【課題】マスター情報担体の繰り返し転写できる使用可能回数を向上させることのできる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】非磁性基板１の上に、少なくとも、軟磁性下地層２と、直上の層の配向性を制御する配向制御層３と、磁化容易軸が前記非磁性基板に対して垂直に配向した垂直磁性層４とを、この順で形成する磁気記録媒体の製造方法であって、ＣｏＣｒ合金を含むターゲットを使用し、窒素を含むスパッタリングガスを用いる反応性スパッタリング法によって、第１配向制御層３ａを成膜する第１成膜工程と、第１配向制御層３ａ上に、スパッタリング法を用いて、ＲｕまたはＲｕ合金からなる第２配向制御層３ｂを成膜する第２成膜工程とを行うことにより、前記配向制御層３を形成する磁気記録媒体の製造方法とする。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層が所定のパターンに加工された磁気記録媒体において、良好な記録再生特性を得る。
【解決手段】磁気記録媒体１０は、垂直磁気記録層５、クロム、チタン、及びシリコンから選択される磁性失活元素を含むＲｕ非磁性下地層２、及び非磁性基板１を含む積層に、磁性失活ガスを用いてガスイオン照射を行なうことにより形成される。ガスイオン照射を行なう前の垂直磁気記録層は、鉄及びコバルトのうち少なくとも１つ、及びプラチナを含有する。ガスイオン照射には、ヘリウム、水素、及びＢ_２Ｈ_６からなる群から選択される少なくとも１種のガスと窒素ガスの混合ガス、あるいは単独の窒素ガスのいずれかを使用する。 （もっと読む）

【課題】スイッチング磁場分布を減少した極薄酸化膜を有するパターン化垂直磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】パターン化垂直磁気記録媒体は、同心トラックに配置された離散的データアイランドにパターン化されたＣｏ合金記録層を有し、狭いスイッチング磁場分布（ＳＦＤ）を示す。ディスクは、基板と、基板上のＮｉＴａ合金平坦化層と、平坦化層上の非磁性Ｒｕ含有下地層と、酸化物が無いＣｏ合金磁気記録層と、Ｒｕ含有層とＣｏ合金磁気記録層との間の極薄酸化膜とを含む。酸化膜は、Ｔａ酸化物、Ｃｏ酸化物およびＴｉ酸化物から選択された酸化物であってもよく、不連続膜と考えられる極薄である。平坦化層および極薄酸化膜により、Ｃｏ合金記録層の成長均一性が向上するので、データアイランドを有するパターン化ディスクではＳＦＤが大幅に減少する。 （もっと読む）

【課題】小さい膜厚においても高い耐久性および高い耐食性を両立することができるＤＬＣ膜の製造方法および製造装置の提供。
【解決手段】炭化水素系原料ガスの熱分解により発生させたラジカル粒子により被成膜基板上に第１層を形成する工程と、該炭化水素系原料ガスのプラズマ中で発生させたイオン粒子により第２層を形成する工程とを含むことを特徴とする第１層および第２層から構成されるＤＬＣ膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】結晶配向中間層と、中間層上に配設される磁気ゼロ層と、磁気ゼロ層上に配設される磁気記録層とを含む積層体を提供する。
【解決手段】磁気ゼロ層（１４０，２４０）は非磁性であるか、または飽和磁束密度（Ｂ_S）が約１００ｅｍｕ／ｃｃ未満である。磁気ゼロ層（１４０，２４０）および磁性層（１５０，２４２）は、非磁性分離体によって囲まれる粒子を含む。磁気ゼロ層（１４０，２４０）は、格子不整合が約４％未満である、中間層（１３０，２３８）と磁性層（１５０，２４２）との間のコヒーレントな界面を設ける。 （もっと読む）

【課題】Ｌ１₀型ＦｅＰｔ磁性合金薄膜からなる磁気記録層を適用した磁気記録媒体の表面平坦性を改善し、磁気ヘッドと磁気記録媒体の間の距離（スペーシング）を十分に詰めて高密度記録に適合した分解能で記録再生動作が出来るようにする。
【解決手段】磁気記録層１４は、Ｆｅ及びＰｔを主原料とする磁性合金と、カーボン、酸化物、窒化物から選ばれる少なくとも一種の非磁性材料を含有する複数の磁性層２１，２２により構成される。基板側に位置する第一の磁性層２１は、ＦｅＰｔ合金を主原料とする磁性合金粒子と前記非磁性材料を主原料とする粒界部が分離したグラニュラー構造を有し、第一の磁性層よりも表面側に位置する第二の磁性層２２は、ＦｅＰｔ合金と前記非磁性材料とが第一の磁性層におけるＦｅＰｔ磁性合金粒子の直径よりも微細な状態で混ざり合った均質な構造を有するように作製する。 （もっと読む）

【課題】 アモルファス性、硬さ、耐食性に優れた垂直磁気記録媒体用軟磁性合金及び、この合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット材を提供する。
【解決手段】 ａｔ．％で、Ｆｅ：Ｃｏの比を１０：９０〜７０：３０とし、かつ下記（Ａ）群から（Ｃ）群の各種元素を、（Ａ）群元素の１種又は２種以上を０．５％以上、（Ｂ）群元素の１種又は２種以上を０．５％以上、（Ｃ）群元素の１種又は２種以上を０〜５％含有し、かつ（Ａ）群元素から（Ｃ）群元素との和を１０〜３０％、残部Ｃｏ及び不可避的不純物からなることを特徴とする磁気記録用軟磁性合金。
（Ａ）Ｔａ，Ｎｂ，Ｖ、（Ｂ）Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ、（Ｃ）Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ （もっと読む）

