【課題】フレキシブル基板を用いる表示パネルの製造過程において、表示パネルに不良が生じることを防止することができる表示パネルを提供する。
【解決手段】本発明はフレキシブル基板を含む表示パネルに関する。本発明の一実施形態に係る表示パネルは、フレキシブルで、第１角部を有する第１基板と、第１基板上に位置する複数の表示素子とを含み、第１基板は、互いに異なる方向に延びて第１角部で接触する第１主辺及び第２主辺を有し、第１基板の第１角部は、ｎ個（ｎ＝２以上の自然数）の頂点を有する第１多角形辺を含む。 （もっと読む）

【課題】画素部と同じ絶縁基板上において、大きな電流供給能力が得られるトランジスタで構成される電源線駆動回路を備えたＥＬ表示装置を提供する。
【解決手段】絶縁基板上に複数の画素と複数の信号線、複数の走査線、及び複数の電源線を有するアクティブマトリクス型表示装置において、前記絶縁基板上に電界効果移動度が少なくとも８０ｃｍ^２／Ｖｓ以上、好ましくは１２０ｃｍ^２／Ｖｓ以上を有する酸化物半導体のトランジスタを有し、トランジスタを１つの構成要素とする電源線駆動回路を有するＥＬ表示装置である。 （もっと読む）

【目的】ガスバリア性に優れ、ガスバリア層の密着性が良く、クラックやピンホール、反りが無いガスバリア性積層ポリイミドフィルムを提供すること。
【解決手段】１００℃から２００℃での熱線膨張係数が０〜２３ｐｐｍ／℃であるポリイミドフィルム（１）の一方の表面上に、ガスバリア層（２）を積層してなるガスバリア性積層ポリイミドフィルムにおいて、前記ガスバリア層（２）はガラスペーストを塗布、焼成することで得られることを特徴とするガスバリア性積層ポリイミドフィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】信号線駆動回路が有するスイッチ回路を画素部と同じ基板上に配置する構成において、スイッチ回路を構成するトランジスタサイズを縮小し、データを供給することによる信号線の充放電を行う際の回路内の負荷を削減する
【解決手段】映像信号が入力される画素部と、映像信号の画素部への出力を制御するためのスイッチ回路部を有する信号線駆動回路を有し、スイッチ回路部は、絶縁基板上において、電界効果移動度が少なくとも８０ｃｍ^２／Ｖｓ以上であるトランジスタを有し、トランジスタは、酸化物半導体層を有する。 （もっと読む）

【課題】外力が発生しても高い気密性を保持できる、信頼性の高い気密容器を製造する。
【解決手段】粘度が負の温度係数を有し、第１および第２のガラス基材１，２よりも軟化点が低い接合材４を、第２のガラス基材２の上に枠状に形成し、第１のガラス基材１を、接合材４と接触させるように、接合材４が形成された第２のガラス基材２に対向配置する。接合材４が延びる方向から見たとき、局所加熱光９の照射は、接合材４と、第２のガラス基材２の側端部６とが照射範囲に含まれるように行われるとともに、接合材４の両端部からそれぞれ、第２のガラス基材２の側端部６までの距離をＡ、第２のガラス基材２の側端部６と反対側の、照射範囲の境界までの距離をＢとすると、Ｂ≧Ａの関係を満たすように行われる。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で、抵抗値が低く、電流の均一性に優れ、かつ長期保存での導電性の劣化がなく、安定性の高い透明導電性基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板２上に、金属を含有する細線電極３と導電性ポリマー含有層４とが形成され、該細線電極３が金属粒子及び溶剤を含有する導電性インクにより形成され、該導電性インクを基板２上に付与した後、該導電性インクの焼成温度Ｔ_０（℃）より低く、かつ該導電性インク成分の揮発温度Ｓ_Ｔ（℃）よりも高い温度Ｔ_１（℃）でＳ_１（分）加熱された後に、焼成温度Ｔ_０（℃）でＳ_２（分）加熱され、かつ該焼成温度Ｔ_０（℃）と該溶剤の揮発温度よりも高い温度Ｔ_１（℃）との差が、２００℃＞Ｔ_０−Ｔ_１＞５０℃の関係を満たす透明導電性基板１を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性、柔軟性、耐熱性および透明性に優れ、かつ、寸法安定性、操作性および二次加工性に優れた表示素子用基板を提供すること。
【解決手段】本発明の表示素子用基板は、該無機ガラスの両側に配置された樹脂層とを備え、総厚が１５０μｍ以下であり、湾曲させた際の破断直径が３０ｍｍ以下である、表示素子用基板であって、該樹脂層の合計厚みｄ_ｒｓｕｍと該無機ガラスの厚みｄ_ｇとの比ｄ_ｒｓｕｍ／ｄ_ｇが、０．５〜２．１であり、該無機ガラスの厚みｄ_ｇが２５μｍ〜５０μｍである。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ装置に係り、カラーシフトの改善やモアレ発生による画質の劣化を防止する。
【解決手段】ディスプレイパネルの前面に配置されるバックグラウンド層、及びバックグラウンド層に形成され、互いに離間して形成される複数の凹状または凸状パターンからなり入射する光の出射方向を分散させるレンズ部を含み、複数のパターン間の間隔τとピッチＴは、フーリエ級数から誘導された下記の数式によって導出される下記のｍ値によって決められることを特徴とするディスプレイ装置用光学フィルムを具備する。
（もっと読む）

