【課題】タッチパネルセンサ部が静電気により損傷するのを防ぐことができる多面付けワーク基板を提供する。
【解決手段】ワーク基板７０の一面７０ａの各チップ部７１にはタッチパネルセンサ部１０が設けられており、またワーク基板７０の一面７０ａの外枠部７２には導電性を有する外枠除電パターン７４が設けられている。各タッチパネルセンサ部１０は、所定パターンで設けられた複数の電極パターン１３，１５と、各々が各電極パターン１３，１５に対応する複数の端子部１７と、各々が各電極パターン１３，１５と各端子部１７との間を電気的に接続する複数の導電パターン１４，１６と、を有している。またワーク基板７０の一面７０ａ上には、各タッチパネルセンサ部１０を部分的に覆うとともに、外枠除電パターン７４に接続された保護層２２がさらに設けられている。 （もっと読む）

【課題】内部空間が減圧空間となった画像表示パネルの製造において、基板１ａ，１ｂと枠材６を接着するための接着材料７のペーストの付設を、ディスペンサーを用いて、厚みムラを抑制しつつ幅広に行えるようにする。
【解決手段】接着材料７のペーストを、基板１ａ，１ｂの枠材６との対向領域の外周側から内周側へ複数周回する渦巻状に押し出すことで、環状のペーストパターン８を形成する。 （もっと読む）

【課題】画品位に影響を及ぼす、２層目の平坦化膜のコンタクト部を自由にレイアウトできるようにする。
【解決手段】回路部が形成された基板表面を平坦化するための平坦化膜を、基板上に順に積層された第１，第２の平坦化膜７４，７７からなる２層構造とする。そして、第１，第２の平坦化膜７４，７７間に中継配線７６を形成し、この中継配線７６によって、第１の平坦化膜７４に形成され、トランジスタ（ＴＦＴ）７２を含む回路部に接続された第１のコンタクト部７５と、第２の平坦化膜７７の第１のコンタクト部７５と平面視で異なる位置に形成された第２のコンタクト部７５とを電気的に接続する。 （もっと読む）

【課題】発光素子の劣化を極力抑えるための構造を提供すると共に、各画素に必要とされる容量素子（コンデンサ）を十分に確保するための構造を提供する
【解決手段】トランジスタ上に、第１パッシベーション膜、第２の金属層、平坦化膜、バリア膜及び第３の金属層の順に積層され、平坦化膜に設けられた第１開口部の側面がバリア膜に覆われ、第１開口部の内側に第２開口部を有し、かつ、第３の金属層は前記第１開口部及び第２開口部を介して前記半導体に接続され、トランジスタの半導体、ゲート絶縁膜、ゲート電極、第１パッシベーション膜及び前記第２の金属層で積層形成された容量素子を備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トランジスターの静電破壊を抑制する。
【解決手段】電気光学装置の製造方法は、基板上に第１トランジスターを形成する工程と
、第１トランジスターが形成された基板上に第１絶縁膜を形成する工程と、第１絶縁膜を
エッチングして、第１トランジスターに通じる第１貫通孔を形成する工程と、第１貫通孔
を介して第１トランジスターに接続された第１部分および第１部分とは接続されていない
第２部分を有する第１導体膜を第１絶縁膜上に形成する工程と、第１導体膜上に第２絶縁
膜を形成する工程と、第２絶縁膜をエッチングして第１導体膜の第１部分および第２部分
のそれぞれに通じる第２貫通孔および第３貫通孔を形成する工程と、第２貫通孔および第
３貫通孔を介して、第１導体膜の第１部分および第２部分を電気的に接続する第２導体膜
を第２絶縁膜上に形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】
カラーフィルタ方式のOLEDパネルでも、単一波長で、かつ高い信頼性で検査・修正が可能であり、歩留まりを向上させることのできる薄膜表示素子の検査修正方法及び検査修正装置を提供する。
【解決手段】
発光層の上に形成された金属電極膜と発光層の金属電極膜と反対の側に形成された透明電極膜とを有する薄膜表示素子の発光の状態を検査して不良箇所を修正する方法及びその装置を、金属電極と透明電極とに電力を印加して発光層を発光させ、この発光層の発光の状態を金属電極に対して透明電極の側から観察して発光層で発光していない位置を検出し、この検出した発光層で発光していない位置の情報に基づいて金属電極に透明電極と反対の側からレーザを照射して発光層で発光していない位置の上方の金属電極膜を除去するように構成した。 （もっと読む）

