【課題】多層磁気記録層の形成に際して、層界面での磁性層と非磁性層との混合層の発生を抑制しつつ、磁性層又は非磁性層と残留ガスとの反応生成物の発生を抑制すること。
【解決手段】磁気記録媒体の製造方法であって、真空チャンバ内でスパッタ処理を繰り返し実行することにより、基板上に磁性層と非磁性層とを交互に複数積層した多層磁気記録層を形成する磁気記録層形成工程を含み、磁気記録層形成工程は、各磁性層又は各非磁性層の積層を終了してから次の非磁性層又は磁性層の積層を開始するまで、所定の時間だけ、スパッタ処理の放電を停止すると共に、真空チャンバ内の到達真空度が所定値以下となるように、所定の時間中に、真空チャンバ内を排気する。 （もっと読む）

【課題】大きな保磁力を持ち、トラック幅の狭化を実現でき、しかもＳＮＲが良い垂直磁気記録媒体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体の製造方法は、非磁性基板上に、柱状の磁性粒子間に非磁性の粒界部を有するグラニュラ構造の磁気記録層と、前記磁気記録層の下に配設され、前記磁気記録層の磁性粒子の配向を制御する下地層と、を具備する垂直磁気記録媒体の製造方法であって、キャリアガスに反応性ガスを混合して行う反応性スパッタリングにより、前記下地層を成膜することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】温湿度やドライブ内テンションによる変動の影響を抑えるべく、水蒸気バリア性、剛性に優れ、コア状のものやカセットハブなどにロール状に巻きつけ屈曲させた場合でも、ひび割れすることがない水蒸気バリアまたは強度補強が可能な膜（層）を有し、高密度記録再生用の磁気記録媒体に用いた場合にエラーレートを少なくすることが可能な磁気記録媒体用支持体を提供する。
【解決手段】非磁性基板の両面に、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる膜と、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金から酸化アルミニウムへ組成が連続的に変化する膜と、酸化アルミニウムからなる膜とを、この順に有し、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる膜の厚さが４０〜１００ｎｍであり、金属アルミニウムまたはアルミニウム合金から酸化アルミニウムへ組成が連続的に変化する膜と酸化アルミニウムからなる膜との総厚が３０〜１００ｎｍである。 （もっと読む）

【課題】媒体保護層の硬度を維持しつつ、当該媒体保護層の表面を工夫することで潤滑層の媒体保護層に対する付着率を向上させた磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】記録磁気媒体の製造方法は、磁気記録層を成膜する磁気記録層成膜工程と、ＣＶＤ（Chemical Vapour Deposition）法を用いて媒体保護層を成膜する保護層成膜工程と、媒体保護層の表面を窒化処理する窒化処理工程と、潤滑層を成膜する潤滑層成膜工程と、を含み、保護層成膜工程は、第１圧力の雰囲気で成膜した後に第２圧力の雰囲気で媒体保護層を成膜し、第１圧力は、第２圧力未満である。 （もっと読む）

【課題】温湿度による変動やドライブ内テンションの変動による影響を抑えるべく、水蒸気バリア性、剛性に優れ、コア状のものやカセットハブなどにロール状に巻きつけ屈曲させた場合でも、ひび割れすることがない水蒸気バリアまたは強度補強が可能な膜（層）を有し、高密度記録再生用の磁気記録媒体に用いた場合にエラーレートを少なくすることが可能な磁気記録媒体用支持体を提供する。
【解決手段】非磁性基板の両面に酸化アルミニウム層の間に金属アルミニウム層を有する積層構造を有する。 （もっと読む）

