発光層４５と、を備え、対向電極４６と導体層６０とは基板３１の外部において電気的に接続され、かつ、貫通部７０を通じて電気的に接続されている。 （もっと読む）

【課題】液滴が比較的炭素数の大きい飽和炭化水素である場合の表面電荷密度の減衰が長期にわたって抑制され、透明性にも優れたエレクトレットを備える液滴移動制御装置の提供。
【解決手段】共通電極３と、該共通電極上に設けられたエレクトレット４と、該エレクトレットに対向配置された複数の対向電極６ａ、６ｂと、前記エレクトレットと前記対向電極との間の静電エネルギーを制御する静電エネルギー制御手段と、前記エレクトレットと接する液滴７とを備え、前記エレクトレット上での液滴の移動を制御する装置であって、前記液滴が、温度２５℃、圧力１０^５Ｐａの条件下にて液体である炭素数１０〜１７の飽和炭化水素を含有し、前記エレクトレットが、前記共通電極側から、それぞれ特定の材料を含む層（Ａ）と層（Ｂ）とがこの順に積層された積層体に電荷を注入してなるものであることを特徴とする、液滴移動制御装置１。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、例えば基板上の積層構造における最上層側の段差を低減し、高品位な画像を表示する。
【解決手段】電気光学装置は、基板上の画素領域に設けられ、所定の形状にパターニングされた透明電極（９）と、透明電極の下地となる絶縁膜（４５）と、この絶縁膜上における画素領域のうち透明電極が形成された透明電極形成領域を除く透明電極非形成領域に設けられ、透明電極の上層側表面と絶縁膜の上層側表面との段差を低減するための段差低減膜（６１０）と、基板上の積層構造における透明電極及び段差低減膜と絶縁膜との間に基板上で平面的に見て絶縁膜に重なるように形成され、透明電極の屈折率と絶縁膜の屈折率との間の屈折率を有するエッチングストッパー膜（７１０）とを備える。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタ及びＭＯＳ（Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ−Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）構造のキャパシタを備える平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１領域の基板上に半導体で形成された活性層と、第２領域の基板上に半導体で形成された下部電極と、活性層及び下部電極を含む上部に形成された第１絶縁層と、活性層上の第１絶縁層上に第１導電層及び第２導電層で形成されたゲート電極と、下部電極上の第１絶縁層上に第１導電層で形成された上部電極と、ゲート電極及び上部電極を含む上部に形成され、活性層及び上部電極が露出するようにパターニングされた第２絶縁層と、露出した活性層に接続されるソース電極及びドレイン電極とを備える。 （もっと読む）

【課題】各表示部の発光輝度のムラを抑制し、表示品位を向上させることが可能な有機ＥＬパネルを提供する。
【解決手段】透光性の支持基板と、前記支持基板上に透光性の第一電極と有機発光層と第二電極とを積層形成してなる複数の発光部Ｓ１〜Ｓ８と、前記支持基板上に形成され各発光部Ｓ１〜Ｓ８に個別に電流を供給する複数の配線部Ｌ１〜Ｌ８と、を備える有機ＥＬパネルである。各配線部Ｌ１〜Ｌ８の少なくとも１つと接続され、発光部Ｓ１〜Ｓ８に供給される電流を分流する分流部Ｒ１を前記支持基板上に形成してなる。 （もっと読む）

【課題】可撓性を有する表示装置において、湾曲時の湾曲量に応じた表示制御を行うことで湾曲時の表示信頼性を確保することが可能な、新規かつ改良された表示装置及び表示装置の制御方法を提供する。
【解決手段】可撓性を有する基板と、前記基板に配列された複数の発光素子を有し、映像信号に応じた画像を表示する表示部と、前記基板の表面又は裏面の少なくともいずれかに設けられ、前記基板の湾曲状態を検知する変位センサと、前記変位センサにより前記基板の湾曲が検知された場合に、前記表示部へ画像を分割して表示する制御を実行する制御部と、を備える、表示装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタへの外部光の入射を遮光できるとともに、画素の開口率の向上を図った液晶表示装置を提供する。
【解決手段】表示装置の画素領域における薄膜トランジスタＴＦＴはゲート電極ＧＴと前記ゲート電極ＧＴの上方に配置した半導体層ＡＳと、前記半導体層ＡＳの上層に配置したドレイン電極ＤＴおよびソース電極を有し、前記半導体層ＡＳは、ドレイン信号線ＤＬの延在方向においてゲート電極ＧＴの形成領域からはみ出して形成される延在部を有し、前記ゲート電極ＧＴは、ゲート信号線の延在方向において前記半導体形成領域からはみ出して形成されている。 （もっと読む）