【課題】印刷により、ストライプ状の従来より幅の広いライン電極を形状精度及び寸法精度良く形成することができるオフセット印刷による電極形成方法を提供する。
【解決手段】版に導電性インクを充填後、ドクターナイフによって余剰な導電性インクを掻き取るドクタリング工程を含むオフセット印刷により、印刷用基材上にストライプ状のライン電極を形成する電極形成方法において、オフセット印刷に用いる版として、形成するライン電極に対応し、版の導電性インクを充填する凹形状のパターン内に、各々が凹形状の複数の彫刻部１１を有し、形成するライン電極の面積に対する彫刻部の合計面積の比率ＴＳ（％）が、７０％≦ＴＳ＜１００％で、かつ、個々の彫刻部の面積Ｓ（μｍ^２）が、０＜Ｓ≦８００００μｍ^２を満足する版、を用いる。 （もっと読む）

【課題】表示装置の作製工程で紫外線の照射を行っても、酸化物半導体層を用いた薄膜ト
ランジスタのしきい値電圧のシフトを低減させることができる、表示装置の作製方法を提
供することを課題の一つとする。
【解決手段】少なくとも一回以上の紫外線の照射を行い、且つ酸化物半導体層を有する薄
膜トランジスタをスイッチング素子として用いる、表示装置の作製方法において、全ての
紫外線照射工程を終えた後で、紫外線照射による該酸化物半導体層のダメージを回復させ
る熱処理を行う表示装置の作製方法である。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスを実現する半導体装置の作製方法、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】結晶構造を有する半導体層の一部にｐ型を付与する不純物元素及び水素を同時に添加することによって、一部の上層部分を非晶質化するとともに、一部の下層部分に結晶質を残存させ、加熱処理を行うことによって、一部の中の水素を拡散させる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表示画面が明るく、かつ、信号量の増加を抑えた直視型表示装置を提供する。
【解決手段】直視型表示装置１は、補色関係にあるサブピクセルの対で輝度を表現する各画素が構成され、複数の画素が集合した色表現単位で１色を表現する表示素子２０を備えるものであって、入力された映像信号における複数の画素の画素値を色表現単位の各サブピクセルの信号レベルに変換する変換式によって、映像信号を直視型表示装置用映像信号に変換する映像信号変換手段１０を備え、表示素子２０が、映像信号変換手段１０によって変換された直視型表示装置用映像信号が示す映像を表示する。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな製造装置を必要とすることなく、簡素、簡易な方法にて薄膜素子能動部を製造することができる薄膜素子の製造方法を提供する。
【解決手段】薄膜素子の製造方法は、支持基板２０上に樹脂材料から成る第１基材２１を塗布法にて形成した後、第１基材２１上に、熱によって又はエネルギー線の照射によって硬化する樹脂から成る第２基材２２を形成し、次いで、第２基材上に薄膜素子能動部３０を形成し、その後、支持基板２０を第１基材２１から剥離する各工程を備えており、第１基材２１を構成する樹脂材料のガラス転移温度は１８０゜Ｃ以上である。 （もっと読む）

