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Fターム[5D006EA03]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 記録担体の製造法、処理 (996) | 非塗布型(メッキ、渡金) (421) | 蒸着、スパッタ、イオンプレーティング (381)

Fターム[5D006EA03]に分類される特許

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【課題】従来よりいっそうの超高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に少なくとも、非晶質のセラミックスからなるシード層、結晶性の配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順に備える垂直磁気記録媒体である。この垂直磁気記録媒体は、基板上に少なくとも、上記シード層、上記配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順にスパッタ成膜し、前記磁性層を500℃以下の所定温度で成膜することによって好適に製造される。 (もっと読む)


【課題】 磁気記録層の磁性粒子の微細化と孤立化を促進するという本来の目的を達成しつつ、コロージョンも生じさせない下地層を備えた垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明にかかる垂直磁気記録媒体100の構成は、基体110上に少なくとも、信号を記録する磁気記録層122と、磁気記録層より下に設けられる下地層118と、下地層の結晶配向性を制御するための非磁性層116と、非磁性層より下に設けられる軟磁性層114とを備え、下地層118は下方から順に、ルテニウムを含む第1下地層118aおよび第2下地層118bと、金属を含む第3下地層118cとの3層で構成され、スパッタリングによる成膜時のガス圧は、上記の3層のうち第2下地層118bが最も高いことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】パターンドメディアの作製工程で記録層表面の凹凸が大きくなるためヘッドとメディア間のスペーシングが大きくなり、その結果として記録性能と耐食性が劣化する。
【解決手段】パターンドメディアにおいて、記録層を、1層あるいは複数層の結晶質磁性膜102と、結晶質磁性膜102の最表面上に位置する非晶質構造の磁性膜105で構成し、非晶質構造の磁性膜105の構成元素とその直下に位置する結晶質磁性膜102の構成元素を同じにする。また、その製造方法において、結晶質磁性膜102の表面を非晶質化して非結晶質構造の磁性膜105を形成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、イオン照射方式により製造した磁気記録媒体において、サーボ信号の出力を向上させることを課題とする。
【解決手段】基板の少なくとも一方の表面上に、磁気情報の記録再生を行うための磁気記録領域と、前記磁気記録領域を磁気的に分離するための非記録領域とが、基板の面内方向において規則的に配置された磁気記録層を有する磁気記録媒体であって、前記非記録領域は、透磁率が2H/m以上、100H/m以下であり、さらに前記非記録領域の表面は、前記磁気記録領域の表面に対して凹部を形成し、かつ、前記凹部の深さは0.5nm以上2.0nm以下であることを特徴とする磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ摺動耐久性を向上させることで、信頼性の向上および更なる高記録密度化の達成を図る。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気記録媒体の製造方法の構成は、基板上に少なくとも、CoCrPt合金を主成分とする磁性粒子と酸化物を主成分とする非磁性の粒界部とからなる主記録層を成膜する主記録層成膜工程と、主記録層上にRu合金またはCo合金を主成分とする分断層を成膜する分断層成膜工程と、分断層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第1加熱工程と、第1加熱工程の後にCoCrPtを主成分とする材料からなる補助記録層を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層成膜工程の後に基板に加熱処理を施す第2加熱工程と、第2加熱工程の後にCVD法によりカーボンを主成分とする保護層を成膜する保護層成膜工程とを含む。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高記録密度ハードディスク(HDD)等に用いられる磁気記録媒体をイオン注入法において製造する方法において、注入イオンのにじみ現象(垂直注入時に水平方向へ注入イオンが散乱する現象)を抑制することを課題とし、高密度磁気記録の要求にあった磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】注入イオンのにじみ現象が、深くなるほど広がることを利用し、イオンを浅く注入することで、にじみ量を抑制できることから、本発明は、前記非記録領域が、前記磁気記録層の深さ方向において、イオン照射によって注入されたイオンを含む部分と、当該イオンを含まない部分の両方を有することを特徴とする磁気記録媒体を提供する。 (もっと読む)


