第１の層（１０）及び第２の層（１１）を有し、第１の層が可撓性基板であり、第２の層が基板に被着された脆いＩＴＯ導通ラインであるような装置、例えばフレキシブルＡＭＬＣＤが開示される。ＩＴＯ層は、波形構造を有し、可撓性基板を変形させたときのＩＴＯ層の破断を阻止するようＩＴＯ層の長さのかなりの部分に沿って基板と接触状態にある。ＩＴＯ層を幾つかの部分（１６，１７）に分割するのがよく、これら部分の長さは、可撓性基板を所定の曲率半径まで変形させたときの破断を阻止するよう選択されている。
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銀系材料を導電層に用い、それを導電保護層により被覆して保護した配線付き基体形成用積層体であって、導電保護層とそれに積層される陰極との間の接触抵抗が極めて低い配線付き基体形成用積層体の提供。 基体と、前記基体上に形成された銀または銀合金を含む導体層と、前記導体層上に該導体層を被覆するように形成された、インジウム亜鉛酸化物を含む導電保護層とを有する、配線付き基体形成用積層体であって、前記導電保護層が、スパッタガス中の酸化性ガスの含有量が１．５体積％以下の雰囲気でのスパッタリングにより形成された導電保護層である、配線付き基体形成用積層体。 （もっと読む）

本発明は、薄膜トランジスタ表示板とこれを含む液晶表示装置及びその製造方法に関し、薄膜トランジスタ表示板は液晶表示装置や有機ＥＬ（ｅｌｅｃｔｒｏ ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置などで、各画素を独立的に駆動するための回路基板において、画素電極またはゲート線及びデータ線の拡張部を外部回路と接続させるコンタクト補助部材を、ＩＺＯ及びＩＴＯの２重層で形成することに対する発明であって、ＩＺＯで形成された下部層とＩＴＯで形成された上部層を有するように形成する。前記のように画素電極またはコンタクト補助部材を二重層で形成することによって、エッチング過程で下部配線が損傷されることを防止し、グロステストの際に探針とコンタクト補助部材とのコンタクト抵抗の均一性を良好に確保することができる。また、コンタクト補助部材のみをＩＺＯとＩＴＯ二重層で形成することによって、グロステストの際に探針とコンタクト補助部材とのコンタクト抵抗の均一性を確保することができ、ＩＴＯの使用を減らすことによって製造単価を下げることができる。
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本発明は、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイデバイスを製造するための方法であって、該方法は次のステップを有している：
導光性の基板を設け、
該導光性の基板に少なくとも１つの透明な電極を配置し、該透明な電極は導光性の導電膜から成っており、
サブアッセンブリに少なくとも１つ有機層を形成し、該少なくとも１つ有機層は有機エレクトロルミネッセンス媒体から成っていて、該少なくとも１つ有機層は前記電極を被覆しており、
前記少なくとも１つ有機層の全面に導電膜を形成し、かつ
該導電膜の少なくとも一部分を照射法を使用して除去して、相互に電気的に絶縁されておりかつ透明な電極に対して垂直である方向に延在しているストライプライクな電極が生成されるようにする
方法を開示している。
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本発明の電子装置（１）はキャリア（１０）を有し、キャリア（１０）の表面に複数の離散電気光学素子（１１０、１３０、１５０）を設ける。キャリア（１０）の表面で電極構造（１２）のそれぞれの部分を覆う電気光学素子（１１０、１３０、１５０）はそれぞれポリマー層（１１４、１３４、１５４）を有し、ポリマー層（１１４、１３４、１５４）はポリマー層（１１４、１３４、１５４）とキャリア（１０）の表面との間に電気光学材料（１０２、１２２、１４２）を封入する。電気光学材料とポリマー前駆体とを含む液体の離散液滴を個別に堆積させ、その後に液滴を刺激に晒してポリマー前駆体の重合を引き起こすことにより、離散電気光学素子（１１０、１３０、１５０）を形成する。
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【課題】 エポキシ系樹脂基材に無機保護膜が積層されてなるにも関わらず、無機保護膜が剥離し難いものとなりうる樹脂シートを提供する。
【解決手段】 本発明の樹脂シートは、エポキシ系樹脂基材と、該エポキシ系樹脂基材に密着した状態で積層された、炭素原子を含む材料をプラズマ重合させてなるプラズマ重合膜と、該プラズマ重合膜に、密着した状態で積層された無機保護膜とを備えてなることを特徴とする。 （もっと読む）