【課題】電子ペーパー、太陽電池、有機ＥＬなどの電子材料の基板として用いた際に、優れた透明性および水蒸気バリア性を発揮し、長期使用時のデバイスの経時的信頼性を高めることができる積層体を提供する。
【解決手段】積層体１０は、第１の透明プラスチックフィルム１の片面に、無機物からなる無機薄膜層３を積層した積層フィルムの無機薄膜層３側の面に、第２の透明プラスチックフィルム５を粘着剤層４を介して積層した積層体１０であって、前記第１の透明プラスチックフィルム１の屈折率ｎ_１、前記粘着剤層４の屈折率ｎ_２および前記無機薄膜層３の屈折率ｎ_３が下記（ｉ）および（ｉｉ）の関係を満たすことを特徴とする。｜ｎ_３−ｎ_１｜≦０．２（ｉ）｜ｎ_３−ｎ_２｜≦０．２（ｉｉ） （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供することを目的の一とする。
【解決手段】酸化物半導体層を含むトランジスタの作製工程において、ゲート電極を形成後、インライン装置にて、酸化アルミニウム膜と酸化シリコン膜と酸化物半導体膜を大気暴露することなく連続的に形成し、さらに同インライン装置にて加熱および酸素添加処理を行い、他の酸化アルミニウム膜でトランジスタを覆った後、熱処理を行うことで、水素原子を含む不純物が除去され、且つ、化学量論比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体膜を形成する。該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ）試験前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減されており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 （もっと読む）

【課題】光取り出し効率の向上と低透湿性の両立を可能とする発光装置、これを備えた電子機器を提供すること。
【解決手段】素子基板２３Ａ上に形成された有機発光層１２を含む複数の画素と、複数の画素を覆う封止膜１７と、封止膜１７を介して画素を覆うマイクロレンズ１８と、複数のマイクロレンズ１８を覆う平坦化層２０と、平坦化層２０上において画素ごとに形成されたカラーフィルター層２２とを少なくとも備え、マイクロレンズ１８の屈折率が、平坦化層２０の屈折率よりも大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、バリア性および狭額縁を同時に実現することが可能であり、さらには放熱性にも優れる電子素子用積層基板を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、電子素子に用いられる電子素子用積層基板であって、絶縁層貫通孔を有する絶縁層と、上記絶縁層貫通孔に充填された第１導通部と、上記絶縁層上にパターン状に形成され、上記第１導通部上に開口部を有する金属層と、上記電子素子用積層基板の厚み方向に形成され、上記電子素子用積層基板の表裏を導通し、少なくとも上記第１導通部を有する導通部とを有し、上記導通部が上記金属層と導通していないことを特徴とする電子素子用積層基板を提供することにより、上記目的を達成する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、高信頼性化する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、少なくとも酸化物半導体膜中に希ガスイオンを注入する注入工程を行い、減圧下、窒素雰囲気下、又は希ガス雰囲気下において、希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜に加熱工程を行って希ガスイオンを注入した酸化物半導体膜中に含まれる水素若しくは水を放出させ、酸化物半導体膜を高純度化する。 （もっと読む）

【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置に安定した電気的特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。
【解決手段】酸化物半導体膜を含むトランジスタの作製工程において、酸化物半導体膜に酸素ドープ処理を行い、その後、酸化物半導体膜及び酸化物半導体膜上に設けられた酸化アルミニウム膜に対して熱処理を行うことで、化学量論的組成比を超える酸素を含む領域を有する酸化物半導体膜を形成する。該酸化物半導体膜を用いたトランジスタは、バイアス−熱ストレス試験（ＢＴ試験）前後においてもトランジスタのしきい値電圧の変化量が低減されており、信頼性の高いトランジスタとすることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の実施例は非晶質酸化物薄膜トランジスタ及びその製造方法、ディスプレイパネルを開示する。
【解決手段】前記非晶質酸化物薄膜トランジスタは、ゲート電極、ゲート絶縁層、半導体活性層、ソース電極及びドレイン電極を含む。前記半導体活性層はチャネル層とオーミック接触層を含み、前記チャネル層は前記オーミック接触層に比べ酸素含有量が高い。また、前記チャネル層は前記ゲート絶縁層と接し、前記オーミック接触層は二つの独立したオーミック接触領域に分けられ、かつ前記二つの独立したオーミック接触領域はそれぞれ前記ソース電極、ドレイン電極と接する。 （もっと読む）