【課題】媒体の特性のうち、特に、高記録密度特性を発揮することのできる、磁気記録媒体を提供することにある。
【解決手段】非磁性基板上に、軟磁性裏打ち層、シード層、中間層、グラニュラー磁気記録層、非グラニュラー磁気記録層、保護膜、および潤滑層を備え、上記シード層が第１シード層と第２シード層とからなり、上記第１シード層が、必須成分としてＣｏおよびＮｉを含むとともに、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｕ、およびＭｏからなる群から選択される少なくとも１種を含み、上記第２シード層が、必須成分としてＮｉおよびＣｒを含むとともに、Ｓｉ、Ｖ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｃｕ、およびＭｏからなる群から選択される少なくとも１種を含む。 （もっと読む）

【課題】記録時の書き込み能力を維持し、垂直磁気記録層の垂直配向性向上と結晶粒径の均一化及び微細化を両立することができ、高密度の情報の記録再生が可能な磁気記録媒体、その製造方法、および磁気記録再生装置を提供する。
【解決手段】非磁性基板１上に少なくとも、軟磁性裏打ち層２と配向制御層３１と磁気記録層５と保護層６とが下から順に設けられた垂直磁気記録媒体１０において、配向制御層３１が、中間層４と、中間層４よりも非磁性基板１側に配置されたシード層３とを含む２層以上の積層構造を有するものであり、シード層３が、面心立方（ｆｃｃ）構造を有する２種類以上の元素を含み、基板面に対して垂直方向に面心立方（ｆｃｃ）（１１１）面結晶配向すると共に擬似六方晶構造を有する磁気記録媒体１０とする。 （もっと読む）

【課題】磁気ヘッドにより情報が記録される垂直磁気記録媒体とその製造方法や、垂直磁気記録媒体に対し情報を記録・再生する磁気記憶装置に関し、さらなる高記録密度化のために、磁気記録層の雑音を低減させ異方性磁界を適切な値に制御することを目的とする。
【解決手段】基板１上に形成される非磁性中間層２と、非磁性中間層上で基板面に垂直な方向の磁化容易軸を有する垂直磁気記録層４と、垂直磁気記録層上の保護膜５とを備え、垂直磁気記録層４は、基板面に垂直な方向の磁化容易軸を有する複数の磁性粒子14aが、非磁性酸化物14bにより分断されたグラニュラ層の構造の第１の垂直磁化膜4-1と、基板面に垂直な方向の磁化容易軸を有する複数の磁性粒子による連続膜の構造の第２の垂直磁化膜4-2とを有し、第２の垂直磁化膜内の磁性粒子は、ＣｏＣｒＰｔＢ系合金であり、Ｃｒの組成比は14atomic ％未満、Ｂの組成比は８atomic ％以上で14atomic ％以下である。 （もっと読む）