【課題】 秩序立った核形成層を有する垂直型磁気記録ディスクおよび垂直型磁気記録ディスクの製造方法を提供する。
【解決手段】 基板と、基板上の下層と、下層の上に設けられ、粒状強磁性Co合金とSi、Ta、Ti、およびNbの1つ以上の1つ以上の酸化物との連続層を備える垂直型磁気記録層と、下層と記録層との間に設けられ、記録層のCo合金からなるアレイを備えた核形成層とを備える。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層の結晶配向性と結晶粒の磁気的分離を劣化させることなく、結晶粒径を微細化させることによって記録再生特性に優れた磁気記録媒体実現する。
【解決手段】基板11上に密着層12、軟磁性下地層13、シード層14、中間層15、磁気記録層16、保護層17が順次形成されてなる垂直磁気記録媒体において、中間層15は少なくとも3層から構成され、第一中間層151と第三中間層153はRu及びRu合金からなり、第二中間層152は酸素を含むRu合金からなる。 (もっと読む)


【課題】高い信頼性を有し、更なる高記録密度化を可能とした磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】スパッタリングガス圧0.6Pa〜1.2Paの範囲内で、層厚8nm〜12nmの範囲内のRu又はRuを主成分とする材料からなる低ガス圧層3aを形成する工程と、低ガス圧層3a上にスパッタリングガス圧4Pa〜12Paの範囲内で、層厚が低ガス圧層3aの層厚以下で4nm〜12nmの範囲内であり、SiO、Cr、WO、Al、TiO、Taの何れか1種以上の酸化物を合計で0.5mol%〜3mol%の範囲内で含むRuを主成分とする材料からなるグラニュラー構造を有する高ガス圧層3bを形成する工程とを備え、垂直磁性層4を積層する工程が、配向制御層3を構成する結晶粒子と共に厚み方向に連続した柱状晶S1、S2、S3を形成するように結晶粒子を結晶成長させる工程を備える製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】強磁性層からなる記録領域等の間に非磁性層からなる分離領域が設けられ、強磁性層間の面内距離が異なっても優れた磁気ヘッド浮上性を有する記録領域分離型の磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基体上に直接あるいは少なくとも中間層を介して磁気記録層が形成してある磁気記録媒体及びその製造方法において、磁気記録層は、記録領域と、記録領域を隔てる分離領域102とを有するパターンドメディアであり、Tiを含む非磁性合金層103−2を分離領域102に形成する。 (もっと読む)


垂直磁気記録媒体の書き込み能力を向上させ、意図しない消去を減らすための方法および媒体構造が提供される。可変の透磁率は、磁気モーメント(Bs)や磁気異方性(Hk)などのバルクSUL材料特性とは無関係に、薄い軟下地層(SUL)構造内で制御される。記録トラックへの書き込みの容易性とオフトラック(トラック間および隣接するトラック)の消去の困難性との改良された組み合わせを有する媒体は、不均衡で反強磁的に結合された(AFC)SUL構造により部分的に実現される。透磁率勾配は、異なる透磁率と磁気厚み(Bs*t)の値を有する層を含む軟下地層内で実現される。一局面では、第一SUL層は、高透磁率領域とその上に積層される低透磁率領域とを有する。第二層は、低透磁率を有する第三SUL層に第一層を反強磁的に結合させる。本発明は、慎重に磁性の均衡をとる必要のある高密度垂直記録媒体に利用することができる。
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【課題】熱アシスト記録用磁気媒体に用いられる熱拡散制御膜であって、高い熱伝導率を維持すると共に、高い熱拡散率、平滑な表面粗さ、および高い耐熱性の全てを兼ね備えたAg合金熱拡散制御膜を提供する。
【解決手段】本発明の熱アシスト記録用磁気記録媒体に用いられる熱拡散制御膜は、Agを主成分とするAg合金から構成されており、表面粗さRa1.0nm以下、熱伝導率100W/(m・K)以上、熱拡散率4.0×10-52/sec以上を満足する。 (もっと読む)