【課題】有機発光表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による有機発光表示装置は、キャパシタ領域を含む基板と、前記基板上に位置するバッファ層と、前記キャパシタ領域の前記バッファ層の上部に位置する半導体層と、前記半導体層の上部に形成されるゲート絶縁膜と、前記キャパシタ領域の前記ゲート絶縁膜の上部に形成される透明電極を含み、断面の前記透明電極の幅は前記半導体層の幅より小さいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】画素のレイアウト面積を抑えつつ、必要な容量素子の形成を可能にした有機ＥＬ表示装置、及び、当該有機ＥＬ表示装置を有する電子機器を提供する。
【解決手段】アノード電極２１１とカソード電極２１３との間に有機層２１２を挟んで成る有機ＥＬ素子２１_Aを画素毎に有する有機ＥＬ表示装置において、有機ＥＬ素子２１_Aの発光に寄与しない領域のアノード電極２１１とカソード電極２１３との間に容量Ｃ_subを形成する。そして、発光に寄与しない領域に形成した容量Ｃ_subを、有機ＥＬ素子の駆動回路を構成する容量素子、例えば、有機ＥＬ素子の等価容量Ｃ_oledの容量不足分を補う容量素子として用いる。 （もっと読む）

【課題】作製工程を削減し、低コストで生産性の良い表示装置を提供する。消費電力が少なく、信頼性の高い表示装置を提供する。
【解決手段】トランジスタの、ゲート電極となる導電層、ゲート絶縁層となる絶縁層、半導体層、およびチャネル保護層となる絶縁層を連続して形成する。ゲート電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）と島状半導体層の形成を、一回のフォトリソグラフィ工程で行う。該フォトリソグラフィ工程と、コンタクトホールを形成するフォトリソグラフィ工程と、ソース電極及びドレイン電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程と、画素電極（同一層で形成される他の電極または配線を含む）を形成するフォトリソグラフィ工程の、４つのフォトリソグラフィ工程で表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】間便に所望の形状のパターンを得ることのできる多層薄膜パターン及び表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板上に層間絶縁膜１を形成する工程と、層間絶縁膜１上に導電性を有する第１の薄膜２を形成する工程と、第１の薄膜２上に第２の薄膜３を形成する工程と、第２の薄膜３上に、複数階調露光によって膜厚差を有するレジストパターン５を形成する工程と、膜厚差を有するレジストパターン５を介して、第２の薄膜３及び第１の薄膜２をエッチングして、レジストパターンの存在しない領域の層間絶縁膜１を露出させる工程と、膜厚差を有するレジストパターン５をアッシングして、レジストパターンの薄膜部５ｂを除去する工程と、薄膜部５ｂが除去されたレジストパターン５ｃを介して、第２の薄膜３をエッチングする工程と、を順次実施する。 （もっと読む）

【課題】封止シートと平板表示装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】第１シートにゲッターを形成する段階と、第２シートにゲッターの形状に対応する空き空間を残してシーラントを形成する段階と、ゲッターが空き空間に入るように第１シートと第２シートとを貼り合わせて封止シートを作る段階と、封止シートをディスプレイ部が形成された基板上に付着する段階と、を含む平板表示装置の製造方法。このような方式で平板表示装置を製造すれば、貼り合わせられたシーラントとゲッターとを同時に基板に設けるため、従来のように真空状態でゲッターを設けるなどの複雑な過程を経ずに済むことができて、製造工程が簡素化される。 （もっと読む）

【課題】任意のアドレス行で切断することで、任意のサイズの表示装置を簡便に実現する。
【解決手段】少なくとも第２の配線５を駆動する第２の駆動回路７と画素ＰＸ（１，１），ＰＸ（１，２），…、ＰＸ（ｎ，ｍ）とを同一の基板１上に有した表示装置であって、第２の駆動回路７は検出線７３と判定回路７２と出力回路７４とを有した複数の単位回路７０から成り、出力回路７４は判定回路７２からの信号に従って出力信号を変えることを特徴とする表示装置。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等の可撓性を有する基板を用いて、柔軟性を有する半導体装置を作製す
るための技術を提供する。
【解決手段】分離層を有する固定基板上に樹脂基板を形成する工程と、前記樹脂基板上に
少なくともＴＦＴ素子を形成する工程と、前記分離層にレーザー光を照射することにより
、前記分離層の層内または界面において前記固定基板から前記樹脂基板を剥離する工程と
を行い、前記樹脂基板を用いた柔軟性を有する表示装置を作製する。 （もっと読む）

【課題】粒子充填部材の構成する弾性シート部材として厚さが２ｍｍ以下の弾性シート部材を用いた場合であっても、弾性シート部材とマスク表面との平行度調整を精確に行うことができ、粒子充填不良による不良パネルの発生のない情報表示用パネル製造時の粒子配置方法を提供する。
【解決手段】情報表示用パネル製造時の粒子配置方法であって、粒子群配置ステップを実行するに先立ち、粒子充填手段２３に固定された弾性シート部材２１とマスク表面との平行度調整を行うに際し、弾性シート部材の長さ方向の少なくとも２箇所について、弾性シート部材下端部の位置をレーザー装置３４、３５で求め、得られた位置情報に基づき、前記弾性シート部材下端部と前記マスク表面との平行度を調整する。 （もっと読む）

