説明

Fターム[5D006EA03]の内容

磁気記録担体 (13,985) | 記録担体の製造法、処理 (996) | 非塗布型(メッキ、渡金) (421) | 蒸着、スパッタ、イオンプレーティング (381)

Fターム[5D006EA03]に分類される特許

41 - 60 / 381


【課題】優れた記録再生特性と長期保存特性とを有し、高記録密度の磁気記録テープを提供する。
【解決手段】本発明の磁気記録テープは、非磁性基板と、前記非磁性基板の上に形成された非磁性下地層と、前記非磁性下地層の上に形成された多層構造軟磁性層と、前記多層構造軟磁性層の上に形成された非磁性中間層と、前記非磁性中間層の上に形成されたグラニュラ磁性層と、前記グラニュラ磁性層の上に形成された保護層とを含み、前記非磁性下地層、前記多層構造軟磁性層、前記非磁性中間層、前記グラニュラ磁性層及び前記保護層は、対向ターゲット式スパッタリング法によって形成されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】グラニュラ構造の垂直磁性層をスパッタリング法で形成するに際し、形成する磁性粒子を微細化し、また磁性粒子の粒界幅を広げ、今まで以上に高記録密度化に対応可能な電磁変換特性に優れた磁性層を形成可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のCo系磁性層をスパッタリング法で形成するために用いるターゲットを、CrまたはCr合金を5モル%以上含み、CoOを5モル%以上含み、融点が800℃以下の酸化物を合計で3モル%〜20モル%の範囲内で含み、気孔率が7%以下とする。またターゲットに、SiO、TiO、TiO、ZrO、Cr、Ta、Nb、Al、CeO2からなる群から選ばれる何れか1種を含有させる。 (もっと読む)


【課題】 飽和磁束密度と透磁率を高いレベルで両立可能なアモルファス構造を有する磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜を提供する。
【解決手段】 Co−Fe系合金でなる磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜であって、該軟磁性裏打ち層膜における原子%で表されたCoとFeの組成の比率が88:12〜92:8の範囲内にあり、添加元素として3.0原子%以上のZrと、2.0原子%以上B、Y、Nb、Hf、Taの群から選ばれる1種または2種以上の元素と、をいずれも含有し、かつ、前記添加元素の含有量の合計が5.0〜9.0原子%の範囲内にある磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜である。また、上記と同組成の磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層膜形成用スパッタリングターゲット材およびそのスパッタリングターゲット材を用いてスパッタリング法により形成される磁気記録媒体用の軟磁性裏打ち層膜の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】パターンマスクの除去効率を損なうことなく処理時間の短縮を図ることができる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る磁気記録媒体の製造方法は、磁性層12を磁気分離するためのイオン注入工程に際して基板11をレジストパターン13の除去反応温度域にまで昇温させ、イオン注入後はその基板温度を利用してレジストパターン13のアッシング処理を実施する。これにより、レジストパターンの除去効率を損なうことなく、レジストパターン除去のための処理時間を短縮することができる。 (もっと読む)


【課題】ディスクリートトラック媒体上で、従来の連続膜からなる磁気記録層を含む磁気記録媒体と同様の検査が可能な磁気記録装置を提供する。
【解決手段】記録再生素子を含むヘッドスライダと、磁気記録可能な幅L1の記録トラックと、前記記録トラックの幅L1より広い幅L2をもつワイドランドトラックと、隣接する記録トラック間に設けられた幅G1の非記録部とを有する磁気記録媒体とを具備し、前記記録トラックの幅L1は前記記録再生素子の再生裾幅BRWより狭く、前記ワイドランドトラックの幅L2は前記記録再生素子の再生裾幅BRWより広い磁気記録装置。 (もっと読む)


【課題】磁性粒子間の交換結合が十分に低減され、クラスターサイズが小さい熱アシスト記録媒体、及びそれを用いた磁気記憶装置を提供する。
【解決手段】基板と、該基板上に形成された複数の下地層と、L1構造を有する合金を主成分とする磁性層からなる磁気記録媒体において、該下地層の少なくとも一つが、Ru、もしくはRuを主成分とするHCP構造を有する合金であることを特徴とする熱アシスト磁気記録媒体を用いる。 (もっと読む)


