【課題】アクティブマトリクス基板の開口率を向上させる。
【解決手段】複数のトランジスタ素子を備えたアクティブマトリクス基板１０１Ａであって、可視光を透過させることが可能な基板１０と、基板上に形成され、亜鉛錫酸化物から構成される導電体材料よりなり、可視光を透過させることが可能な配線（Ｌ_Ｇ、Ｌ_Ｄ、Ｌ_Ｐ、Ｌ１、Ｌ２等）であってトランジスタ素子における電極として機能している、配線と、基板の垂直方向からみて配線の少なくとも一部と重なり、配線よりもキャリア濃度が低く、亜鉛錫酸化物から構成される半導体材料よりなり、かつ可視光を透過させることが可能な半導体層４４と、配線および半導体層の少なくとも一部を覆い、可視光を透過させることが可能な絶縁膜（４０、５０）と、を備えることを特徴とするアクティブマトリクス基板。 （もっと読む）

【課題】有機ＥＬ表示装置において、非発光時における表示のシームレス化を適切に実現する。
【解決手段】可視光を遮光する金属よりなる背面電極２３と光取り出し側に位置する透明電極２１との間に有機ＥＬ材料よりなる有機層２２を挟んでなる有機ＥＬ発光部２０を有する文字盤１０を備え、有機ＥＬ発光部２０の光取り出し側に、背面電極２３による光反射を防止する反射防止膜１２を備えてなる有機ＥＬ表示装置において、背面電極２３は、文字盤１０のうち有機ＥＬ発光部２０の外側の全体にまで、透明電極２１とは絶縁膜２５を介して設けられており、文字盤１０のうち有機ＥＬ発光部２０の外側の全体にて、背面電極２３よりも光取り出し側には、透明電極２１と同一材料よりなる透明ダミー膜２６が背面電極２３と重なるように設けられており、透明ダミー膜２６と透明電極２１とは絶縁膜２５を介して電気的に分断されている。 （もっと読む）

【課題】金属層と金属酸化物層からなる画素電極とが接する構造を採用した場合でも、金属層と画素電極との接続抵抗の低減、および画素電極のシート抵抗の低減の双方を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００においては、画素電極９ａに用いた第１金属酸化物層９１および第２金属酸化物層９２のうち、下層側の第１金属酸化物層９１は酸素含有量が少ないＩＴＯ膜からなるため、ドレイン電極６ｂとの接続抵抗が低い。第２金属酸化物層９２は酸素含有量が多いＩＴＯ膜からなるため、シート抵抗が低い。かかる画素電極９ａは、ＩＴＯ膜を成膜する際、第１スパッタ工程ＳＴ１と第２スパッタ工程ＳＴ２との間でターゲットを変えず、第２スパッタ工程ＳＴ２での酸素ガス流量比を大に設定する。 （もっと読む）

【課題】透明導電膜を低コストかつ高効率で作製することができ、基板の大面積化への対応も容易な透明導電膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の透明導電膜の形成方法は、酸化インジウム錫化合物からなるＩＴＯ粒子を含有する導電性インク（Ｉｎｋ）を、その表面に所定のパターンのインク保持部が形成されたフレキソ印刷版１１に保持させる工程と、このフレキソ印刷版１１に、絶縁透光性基板１０を密着させ、上記インク保持部に保持された導電性インクを基板１０の所定位置に転写する工程と、この転写後に上記転写された導電性インクを加熱して、絶縁透光性基板１０上に、所定パターンの透明導電膜を形成する工程と、を備える。 （もっと読む）

【課題】封止材料を均一に加熱溶融することが可能な構成の電気装置を提供する。
【解決手段】支持基板と、前記支持基板上に設定される封止領域内に設けられる電気回路と、前記支持基板上において、前記封止領域内から封止領域外に延在して設けられ、外部の電気信号入出力源と前記電気回路とを電気的に接続する電気配線と、前記封止領域を取囲んで前記支持基板上に設けられる封止部材と、前記封止部材を介して、前記支持基板に貼合される封止基板とを有する電気装置であって、前記電気回路は、有機層を有する電子素子を備え、平面視において前記電気配線と前記封止部材とが交差する交差領域では、前記電気配線が透光性電気配線によって構成されている、電気装置。 （もっと読む）

【課題】光硬化性結合部材を用いた共通電極表示板との結合が容易である薄膜トランジスタ表示板を提供する。
【解決手段】ゲート線、データ線、画素電極及び薄膜トランジスタが設けられている基板、及び前記基板上に設けられ、外部からの信号を受信する配線部と前記配線部からの信号に応答してゲート信号を前記ゲート線に出力する回路部とを備えるゲート駆動部、を含み、前記配線部は、前記配線部に重畳する光硬化性の結合部材に光を透過させるための開口部が設けられている信号線を含み、前記配線部は開口部が設けられていない信号線をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】 水分に対する高いガスバリア性を有するにもかかわらず、プラスチックフィルムが吸湿した含有水分の除去が容易であり、表示素子の表示性能の低下などの問題が生じにくい、表示素子などへの用途に適した透明導電性フィルムを提供する。
【解決手段】 基材プラスチックフィルムの一方の面にガスバリア機能層を有し、他方の面に透明導電層を有する透明導電性フィルムであって、前記ガスバリア機能層の水蒸気透過度を０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下とし、前記透明導電層の水蒸気透過度を１．０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以上としたことを特徴とする透明導電性フィルム。 （もっと読む）