基板（１０）上に固相アレイを形成するように、化学物質を空間選択的に堆積することによってマイクロメートル規模及びナノメートル規模で製作又は製造する方法であって、静電気的潜像の形成のように、基板上の少なくとも一つの領域に基板の他の領域の電荷とは異なる静電荷を形成することによって、少なくとも一つの領域（１５）を定義する工程と、基板にエマルジョンを塗布する工程とを含む方法。エマルジョン（１６）は、帯電した不連続相及び該不連続相の中に担持された、又は該不連続相を含んでなる選択的に堆積されるべき成分を有している。このエマルジョンの不連続層は、当該領域上の静電荷により引寄せられることによって予め選択された領域に引寄せられ、反応を伴って又は伴わずに堆積が得られる。光導電体の使用によって、静電画像を形成することができる。形成されるアレイは、フラットスクリーンディスプレーパネルのためのものであってよく、ＤＮＡチップ、印刷回路、半導体チップ、ナノテクノロジー、ミクロ電気機械的システム、可撓性印刷回路等を製造するためのものであってよい。 （もっと読む）

【課題】 駆動用ＴＦＴの活性層の大きさを変更せずに、同じ駆動電圧を加えた状態でもホワイトバランスを合わせられるフラットパネルディスプレイを提供する。また、各副画素に最適の電流を供給することによって適正な輝度を実現し、寿命が長いフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】 自発光素子を具備する複数の副画素を含む画素と、前記副画素の各々に備えられた、少なくともチャンネル領域を有する半導体活性層を具備し、前記自発光素子に電流を供給するために前記自発光素子に接続されてなる、駆動用薄膜トランジスタ（２０ｒ、２０ｇ、２０ｂ）とを含むフラットパネルディスプレイであって、前記半導体活性層のチャンネル領域が、少なくとも２つの前記副画素に関して相異なる方向に配置されてなることを特徴とするフラットパネルディスプレイである。 （もっと読む）

【課題】各種電子デバイスの小型化（特に、小面積化）に貢献し得る接続線の形成方法、電子デバイス用基板、および、この電子デバイス用基板を備える電子デバイス、電子機器を提供すること。
【解決手段】接続線の形成方法は、基板７の少なくとも一方の面に、形成される接続線８１に接続される配線パターン７１を形成する工程と、基板７の縁部７２に、基板７の両面７２１、７２２および端面７２３に亘って、導電層８を形成する工程（第１の工程）と、導電層８の一部を除去して、互いに導通しない複数の接続線８１に分割する工程（第２の工程）とを有している。また、導電層８を形成する工程（第１の工程）において、導電層８の少なくとも一部は、基板７を切り出す前の原板に形成されるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 配向不良に起因するコントラスト低下を抑制する。
【解決手段】 単純マトリクス型の液晶表示素子１において、第１配向膜７のラビング方向ＤＲ１は、第１配向膜７下にある第１電極５の長さ方向ＤＸと４５度以下の角度を成す。格子状の遮光膜６の縦横の組子部分のうちの第１電極間間隙２５を覆う第１組子部分２３は、第１配向膜７のラビング方向ＤＲ１とは逆方向側に大きくなっており、第１電極間間隙２５の該逆方向側にある第１電極５の側縁部を覆う。遮光膜９の第１組子部分２３の幅ＷＹが、第１電極間間隙２５の幅ＷＺ以上であり、かつ、第１組子部分２３の前記逆方向側にある端から第１電極間間隙２５の該逆方向側にある端までの距離ＷＹ２が、第１電極間間隙幅ＷＺ以上である。これによって、転写に起因する配向不良に基く光漏れが防止される。 （もっと読む）

【課題】 Ａｌ層上にＣｕ層を接続性よく形成することができる、多層配線構造又は電極取り出し構造、電気回路装置、及びこれらの製造方法を提供することにある。
【解決手段】 アルミニウムの電極パッド５６、５７及び電極層７７上に絶縁層７９を形成する工程と、電極パッド５６、５７及び電極層７７上において絶縁層７９にビアホール７０’を形成する工程と、ビアホール７０’内に無電解Ｎｉメッキ層８１を形成する工程と、無電解Ｎｉメッキ層８１上にＣｕ配線８６を形成する工程とを有する、多層配線構造又は電極取り出し構造の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 電気特性の優れた多結晶ＴＦＴを提供する。
【解決手段】多結晶膜３を堆積させる工程、堆積した多結晶膜のうち所望の位置４のみを残すようにエッチングする工程、残された部分的な多結晶膜の中で所望の結晶方位の結晶粒５だけを、しかも所望の結晶面（ファセット）６を出した状態になるように異方性エッチングする工程、さらに、こうして得られた結晶核の上に膜を堆積し結晶化させる工程を用いる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は薄膜トランジスタアレイ及びその製造方法と液晶表示装置及びその製造方法とエレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法に関するものであり、均一性と性能に優れた薄膜トランジスタ及びその製造方法を生産性が高く低コストで提供することを目的とする。
【解決手段】 ゲート電極側面に側壁を形成することによって、自己整合的にＬＤＤまたはオフセット領域を形成し、また、層間絶縁膜を複数の層で形成し、これら複数の層間絶縁膜上にソース・ドレイン電極とソースバス配線と画素電極を一括して形成する。 （もっと読む）