【課題】金属の腐食を抑制することができる表示パネル、表示パネル基板及び表示装置を提供する。
【解決手段】単体の液晶表示パネルが複数含まれる基板である液晶表示パネル基板の切断線３２０付近において、コモン信号線３７０は、ガラス基板３７５上に成膜された透明導電膜３７２と、この透明導電膜３７２上に金属配線として成膜された銅配線３７１とで構成されており、このうち銅配線３７１が切断線３２０の手前で終端し、透明導電膜３７２のみが切断線３２０を越えて、コモン信号線検査領域３１６にまで延び、コモン信号共通線３１７の一部を形成している。また、コモン信号線検査領域３１６における透明導電膜３７２上には、切断線３２０を挟んで終端した銅配線３７１に対向して、銅配線３７３が形成され、透明導電膜３７２と共にコモン信号共通線３１７を形成している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、良好な画像表示を行うことができ、配線の取り出しが容易なツイストボール型電子ペーパーを提供することを主目的とする。また、本発明は、再利用可能なツイストボール型電子ペーパーを提供することを主目的とする。
【解決手段】透明性を有するフィルムからなる第１基材、および上記第１基材の一方の表面に形成された透明電極を有する透明電極側基材と、絶縁性を有するフィルムからなる第２基材、および上記第２基材の一方の表面に形成された対向電極を有する対向電極側基材と、ツイストボールおよび低極性溶媒を含む低極性溶媒層からなるツイストボール層とを有し、上記ツイストボール層は、上記第１基材および上記第２基材により密封され、上記対向電極側基材は、上記対向電極が上記ツイストボール層とは反対側となるように配置されていることを特徴とするツイストボール型電子ペーパーを提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】薄膜トランジスタにおいて透明導電膜とＡｌ合金膜が直接接続する構造を備えた表示装置であって、上記腐食防止用塗料の塗布や剥離といった更なる工程を設けることなく、ピンホール腐食を防止することのできる表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタにおいて透明導電膜とＡｌ合金膜が直接接続する構造を備えた表示装置であって、前記Ａｌ合金膜が、Ｎｉおよび／またはＣｏを０．１５原子％以下（０原子％を含まない）、Ｇｅを０．２原子％以上２．０原子％以下、およびＬａ、Ｇｄ、ＮｄおよびＹよりなる群から選択される１種以上の元素を０．０５原子％以上１．０原子％以下含有し、かつ、前記Ａｌ合金膜の表面において観察される腐食孔のアスペクト比（腐食深さ／腐食直径）が０．１２以下であることを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴ層等のドライバ層を設けない簡易な構成の電子ペーパ２において画像の高画質化を可能とする。
【解決手段】電子インク層１１と、電子インク層の一面側に設けられた表面フィルム１２と、電子インク層の他面側に設けられた裏面フィルム１３と、電子インク層と表面フィルムとの間に介在し、複数の画素２１に対応して配設された複数の透明な画素電極１４と電子インク層と裏面フィルムとの間に介在する共通電極１５とを備え、表面フィルムには、複数の貫通孔３０が形成されると共に、当該貫通孔内に複数の画素電極とそれぞれ電気的に接続された複数の上側スルーホール電極３１が設けられ、裏面フィルムには、少なくとも１つの貫通孔４０が形成されると共に、当該貫通孔内に前記共通電極と電気的に接続された下側スルーホール電極４１が設けられた構成とする。 （もっと読む）

アクティブ・マトリクス・ディスプレイ用の薄膜トランジスタを、マスキング作業を削減して製作する方法は、基板上にゲートをパターン形成することを含む。ゲート誘電体がゲート上に形成され、さらに、半導体金属酸化物がゲート誘電体上に堆積される。チャネル保護層が、ゲートの上方に重なる半導体金属酸化物上にパターン形成されてチャネル領域が画定され、半導体金属酸化物の残部が露出される。その構造上にソース／ドレイン金属層が堆積され、ゲートの上のチャネル保護層までエッチングすることにより、ソース／ドレイン金属層がソース端子とドレイン端子とに分離され、さらに、周辺部でソース／ドレイン金属層および半導体金属酸化物を通ってエッチングされ、トランジスタが隔離される。非導電性スペーサが、トランジスタおよび周囲のソース／ドレイン金属層の部分上にパターン形成される。
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