【課題】表示ムラ、コントラスト等の画像表示品質の面で優れ、さらに高速駆動が可能な電気光学装置を提供する。
【解決手段】第２導電膜４００上に積層され、開口領域に第２のコンタクトホール８６が形成された第２絶縁層４４と、第２のコンタクトホール８６を介して延在部に電気的に接続され、少なくとも前記一方の画素の開口領域に形成された画素電極９ａと、を少なくとも備え、第２のコンタクトホール８６の内部は、画素電極９ａよりも比抵抗が低い透明導電性材料によって充填されていることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴと重なる領域に柱状スペーサを配置すると、一対の基板の貼り合わせ時に
圧力がかかり、ＴＦＴに影響を与える恐れ、クラックが発生する恐れなどがある。
【解決手段】ＴＦＴと重なる位置に形成される柱状スペーサの下方に無機材料からなるダ
ミー層を形成する。このダミー層をＴＦＴと重なる位置に配置することによって、一対の
基板の貼り合わせ工程時にＴＦＴにかかる圧力を分散し、緩和する。このダミー層は、工
程数を増やすことなく形成するため、画素電極と同じ材料で形成することが望ましい。 （もっと読む）

【課題】液晶装置等の電気光学装置において、データ線に電気的に接続された付加容量の破損を防止する。
【解決手段】電気光学装置は、対向配置され、シール材（５２）で囲まれた領域に電気光学物質（５０）を挟持する第１基板（１０）及び第２基板（２０）と、第１基板上の画素領域（１０ａ）に走査線（１１）とデータ線（６）との交差に対応して設けられた画素電極（９）と、画素電極と、走査線及びデータ線との間に、画素電極に容量絶縁膜（７２）を介して対向するように設けられた蓄積容量電極（７１）と、画素電極と同一層からなる第１容量電極（６１０）と、蓄積容量電極と同一層からなる第２容量電極（６２０）とを有し、データ線と電気的に接続された付加容量（６００）とを備える。付加容量は、画素領域と、シール材で囲まれた領域の外周よりも内側との間の領域に配置されている。 （もっと読む）

【課題】画素部に形成される画素電極やゲート配線及びソース配線の配置を適したものとして、かつ、マスク数及び工程数を増加させることなく高い開口率を実現した画素構造を有するアクティブマトリクス型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】絶縁表面上のゲート電極及びソース配線と、前記ゲート電極及びソース配線上の第１の絶縁層と、前記第１の絶縁膜上の半導体層と、前記半導体膜上の第２の絶縁層と、前記第２の絶縁層上の前記ゲート電極と接続するゲート配線と、前記ソース電極と前記半導体層とを接続する接続電極と、前記半導体層と接続する画素電極とを有することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】表示領域の配線とＩＣドライバの端子を接続する引き出し線において、ＩＣドライバの中央部の端子を接続する引き出し線とＩＣドライバの端部の端子を接続する引き出し線における長さが異なることによる引き出し線抵抗に差が生ずることを防止する。
【解決手段】映像信号線とＩＣドライバの端子を接続するドレイン層引出し線５０を途中で分断し、分断した部分を画素ＩＴＯと同時に形成される橋絡ＩＴＯ５０によって橋絡する。ＩＣドライバの中央部分の端子を接続する引き出し線における橋絡ＩＴＯ５０の長さをＩＣドライバの端部の端子を接続する引き出し線における橋絡ＩＴＯ５０の長さより大きくすることによって、引き出し線の配線抵抗の差を小さくする。 （もっと読む）

【課題】有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に配置され、屈折率の異なる複数の絶縁膜を含み、前記複数の絶縁膜のうち少なくとも一つは同一面上で異なる厚さで形成されたバッファ層と、前記バッファ層の厚い領域に形成された薄膜トランジスタの活性層と、前記バッファ層の薄い領域に形成された画素電極と、ゲート絶縁膜を介して前記活性層上に形成された前記薄膜トランジスタのゲート電極と、前記活性層に接続された前記薄膜トランジスタのソース及びドレイン電極と、前記画素電極上に形成された発光層と、前記発光層を介して、前記画素電極に対向配置される対向電極と、を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】構造及び製造工程を簡素化しながら、開口率を向上させた、ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の実施形態に係るディスプレイ装置１０１は、基板１１１、前記基板１１１上に形成された前記第１透明導電膜１３０１及び前記第１透明導電膜１３０１上に形成された第１金属膜１３０２を含む多重膜構造と前記第１透明導電膜１３０１で形成された単一膜構造とを含むゲート配線、前記ゲート配線の一部の領域上に形成された半導体層１５３、そして前記半導体層上に形成された第２透明導電膜１７０１及び前記第２透明導電膜１７０１上に形成された第２金属膜１７０２を含む多重膜構造と前記第２透明導電膜１７０１で形成された単一膜構造とを含むデータ配線を含む。 （もっと読む）