【課題】従来と同等の工程数で製造できる、耐腐食性に優れた磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】ディスク基板上に情報を記録する磁気記録層と記録機能をもたない溝部が交互に配列してなる凹凸パターンが形成された磁気記録媒体において、凸部形状のテーパ角度が１００°以上であり、凹凸パターンが形成された磁気記録媒体の磁気記録層表面に保護層が形成され、溝部（凹部）の開口部が前記保護層で封鎖され、前記凹部の内部に空洞が形成されてなることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 垂直磁気記録媒体等に用いられる軟磁性膜形成用Ｆｅ−Ｃｏ系合金ターゲット材において、アモルファス化と耐食性の向上を容易に実現し、かつ磁気特性に優れたＦｅ−Ｃｏ系合金組成のスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｆｅ_Ｘ−Ｃｏ_{１００−Ｘ}）、３０≦Ｘ≦８０で表されるＦｅ−Ｃｏ合金に、ＴａあるいはＮｂを１０〜３０原子％含有するスパッタリングターゲット材において、ＦｅとＣｏを主体とするＢＣＣ相における（１１０）面のＸ線回折強度［Ｉ（ＦｅＣｏ−ＢＣＣ）］とＴａあるいはＮｂを主体とするＢＣＣ相における（１１０）面のＸ線回折強度［Ｉ（ＴａＮｂ−ＢＣＣ）］の強度比［Ｉ（ＴａＮｂ−ＢＣＣ）／Ｉ（ＦｅＣｏ−ＢＣＣ）］が０．１５以下である軟磁性膜形成用Ｆｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】片面のみに磁気記録膜を有する構成としつつ、反りの発生を抑えることができ、薄型で高い品質が得られる磁気記録媒体及びその製造方法、磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、基板１の一方の主面１Ａに、気相成膜法によって、少なくとも磁気記録膜４を有する記録層５を形成する際に、基板１の他方の主面１Ｂに、気相成膜法を用いて薄膜１１を形成する。ここで、記録層５を多層構成として形成する場合には、薄膜１１も記録層５と同じ積層数の多層構成で形成するようにし、記録層５と薄膜１１との同じ積層順位の層同士を、同じチャンバ内で並行して成膜するのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】 強い漏洩磁束が得られる透磁率が低く使用効率が高いＦｅ−Ｃｏ系合金ターゲット材およびその製造方法を提供する
【解決手段】 原子比における組成式が（Ｆｅ_Ｘ−Ｃｏ_100−Ｘ）_100−ＹＭ_Ｙ、２０≦Ｘ≦８０、４≦Ｙ≦２５で表され、前記組成式のＭ元素がＮｂおよび／あるいはＴａであるスパッタリングターゲット材であって、該スパッタリングターゲット材のミクロ組織がＦｅとＣｏを主体とするＢＣＣ相および／またはＦＣＣ相とＭ元素を含有する金属間化合物相とでなる金属組織を有し、ミクロ組織においてＭ元素を含有する金属間化合物相に描ける最大内接円の直径が１０μｍ以下であるＦｅ−Ｃｏ系合金スパッタリングターゲット材である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高記録密度を実現しながら、腐食耐性の強い垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体は、少なくとも、非磁性基板、軟磁性裏打ち層（ＳＵＬ）、下地層、中間層、磁気記録層、保護層及び潤滑層をこの順に備え、ＳＵＬは、磁性層に最も近い層であるＳＵＬ（Ａ）と、ＳＵＬ（Ａ）を除く層である２層以上のＳＵＬ（Ｂ）と、隣接する２層のＳＵＬ（Ｂ）間の１または複数の非磁性金属スペーサー層から構成され、ＳＵＬ（Ｂ）は、ＡＦＣをしており、ＳＵＬ（Ａ）は、（ａ）Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉから選ばれる材料と、（ｂ）Ｃｒ、Ｖ、Ｔｉから選ばれる材料と、（ｃ）Ｗ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂから選ばれる材料によって構成され、ＳＵＬ（Ｂ）は、各層が、それぞれ、表記（ａ）の材料と、（ｃ）の材料によって構成される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、簡易な工程で磁気記録層の配向分散性を向上させることができる。
【解決手段】本発明の垂直磁気記録媒体１は、基板２上に、銅、ニッケル、ハフニウム、ジルコニウムのいずれかを含むアルミニウム合金でなる初期平滑化層３と、加えられる磁力線を基板の面方向に対して垂直に調整する軟磁性裏打ち層４と、結晶構造を整えるための下地層６と、磁極の向きに応じて情報を記録する磁気記録層７と、磁気記録層７を保護する保護膜８とを設けるようにする。 （もっと読む）

【課題】磁性粒子間の磁気的な分離を十分に行うことができ、しかも垂直磁気記録媒体を容易に製造することができる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１１上に、磁性粒子１５ａとこの磁性粒子１５ａを取り囲むＭｏＣｕＯ１５ｂとからなるグラニュラー膜１５を形成する。このグラニュラー膜１５をアルカリ溶液または水を用いてウエットエッチングすることによりＭｏＣｕＯ１５ｂを除去し、空隙とする。こうしてＭｏＣｕＯ１５ｂを除去した膜を磁気記録層として用いる。 （もっと読む）