【課題】軟磁気特性を高く維持した上で、耐候性に優れた垂直磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜用Co−Fe系合金の提供。
【解決手段】原子比における組成式が((Co100−x−Fe100−Y−Ni100−(a+b+c)−M1−M2−Ti、5≦X≦80、0≦Y≦25、2≦a≦6、2≦b≦10、0.5≦c≦10で表され、残部不可避的不純物からなるCo−Fe系合金。この軟磁性膜用Co−Fe系合金は、組成式のM1元素が(Zr、Hf、Y)から選ばれる1種もしくは2種以上の元素、組成式のM2元素が(Ta、Nb)から選ばれる1種もしくは2種の元素であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】記録トラック幅MWWを劣化させることなくSNRの向上を図ることにより、さらなる高記録密度化を実現可能にする垂直磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の代表的な構成は、基板110上に少なくとも、磁性粒子を含有する第1磁性層161を成膜する工程と、第1磁性層の上方にRu合金を主成分とする第1分断層171を成膜する工程と、第1分断層の上方に、磁性粒子を含有する第2磁性層162を成膜する工程と、第2磁性層の上方にRu合金を主成分とする第2分断層172を成膜する工程と、第2分断層の上方に、少なくともCoとCrとPtとを含有する第3磁性層163を成膜する工程と、を包含し、スパッタリング法を用いて成膜する際の雰囲気ガスの圧力を、第2磁性層は第1磁性層よりも低圧にし、第3磁性層は第2磁性層よりも低圧にすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 成膜レートを低下させずに、膜中に酸素を良好に含有させることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 Cr:2〜20原子%、Pt:5〜25原子%、M金属(ただし、M金属はSi、Ti、Ta、Alの内のいずれか一種以上):0.5〜15原子%を含有し、M金属は非磁性酸化物として添加されるものであって、さらに全体として配合組成から計算される理論値よりも0.1〜5原子%過剰の酸素を含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有する。 (もっと読む)


【課題】従来の連続膜媒体の作製プロセスに近い簡便な方法を用い、磁気記録層において配向分散を抑制しつつ磁気クラスターサイズを減少させることができる下地層の分離構造を形成し、かつ下地層の薄膜化による記録性能の高性能化が可能な垂直媒体の提供。
【解決手段】非磁性基体上に少なくとも下地層および磁気記録層が順次積層されてなる垂直磁気記録媒体であって、前記下地層は結晶粒子と非晶質結晶粒界とからなり、該結晶粒子が、(成長初期の底面積)>(上部の面積)である形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】軟磁気特性を高く維持した上で、耐候性に優れた非晶質膜である垂直磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜用Co−Fe系合金および軟磁性膜形成用Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】原子比でCo:Fe=90:10〜35:65の組成比のCo−Fe系合金において、添加元素としてYを4原子%以上および(Ta、Nb)から選ばれる1種または2種の元素を3原子%以上含有し、かつ該添加元素の含有量の総和が15原子%以下の軟磁性膜用Co−Fe系合金、該合金による軟磁性膜形成用Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材。 (もっと読む)


【課題】鮮明な磁気記録パターンを有する磁性層の平滑化プロセスを高速で行うことを可能とした磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】研磨加工は、回転する研磨パッド101を非磁性基板1の表面に押し付けながら、この非磁性基板1の表面と研磨パッド101との間に研磨液Sを供給し、非磁性基板を回転又は揺動させることにより行い、研磨液Sは、単結晶のダイヤモンド粒子と研磨助剤とを含み、ダイヤモンド粒子は、その1次粒子径が1〜10nmの範囲、その2次粒子径が50〜100nmの範囲にあり、研磨助剤は、スルホン酸基又はカルボン酸基を有する有機重合物を含む。 (もっと読む)


【課題】ルテニウム(Ru)、白金(Pt)などの希少金属を用いることなく、磁気的に反平行状態で結合した構造と磁気異方性を有する垂直磁気記録媒体、磁気記憶装置、及び垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録層41と軟磁性裏打ち層42とを有する垂直磁気記録媒体であって、前記軟磁性裏打ち層42は第1軟磁性層44と、第2軟磁性層40とが非磁性層45を介して、磁気的に反平行状態で結合した構造を含む膜を有し、前記第1軟磁性層44がスピネル型または逆スピネル型のイオン結晶構造をもつ酸化物からなり、前記第2軟磁性層40が単体で強磁性を有する金属または、単体で強磁性を有する金属を含む合金からなり、前記非磁性層45がバンドギャップ3eVから8eVの絶縁物からなり、前記垂直磁気記録層41は、垂直磁気異方性を持つコバルトフェライト単結晶薄膜である垂直磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】磁性層のパターン形状を精度よく形成できる、歩留まりの高い磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板1に、磁性層2と、炭素により構成される炭素マスク層3と、Si、SiO、Taのいずれかを主として構成される膜厚0.5nm〜2nmの薄膜10と、レジスト層4とを順次積層して、前記レジスト層4に前記磁気記録パターンを転写する工程と、前記レジスト層4をマスクにして前記炭素マスク層3を酸素を用いたイオンエッチングによりパターニングする工程と、前記レジスト層4と前記薄膜10及び前記炭素マスク層3を除去する工程を有することを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法を採用する。 (もっと読む)


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