【課題】 均一な電場、プラズマを発生させ、イオンが背部基板に突き当たるのを防止し、ディスプレイの寿命が向上する交流放電型プラズマ平面ディスプレイの前基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 露光、現像技術および砂噴出技術を使用して、ガラス基板３２の内面に、複数の誘電層薄壁３２１が垂直方向に延伸するように形成し、その複数の誘電層薄壁３２１を水平方向に間隔をおいて配列する。また、印刷法式を利用して、Ｘ電極およびＹ電極の設定位置に対応した隣り合う二つの誘電層薄壁３２１の間に、電極を積み重ねるようにして印刷する。さらに、その上に、保護層３５を印刷すると、前基板３１が形成される。隣り合うＸ電極およびＹ電極の間に形成された放電面は互いに平行をなすので、その放電面の放電パスはほぼ直線状になる。 （もっと読む）

【課題】 ＩＰＳ方式の液晶表示装置において、ＴＦＴを作製する工程数を削減して製造コストの低減および歩留まりの向上を実現する。
【解決手段】 本発明では、チャネル・エッチ型のボトムゲートＴＦＴ構造を採用し、ソース領域１１９及びドレイン領域１２０のパターニングとソース配線１２１及び画素電極１２２のパターニングを同じフォトマスクで行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 優れた特性を有する多結晶シリコン膜を備えた半導体装置を高い歩留まりで製造することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 石英ガラスや無アルカリガラスなどの基板１上に、非晶質シリコン膜２ａを形成する。その非晶質シリコン膜２ａ上にＷシリサイド膜（導電膜）４ｂを形成する。そして、Ｗシリサイド膜（導電膜）４ｂに対し、高周波やＹＡＧレーザービームなどの電磁波を照射することにより、Ｗシリサイド膜（導電膜）４ｂを発熱させ、この熱を利用して、非晶質シリコン膜２ａを多結晶シリコン膜２に変える。 （もっと読む）

【課題】有機薄膜ＥＬ素子の簡便かつ容易な製造方法を提供すること。
【解決手段】正孔注入層（１２０）と発光層（１０６、１０７）を、陽極（１０１）および陰極（１１３）で狭持した構造の有機ＥＬ素子の製造方法であって、基板上の所定の領域に有機化合物からなる正孔注入材料を含むインク組成物をインクジェット方式により塗布し正孔注入層（１２０）を形成する工程と、有機化合物からなる発光材料を含むインク組成物をインクジェット方式により塗布し発光層（１０６、１０７）を形成する工程とを具備することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ＩＣ等の半導体装置や、表示装置に用いられるＴＦＴ基板で使用される、Ａｌを含む積層配線の信頼性を高める。
【解決手段】 上層の金属層２２を下層のＡｌ又はＡｌを含む合金材料層２１の露出した側壁を少なくとも部分的に隠蔽するよう下方に湾曲させる。この積層配線は、エッチングによりこれを作製する際に、上層の金属層２２よりも下層のＡｌ又はＡｌを含む合金の材料層２１の方のエッチング速度を大きくして、Ａｌ又はＡｌを含む合金の材料層２１のサイドエッチングを多くし、上層の金属層２２を下層のアルミニウム又はアルミニウムを含む合金材料層２１の露出した側壁を少なくとも部分的に隠蔽するよう下方に湾曲させることで作製できる。 （もっと読む）

【課題】 電気光学装置において、比較的簡単な構成を用いて、画素部のＴＦＴのチャネル領域やチャネル隣接領域における入射光や戻り光に対する遮光性能を高める。
【解決手段】 電気光学装置は、一対の基板間に挟持された電気光学物質層（５０）と、ＴＦＴアレイ基板（１０）にマトリクス状に設けられた画素電極（９ａ）とを備える。ＴＦＴ（３０）の下側には、第１遮光膜（１１ａ）が設けられている。データ線（６ａ）は、遮光性の材料からなり、ＴＦＴのチャネル領域（１ａ’）及びチャネル隣接領域（１ａ”）を対向基板（２０）の側から見て夫々覆う主配線部と、この主配線部の縁から層間絶縁膜に形成された溝に向けて伸びておりチャネル隣接領域を側方から囲む側方遮光部（６ｂ）とを有する。 （もっと読む）