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Fターム[5C127DD68]の内容

冷陰極の製造 (9,839) | 特徴のある製造対象の製造方法 (3,577) | 被膜やパターンの後処理 (1,015) | 光(レーザー)、マイクロ波の照射 (71)

Fターム[5C127DD68]に分類される特許

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【課題】エミッション開始電界が低く、しかも十分なエミッション電流を得ることができる冷陰極電子源を提供する。
【解決手段】カソード電極およびその上に形成された電子放出部を有する冷陰極電子源において、電子放出部に活性化処理された金属酸化物を用い、当該活性化処理が金属酸化物の中に新たにエミッションに寄与する部位を形成し、且つエミッションに寄与しない部位又は悪影響を及ぼす部位を取り除く処理であることを特徴とする冷陰極電子源である。 (もっと読む)


【課題】駆動電圧が低く、かつ電子放出特性を均一化できる電子放出素子を得ること。
【解決手段】真空中でスペーサーを介して配置されたカソード基板とアノード基板、前記カソード基板に形成された電子放出源とを備える電子放出素子において、UVオゾン法による電子放出源の表面処理工程を備える電子放出素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、電界放出装置及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明の電界放出装置は、絶縁基板と、電子引き出し電極と、二次電子放出層と、陰極板と、電界放出ユニットと、を含む。前記電子引き出し電極及び二次電子放出層は、前記絶縁基板の一つの表面に順次的に配置される。前記陰極板は、一つの第一絶縁隔離層によって前記電子引き出し電極と間隔をおいて絶縁的に配置される。前記陰極板の少なくとも一部が前記二次電子放出層と対向する。前記陰極板は、少なくとも一つの電子放出部を含む。前記電界放出ユニットは、前記陰極板の前記二次電子放出層と対向する一部表面に配置される。 (もっと読む)


【課題】ガス吸着材料が電子放出素子内に均一に分布されて、均一な発光が得られる電子放出素子、該電子放出素子を光源とする照明装置、および該電子放出素子のカソード電極を製造する方法を提供する。
【解決手段】電子放出素子1のカソード電極2は、電子輸送層9の表面に、カーボンナノ構造体13と電子放出材料14を固定して構成されている。カーボンナノ構造体13は、電子放出素子1の動作中に発生するガスや電子放出素子1の製造時に除去出来なかったガスを吸着するガス吸着材料として機能する物質である。カーボンナノ構造体13は、大きさを制御して製造される。電子放出材料14は、その先端がカーボンナノ構造体13の上面から突出している。 (もっと読む)


【課題】本発明は、冷陰極の表面処理方法に関する。
【解決手段】本発明の冷陰極の表面処理方法は、複数の一次元のフィールド・エミッターを含む冷陰極を形成させる第一ステップと、液体の接着剤を前記冷陰極の表面に塗布する第二ステップと、前記冷陰極の表面に塗布された液体の接着剤を固化させる第三ステップと、前記固化された接着剤を、前記冷陰極の表面から除去して、前記複数の一次元のフィールド・エミッターを前記冷陰極の表面に直立させる第四ステップと、を含む。 (もっと読む)


【課題】 CNTのロスがなく、エミッション特性に優れた電子源電極を効率よく製造できる方法を提供する。
【解決手段】 上記課題は、カーボンナノチューブを分散媒に分散させた分散液をメンブレンフィルターで濾過し、メンブレンフィルター上に堆積したカーボンナノチューブを基板に転写し、真空環境下で電子ビームを照射してカーボンナノチューブを基板上に固着し、次いで、カーボンナノチューブを起毛させることを特徴とする電子源電極の製造方法によって解決される。 (もっと読む)


【課題】新規な電子放出装置を提供することを目的とする。
【解決手段】電子放出装置は、エミッタ3と、前記エミッタ3との間に電圧が印加される引き出し電極4と、前記エミッタ3の先端にレーザー光を照射するレーザー照射装置を有する。ここで、エミッタ3は、金、銀、銅、アルミニウムまたは白金からなることが好ましい。また、エミッタ3の先端直径は1〜400nmの範囲内にあることが好ましい。また、エミッタ3の先端と引き出し電極4の距離は10nm〜5mmの範囲内にあることが好ましい。また、印加される電圧は1mV〜1000Vの範囲内にあることが好ましい。また、パルスレーザーの強度尖頭値、または連続波レーザーの強度は1W/cm2〜10GW/cm2の範囲内にあることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】電子を放出するエミッションサイトの数を増やすことで発光効率を向上させたエミッタの製造方法、エミッタ、電界放出発光素子の製造方法、電界放出発光素子及び照明装置を提供する。
【解決手段】本発明のエミッタ製造方法は、金属物質をカーボンナノチューブに内包させる内包ステップと、基板に塗布されたカーボンナノチューブを大気雰囲気、窒素雰囲気及び一酸化炭素雰囲気の何れかで焼成し、カーボンナノチューブとカーボンナノチューブに内包される金属物質との接面を酸化反応させ、カーボンナノチューブを切断する切断ステップと、を有している。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、レーザ又はプラズマで処理されたカーボンナノチューブマットを備えるフィールドエミッションデバイスを提供することである。
【解決手段】本発明は、フィールドエミッションデバイスであって、前記デバイスはカソードとアノードを備える。カソードは、懸濁液から複数のナノチューブをろ過することによって形成されるフィルタケーキから得られるカーボンナノチューブマットを備える。マットは、上面及び反対側の下面を備えることができる。下面は、マットが形成される間にフィルタに隣接して配設されるフィルタケーキ表面に対応する。上面は、カソードのエミッション面として働くことができる。 (もっと読む)