【課題】画素の開口領域における開口率を確保しつつ、所望の電気容量を確保可能な保持容量を備えた電気光学装置、およびこれを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】電気光学装置としての液晶装置は、透光性の画素電極１５と、画素電極１５に対応して設けられたＴＦＴ３０および保持容量と、ＴＦＴ３０に電気的に接続され第１方向に延在する遮光性のデータ線６ａと、データ線６ａと交差する第２方向に延在する遮光性の走査線３ａと、を備え、保持容量は、ＴＦＴ３０を覆うように設けられた遮光性の第１電極１６ｂと、第１電極１６ｂに対向し、第１方向および第２方向の一方に延在する本線部と第１方向および第２方向の他方に突出する突出部とを有する透光性の第２電極１６ａと、を有し、本線部は第１電極１６ｂおよびデータ線６ａよりも幅広に設けられ、突出部は第１電極１６ｂおよび走査線３ａよりも幅広に設けられている。 （もっと読む）

【課題】封止が確実にでき、また、基板スペースを有効活用することができる有機ＥＬ素子およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】制御基板２の上面側に陰極３が設けられ、陰極３上に発光部５が設けられ、発光部５の上側には陽極７が設けられ、また、制御基板２の下面側には、発光部５の発光を制御する制御素子８と、有機ＥＬ素子１の外部から電力を受け取る二次コイル９と、二次コイル９からの電流を整流する整流回路２０と、陰極３にスルーホール１１により接続されるランド１０と、陽極端子１５にスルーホール１６を介して接続されるランド１４と、制御素子８と各ランド１０とを接続する配線１２と、制御素子８と二次コイル９とを接続する配線１３等が設けられて素子本体３０が形成されている。素子本体３０は、第一封止層１７及び第二封止層１８により完全に封止されている。 （もっと読む）

【課題】マスク利用回数が低減してコストダウンができ、かつ製造の容易な有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極と絶縁されたソース電極及びドレイン電極と、ゲート電極と絶縁されてソース電極及びドレイン電極にそれぞれ接する半導体層と、を備える薄膜トランジスタ；ソース電極及びドレイン電極のうちいずれか一つに電気的に連結された画素電極を備え、ゲート電極は、第１導電層と第１導電層上の第２導電層とを備え、画素電極は、第１導電層と同一物質で同一層に形成されたことを特徴とする有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】注入方式により高品質なエレクトロウェッティングディスプレイを容易に製造できる。
【解決手段】透明電極を有する２枚の基板１のうち一方の基板にシール剤を塗布して枠状のシールパターンを形成する工程、一方の基板と他方の基板とを貼り合わせてシール剤を硬化させ、開口部を有するセルを作製する工程、親水性の液体４中に疎水性の液体５が分散してなるエマルジョンインクを開口部からセル中に注入する工程、及び、開口部を封止する工程を有し、透明電極を有する２枚の基板１のうち１枚は、表面に疎水性中間層２を有するエレクトロウェッティングディスプレイの製造方法。 （もっと読む）

【課題】透明導電性が高く、透過光の色調がニュートラルであり、かつ耐屈曲性に優れたＣＮＴを導電膜とする透明導電積層体を提供する。
【解決手段】透明導電積層体１０３は、厚み２０〜１８８μｍの透明基材１０１の少なくとも片面上にカーボンナノチューブ導電膜１０２と透明保護膜とが透明基材側からこの順に設けられた透明導電積層体であって、前記透明保護膜の厚みが１０〜１２０ｎｍの範囲にあり、前記透明保護膜側の反射率曲線の極小値が２８０〜７００ｎｍの波長範囲にあり、かつ波長３８０〜７８０ｎｍにおける透明保護膜側の平均反射率が２．５％以下のものである。 （もっと読む）

【課題】製造工程の複雑化や複数の表示装置間で接点押圧力及び画像品質に差異を生ぜず製造歩留まりの良い接点内蔵型タッチ式液晶表示装置とその製造方法を提供すること。
【解決手段】接点内蔵型タッチ式液晶表示装置においては、第１基板１２ａと第２基板１４ａとを相互に支持する基板支持構造１６の柱状スペーサ４２が、第２基板の対向面において、複数の接点用突起４０と同時に同じ材料で同じ高さに形成されている。基板支持構造は、第１基板の対向面において複数の柱状スペーサの先端が接触される先端を有し夫々が相互に同じ高さを有した複数の土台３０も含む。液晶操作構造の複数の画素電極２２及びタッチ位置検出構造の複数の接点電極２６ａ，２８ａが、土台の高さ調整部３０ｂの形成前に形成された導電性の第１層ＦＬと高さ調整部の形成後に第１層に重複して形成された導電性の第２層ＳＬとで形成されている。 （もっと読む）