【課題】磁気スペーシングのより一層の低減を実現することができ、しかも磁気ディスクの耐久性、特にグライド特性及びLUL耐久性に優れ、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの超低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に、少なくとも磁性層と炭素系保護層と潤滑層を順次形成する磁気ディスクの製造方法において、分子構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し、且つ芳香族基またはホスファゼン環を有する潤滑剤化合物を含む潤滑剤組成物を上記保護層上に成膜して潤滑層を形成した後に、磁気ディスクに対して、酸素濃度が5体積%以下である窒素ガスまたは不活性ガス雰囲気下で、且つ雰囲気温度を50〜180℃の範囲に調整して紫外線照射を施す。 (もっと読む)


【課題】磁気スペーシングのよりいっそうの低減を実現することができ、近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで高信頼性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層と潤滑層が順次設けられた磁気ディスクであって、前記潤滑層は、分子構造中にパーフルオロポリエーテル主鎖を有し、且つ分子の中心付近の位置に、
−O-CH2-CH(OH)-CH2-CH2-CH(OH)-CH2-O−
または
−O-CH2-CH(OH)-CH(OH)-CH2-O−
で示される構造を有する磁気ディスク用潤滑剤化合物を含有する。 (もっと読む)


【課題】高いSNRを確保しつつ信頼性を向上することが可能な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスクの製造方法の構成は、基板上に、第1の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第1下地層を成膜する第1下地層成膜工程と、第1の圧力より高い第2の圧力の雰囲気ガス下でRuまたはRu合金からなる第2下地層を成膜する第2下地層成膜工程と、第1の圧力より高く且つ第2の圧力よりも低い第3の圧力の雰囲気ガス下で、RuまたはRu合金を主成分とし酸化物を副成分とする第3下地層を成膜する第3下地層成膜工程と、第3下地層より上層に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】磁気記録層の磁気特性を低下させる事なしに結晶粒径の低減を可能とし、それによって低ノイズ化、SNR向上、記録容易性(Write-ability)向上といった性能向上を可能とする垂直磁気記録媒体の提供。
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも軟磁性裏打ち層、非磁性下地層、強磁性中間層、非磁性中間層、および垂直磁気記録層が順次積層され、強磁性中間層がCoCr基合金で形成されており、強磁性中間層の飽和磁束密度と膜厚との積Bs・tが0.15〜3.6T・nmの範囲内であり、非磁性中間層が3nm以上の膜厚を有する垂直磁気記録媒体。 (もっと読む)


【課題】補助記録層としての機能を維持しつつ薄膜化を図り、SNRの向上の向上を図ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる垂直磁気ディスク100の製造方法の構成は、基板110上に、柱状に成長したCoCrPt合金を主成分とする磁性粒子の周囲に酸化物を主成分とする非磁性物質が偏析して粒界部が形成されたグラニュラ磁性層160を成膜するグラニュラ磁性層成膜工程と、グラニュラ磁性層より上方に、CoCrPtRu合金を主成分とし膜厚が1.5〜4nmである補助記録層180を成膜する補助記録層成膜工程と、補助記録層を成膜した基板を210〜250℃に加熱する加熱工程と、を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、(1)従来の熱アシスト記録方式やディスクリート方式(DTM等)によっても解決できないクロストークの問題、(2)従来の埋め込み型DTM等のもつ表面平坦性の問題、(3)DTMに熱アシスト方式を適用したときの、材料の熱膨張率差の問題を解決し、(4)特別な媒体構造を必要とせず、表面の平坦性が良好な、経済的・機能的に実現性の高い磁気ディスクを提供する。
【解決手段】イオン注入によるDTMは表面平坦性に優れ、且つイオン注入した部分(非記録領域)のキュリー温度(Tcn)と、イオン注入していない部分(記録領域)のキュリー温度(Tcr)の間の温度で熱アシスト記録することにより、クロストークを解消することができる。 (もっと読む)


【課題】 PTFを改善することができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 非磁性酸化物、CrおよびPtを含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有するスパッタリングターゲットであって、その組織が、CoとCrとPtとを含むCo−Cr−Pt粒相4と、PtとCoとCrと非磁性酸化物とを含む結合相であるマトリックス相3との複合組織からなり、マトリックス相3のCo濃度が、25質量%以下である。 (もっと読む)