【課題】電界放出型フラットパネルディスプレイ(FED)、電界放出型ランプ(FEL)等に用いられる、安定した電子放出特性が再現性良く得られる電子放出材料を提供する。
【解決手段】異方性の粒子形状をもつ酸化チタン等の金属酸化物を用いた電子放出材料であって、異方性金属酸化物の長軸径の頻度分布が、複数の極大値を持つものを用いる。具体的には、異方性金属酸化物の平均長軸径が異なる少なくとも二種の異方性金属酸化物を混合して用いる。 (もっと読む)


【課題】高輝度の電界放出型フラットパネルディスプレイ(FED)、電界放出型ランプ(FEL)等を製造するために、一定電圧の下で多くの電界放出電流が流れる冷陰極電子源を製造する方法を提供する。
【解決手段】導電性基板の上に酸化チタン等の金属酸化物からなる電子放出材料を有する冷陰極電子源を製造する方法において、電子放出材料に少なくとも紫外光を含む光を照射する。具体的には、導電性基板の上に形成した金属酸化物からなる電子放出材料を活性化処理する工程と電子放出材料に少なくとも紫外光を含む光を照射する工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】 安価で大面積の基板を用い、生産性を向上させることが可能な工程により、電
界放出表示装置の電界放出素子を形成する技術を提供する。
【解決手段】 本発明に係る電界放出素子は、絶縁性表面を有する基板上に形成されたカ
ソード電極と、前記カソード電極表面に形成された凸形状の電子放出部とを有し、前記カ
ソード電極と前記電子放出部とは、同一の結晶性半導体膜で形成されており、前記電子放
出部は、円錐形又はウィスカー状であることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、電界放出素子用のカソードアセンブリを製造するための方法に関する。
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本発明は、電界放出素子用のカソードアセンブリを製造するための方法に関する。
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【課題】本発明は、高寿命な電子放出素子を形成するための非酸素雰囲気下で熱分解性の良い感光性樹脂を用いた電子放出源用ペーストおよびそれを用いた電子放出素子を提供することを課題とする。
【解決手段】針状炭素、無機粉末および感光性樹脂を含む電子放出源用ペーストであって、感光性樹脂が、(メタ)アクリル酸エステルと重合性不飽和モノマーとの共重合体にエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を付加させた感光性樹脂であり、さらに、(1)感光性樹脂の酸価が25mgKOH/g未満であること、および(2)(メタ)アクリル酸エステルがイソブチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレート、2−エチルヘキシルメタクリレートおよびアクロレインからなる群より選ばれる少なくとも1種以上を含むことを特徴とする電子放出源用ペースト。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブを有する感光性樹脂組成物においても、フォトリソグラフィーによって高感度で微細なパターンが加工可能な電子放出源用ペーストおよびそれを用いた電子放出素子を提供する。
【解決手段】針状炭素、無機粉末および感光性有機成分を含む電子放出源用ペーストであって、感光性有機成分が感光性樹脂および特定のアシルオキシム化合物から選ばれる少なくとも1種以上の光重合開始剤を含み、前記感光性樹脂は1)エチレン性不飽和基を有し、2)重量平均分子量が110,000〜300,000である電子放出源用ペースト。 (もっと読む)


【課題】工程が少なく、製造コストを低減できるとともに、焼成工程における有機残渣の少ない電子放出素子の製造方法を提供する。
【解決手段】電子放出材料含有塗膜、絶縁材料含有塗膜または導電材料含有塗膜の少なくとも一種が形成された基材の塗膜面をカソード電極基板上に貼り合わせ、該基材の該貼り合わせ面と反対の面からレーザー照射し、基材からカソード電極基板上に転写することにより、パターニングされた電子放出源、絶縁層またはゲート電極の少なくとも一種を形成する工程を含むことを特徴とする電子放出素子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】工程中の制御パラメータを少なくして、製造手順を簡素化するとともに、容易にコーン・エミッタの分布を制御し得る。
【解決手段】BN薄膜の表面にコーン・エミッタを形成する方法であって、基板表面に形成した平坦な表面を持つアモルファスBN薄膜表面に紫外光を照射して、結晶化することを特徴とするコーン・エミッタの形成方法。 (もっと読む)


【課題】量子細線については高さを揃えて、量子ドットについては直径を一定に形成することができる多結晶シリコン層を用いたナノ構造体の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明の多結晶シリコン層を用いたナノ構造体の形成方法は、多結晶シリコン層の表面を平坦化する工程と、平坦化された多結晶シリコン層の活性化処理する工程と、多結晶シリコン層に、溶液を用いた陽極酸化をする工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】 電子放出源、それを適用した電子装置及び電子放出源の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と別途に製造されたカソードを備え、カソードには、接着層によって固定された針状電子放出物質、例えば、カーボンナノチューブ層が設けられる電子放出源である。カーボンナノチューブ層は、懸濁液フィルタリング法を利用して形成され、後続する電子放出物質層の表面処理によって電子放出密度が上昇する。 (もっと読む)


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