【課題】 真空成膜装置に含まれる基体を保持するキャリアを工夫することで、磁気記録媒体の成膜工程において基体の温度をそれぞれの成膜工程に適した温度に近づけることが可能となるため、磁気記録媒体の品質の向上を図ることができる。
【解決手段】 本発明による磁気記録媒体としての垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、真空成膜装置としてのＤＣマグネトロンスパッタリング装置２００を用いて、ディスク基体１１０上に少なくとも磁気記録層１２２を成膜する成膜工程を含む垂直磁気記録媒体の製造方法であって、成膜工程では、キャリア２０８に取り付けられたグリッパ２１６をディスク基体に接触させてディスク基体を保持し、グリッパは複数の金属からなる積層構造であって、グリッパの表層２１６ａを構成する金属はグリッパの下層２１６ｂを構成する金属より熱伝導率が高いことを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置において、垂直記録層の磁性粒子の微細化と高配向化を両立させ、更なる低媒体ノイズ化を可能とすることを目的とする。
【解決手段】垂直磁気記録媒体は、非磁性シード層と、非磁性シード層上に設けられた非磁性中間層と、非磁性中間層上に設けられた垂直記録層とを備える。非磁性シード層は、非晶質材料で形成された第１のシード層と、第１のシード層と非磁性中間層との間に設けられておりｆｃｃ構造を有する材料で形成された第２のシード層を有する。非晶質材料は、Ｔａ，Ｗ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｚｒ及びこれらの元素が５０ａｔ．％を超える主成分とする合金からなるグループから選択された少なくとも１つの元素を含む。 （もっと読む）

【課題】 フライスティクション障害や腐食障害などを防止することができ、故障が抑制され、安全性に優れる磁気ディスク、特にＬＵＬ方式ＨＤＤに好適な磁気ディスクを効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】基板上に磁性層、窒素を含む炭素系保護層、潤滑層がこの順で成膜された磁気ディスクの製造方法であって、
ハイドロフルオロカーボンまたはパーフルオロカーボンの溶媒に、末端に水酸基を有するパーフルオロポリエーテル系潤滑剤を分散溶解させた溶液を調整し、該溶液中に前記炭素系保護層まで成膜された磁気ディスクを浸漬することによって前記潤滑層が成膜されており、
前記潤滑層の成膜後に、磁気ディスク表面をハイドロフルオロエーテルを含む組成物で接触処理することを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体及び磁気記憶装置において、垂直記録層の磁性粒子の微細化と高配向化を両立させ、更なる低媒体ノイズ化を可能とすることを目的とする。
【解決手段】垂直磁気記録媒体は、非磁性シード層と、非磁性シード層上に設けられた非磁性中間層と、非磁性中間層上に設けられた垂直記録層とを備える。非磁性シード層は、ｆｃｃ構造を有するＮｉ合金で形成された第１のシード層と、第１のシード層と非磁性中間層との間に設けられておりｆｃｃ構造を有するＮｉ合金で形成された第２のシード層を有する。第２のシード層を形成するＮｉ合金中、Ｎｉ以外の元素でＮｉよりゴールドシュミット半径が大きい元素の含有量は、第１のシード層中のＮｉ以外の元素でＮｉよりゴールドシュミット半径が大きい元素の含有量より多い。 （もっと読む）

【課題】
デジタル記録方式のカセット式磁気テープのような磁気記録媒体のベースフィルムとして特に有用であるポリエステルフィルム、及びその製造方法である。
【解決手段】
未延伸段階又は延伸完了前段階のフィルムの表面に紫外光を照射し、該表面に微細突起を形成させることにより、ポリエステルフィルムを製造する。フィルム表面の微細突起は、その表面における十点平均粗さＲｚと中心線平均粗さＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が２０未満であること、表層部のカルボキシル基濃度と内部のカルボキシル基濃度との比、微細突起の個数により特定される。 （もっと読む）