【課題】磁気記録媒体をホットロール面に所定の距離にわたって均一に接触させて熱処理する場合において、ホットロールにおける熱処理が終了した後、磁気記録媒体は、常温にさらされるため、急激な温度変化によって、さらにしわが発生し、カッピングが生じる。
【解決手段】互いに温度差のある少なくとも2つのホットロールと、少なくとも1つのニップロールとの間に磁気記録媒体を移送してホットロールによる熱処理を行う工程を有し、
前記少なくとも2つのホットロールを熱伝導性の良い金属ベルトで繋いだ状態で、前記熱処理を行う。 (もっと読む)


【課題】 高い漏洩磁束密度が得られてスパッタ効率の向上を図ることができる磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】 非磁性酸化物:0.5〜15モル%、Cr:4〜20モル%、Pt:5〜25モル%を含有し、残部:Coおよび不可避不純物からなる成分組成を有するターゲットであって、その組織が、少なくともCoとCrとPtとを含む非磁性合金相中に非磁性酸化物が分散した第1相1と、少なくともCoを含む強磁性合金相中に非磁性酸化物が分散した第2相2との複合組織からなる。 (もっと読む)


【課題】1Tbit/inch以上の面記録密度を有する熱アシスト磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも基板101の上に、第1の磁性層106と第2の磁性層107とが順に積層された構造を有し、第1の磁性層106が、L1構造を有するFePt合金、L1構造を有するCoPt合金、又はL1構造を有するCoPt合金の何れかの結晶粒と、SiO、TiO、Cr、Al、Ta、ZrO、Y、CeO、MnO、TiO、ZnO、MgO、Cのうち少なくとも1種以上の粒界偏析材料とを含むグラニュラー構造を有し、且つ、第1の磁性層106中の粒界偏析材料の含有率が、基板101側から第2の磁性層107側に向かって減少している。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板12と、基板12の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14を構成する記録層16と、を有し、記録層16の材料はCo、Cr及びPtを含む磁性粒子と、Crを含み磁性粒子の間に存在する非磁性材料と、を含む材料であり、記録要素14を構成するCo、Cr及びPtの原子数の合計値に対する記録要素14を構成するCrの原子数の比率が記録要素14の側壁部14Aにおいて記録要素14の中央部14Bにおけるよりも低くなるように記録要素14中にCrが偏って分布している。 (もっと読む)


【課題】凹凸パターンで形成された記録層を有し記録密度が高く磁気信号の記録の信頼性が高い磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体10は、基板と、基板の上に所定の凹凸パターンで形成され該凹凸パターンの凸部が記録要素14を構成する記録層16と、を有し、記録要素14の側壁部14Aの核形成磁界Hns、記録要素14の中央部14Bの核形成磁界Hnc、側壁部14Aの保磁力Hcs及び中央部14Bの保磁力Hccが次の式(I)及び式(II)
Hnc<Hns (I)
Hnc/Hcc<Hns/Hcs (II)
の関係を満たす。 (もっと読む)


【課題】垂直磁気記録層の磁性粒子の粒度分布を改善し、記録再生特性の良好な垂直磁気記録媒体を得る。
【解決手段】磁気記録層の下に、不活性ガス雰囲気でスパッタされた、ルテニウムまたは第1のルテニウム合金からなる第1非磁性下地層と、不活性ガス雰囲気で、第1非磁性下地層をスパッタするときの圧力よりも高い圧力でスパッタされた、ルテニウム、及び第2のルテニウム合金のうち一方からなる第2非磁性下地層との間に、ルテニウムとシリコンからなる非磁性テンプレート層が設けられた構造を有する多層下地層を設ける。 (もっと読む)


【課題】従来よりいっそうの超高記録密度化に対応可能な垂直磁気記録媒体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に少なくとも、非晶質のセラミックスからなるシード層、結晶性の配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順に備える垂直磁気記録媒体である。この垂直磁気記録媒体は、基板上に少なくとも、上記シード層、上記配向制御層及びFePt合金を主成分とする材料からなる磁性層をこの順にスパッタ成膜し、前記磁性層を500℃以下の所定温度で成膜することによって好適に製造される。 (もっと読む)


41 - 60 / 381