【課題】製造工程が単純化され、かつ開口率が向上した有機発光ディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板；基板上に形成される補助電極；補助電極上に形成され、活性層、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を備えるＴＦＴ；ＴＦＴと電気的に連結され、ソース電極及びドレイン電極の少なくとも一部と同一層に同一物質で形成された画素電極、発光層を含む中間層、及び画素電極と対向するように配置された対向電極が順次積層された有機発光素子；ソース電極及びドレイン電極と同一層に同一物質で一定ほど離隔して形成されて、補助電極と前記対向電極とを電気的に連結するコンタクト電極；を備える有機発光ディスプレイ装置。 （もっと読む）

【課題】切断した際に発生する基板の変形を抑制し、張り合わせ時のパターンズレを防止するディスプレイ用ガラス基板を提供する。
【解決手段】短辺が３００ｍｍ以上、長辺が３０００ｍｍ以下の略矩形の面形状であり、かつ板厚が０．３ｍｍ以上、６ｍｍ以下のガラス基板であって、ガラス基板内の残留歪による、板厚方向で測定したときの基板面内の偏差応力が、基板内のすべての位置で０．３ＭＰａ以下であり、光弾性定数が２０〜４０（ｎｍ／ｃｍ）／（ＭＰａ）であり、１枚の基板中に複数面のパターンが形成され、半分に切断された後の最大変形が、応力方向が周囲圧縮である場合には２．６μｍ以下、応力方向が周囲引張である場合には１．９μｍ以下である高精細の用途のディスプレイ用ガラス基板である。 （もっと読む）

【課題】誘電体層に高誘電率絶縁膜を用い、高誘電率絶縁膜等のエッチングにドライエッチングを採用した場合でも、静電破壊の発生を防止することができる電気光学装置の製造方法、および当該方法により製造した電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００を製造するにあたって、高誘電率絶縁膜形成工程および高誘電率絶縁膜パターニング工程によって誘電体層４２ａを所定領域に形成した後、第２電極形成用導電膜形成工程および第２電極形成用導電膜パターニング工程によって容量線５ｂ（第２電極）を形成する。このため、高誘電率絶縁膜４２は、広い領域にわたって形成された状態でドライエッチング時のプラズマを受けるのは、高誘電率絶縁膜パターニング工程の間だけであり、第２電極形成用導電膜パターニング工程を行う時点では、すでにパターニングされている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、容易にフレーム基板からプラズマチューブアレイを剥離することができ、フレーム基板に加わった衝撃を緩衝することが可能なプラズマチューブアレイ型表示装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、内部に放電ガスが封入された複数のプラズマチューブ２１を並列に配置してあり、アドレス電極が形成してあるアドレス電極シート２２と、表示電極が形成してある表示電極シート２３との間に複数のプラズマチューブ２１を挟持するプラズマチューブアレイ２と、プラズマチューブアレイ２の背面側を支持し、表示画面形状を規定するフレーム基板３と、柔軟性を有し、プラズマチューブアレイ２の背面側とフレーム基板３とを張り合わせる仲介シート４とを備えるプラズマチューブアレイ型表示装置１である。仲介シート４は、プラズマチューブアレイ２の背面側に張り付ける面に、複数の凸部４１を有する。 （もっと読む）

【課題】端縁に傾斜端面が形成されている電気光学装置用基板を用いた場合でも、電気光学装置用基板の所定領域にフォトリソグラフィ技術により感光性樹脂層を確実に形成することのできる電気光学装置の製造方法、および電気光学装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置において、透光膜８、反射防止膜９０および感光性樹脂層８０をこの順に形成した後、電気光学装置用基板１０ｓの一方面１０ｇの第１傾斜端面１０ｉを含む樹脂層除去予定領域に露光を行い、その後、現像して、透光膜８に対するレジストマスクを形成する。露光の際、露光光は、第１傾斜端面１０ｉを通って電気光学装置用基板１０ｓの内部に進入した後、第２傾斜端面１０ｊで反射して感光性樹脂層８０のうち、露光すべきでない部分に向かって進行しようとするが、かかる露光光については反射防止膜９０により吸収される。 （もっと読む）

【課題】金属層と金属酸化物層からなる画素電極とが接する構造を採用した場合でも、金属層と画素電極との接続抵抗の低減、および画素電極のシート抵抗の低減の双方を図ることができる電気光学装置、電気光学装置の製造方法、および投射型表示装置を提供すること。
【解決手段】液晶装置１００においては、画素電極９ａに用いた第１金属酸化物層９１および第２金属酸化物層９２のうち、下層側の第１金属酸化物層９１は酸素含有量が少ないＩＴＯ膜からなるため、ドレイン電極６ｂとの接続抵抗が低い。第２金属酸化物層９２は酸素含有量が多いＩＴＯ膜からなるため、シート抵抗が低い。かかる画素電極９ａは、ＩＴＯ膜を成膜する際、第１スパッタ工程ＳＴ１と第２スパッタ工程ＳＴ２との間でターゲットを変えず、第２スパッタ工程ＳＴ２での酸素ガス流量比を大に設定する。 （もっと読む）