【課題】高密度でＳＮＲを高めた熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】熱アシスト記録装置用の磁気記録媒体である。該磁気記録媒体が、非磁性基体、磁気記録層、保護層、および液体潤滑層をこの順に含み、該磁気記録層が、磁性部および該磁性部を取り囲む非磁性部からなるグラニュラー構造を有し、該グラニュラー構造における該非磁性部の割合が１５体積％以上３０体積％以下であり、該非磁性部が炭素系材料を含み、該磁気記録媒体の表面が、算術平均粗さＲａおよび粗さ曲線要素の平均長さＲＳｍを有し、Ｒａ／ＲＳｍが０．０５以上０．１５以下である。 （もっと読む）

【課題】ビットパターンを高密度に集積した場合にも，熱安定性と記録性に優れ，ビットパターンのトラック周期よりも広い記録素子及び再生素子の磁気ヘッドを用いることができるようにする。
【解決手段】円錐台状の記録ビットの下層に垂直磁気異方性の大きい熱安定層を，上層に飽和磁束密度の大きい高出力層を備える。外周部は高出力層を除去して熱安定性を向上した熱安定性領域２２とし，中心部は再生領域２１とする。また，外周部と中心部の間に垂直磁気異方性と飽和磁束密度を小さくした反転制御領域２３を設ける。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の製造方法が提供される。
【解決手段】垂直磁気記録媒体が、基板、該基板上の下層、該下層上の中間層及び該中間層上の記録層を備える。この下層が、第一軟質下層、該第一軟質下層上の反強磁性的に結合されたＲｕ層、該反強磁性的に結合されたＲｕ層上の第二軟質下層、及び該第二軟質下層上の方位制御層を備え、この方法が、下層を形成する間、基板に負バイアス電圧を印加するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】 Ｎｉ系合金とその上層のＲｕ層との格子整合を向上させた磁気記録媒体のシード層用合金およびそれを使用したスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 Ｎｉ系合金であって、Ｓｎ，Ｉｎ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｓｉの１種又は２種以上をａｔ．％で０．５〜２０％含有し、残部がＮｉからなる垂直磁気記録媒体におけることを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。上記のＮｉ系合金にＷ，Ｔａ，Ｍｏ，Ｃｒ，Ｎｂ，Ｖの１種又は２種以上を０．５〜２０％含有させたことを特徴とする磁気記録媒体のシード層用合金。 （もっと読む）

【課題】 良好な信号対ノイズ比（ＳＮＲ）特性と良好な熱揺らぎ耐性を有する磁気記録媒体を用いて、高密度記録を行う。
【解決手段】 基板と、軟磁性層と、軟磁性層上に形成された多層下地層と、多層下地層上に形成された連続膜型磁気記録層とを含む磁気記録媒体。多層下地層は、銅からなり、（１００）面配向した面心立方格子構造をもつ結晶粒子を含有する第１の下地層、第１の下地層上に形成された銅及び窒素からなる第２の下地層、及び第２の下地層上に島状に形成された第３の下地層を含む。連続膜型磁気記録層は、Ｆｅ及びＣｏのうち少なくとも一種の元素、及びＰｔ及びＰｄのうち少なくとも一種の元素を含有し、Ｌ１_０構造を持ち、主として（００１）配向した磁性結晶粒子を含む。 （もっと読む）

【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】高品位および高記録密度の記録層を形成する多重酸化物を含有するスパッタターゲット、およびハードディスクの記録材を提供する。
【解決手段】コバルト−白金（ＣｏＰｔ）、コバルト−クロム−白金（ＣｏＣｒＰｔ）または、コバルト−クロム−白金−ホウ素（ＣｏＣｒＰｔＢ）の合金を基本とし、スパッタリングプロセスの間に酸素欠損に対して酸素を提供する酸素供給剤として、シリカ酸化物（ＳｉＯ_２）およびＣｒ_２Ｏ_３を付加したスパッタターゲットで、シリカ酸化物（ＳｉＯ_２）の量は４からの８原子％の範囲であり、酸化クロム（Ｃｒ_２Ｏ_３）の量は０．８原子％から５原子％の範囲である。 （もっと読む）

【課題】ＤＣスパッタ法を用いて、ＭｇＯ膜を有する磁気記録媒体を高い生産性で製造することができ、同時にＭｇＯ膜の酸素欠損を抑制して高い結晶性を有するＭｇＯ下地層を与える方法の提供。
【解決手段】酸素含有ガス中でＭｇおよびＭｇＯを含むターゲットを用いる反応性ＤＣスパッタ法によって、非磁性基体にＭｇＯからなる中間層を形成する工程と、中間層の上に、Ｌ１₀系規則合金を含む磁気記録層を形成する工程とを少なくとも含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体の製造に、より生産効率の高い埋め込み層の形成方法を適用すること。
【解決手段】基板上に設けられた記録磁性層の有する凹凸パターンに対して、高周波スパッタリング法により埋め込み層を成膜する際に、引き込み電界によりプラズマ中の正イオンを基板に引き込みながら、引き込み電界を形成しない時と比較した成膜速度比が９０％以下となる条件で埋め込み層を成膜する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体の磁気記録層に注入するイオンの垂直方向の濃度分布を、イオンを注入する層に応じた適切なものにすることで、書き込み特性および読み出し特性を向上させる。
【解決手段】垂直磁気記録媒体１００の製造方法は、ディスク基体１１０上に、磁気記録層１２２を成膜する磁気記録層成膜工程と、磁気記録層の上にレジスト層１３０を成膜するレジスト層成膜工程と、レジスト層を加工することで当該レジスト層の厚みを部分的に変化させ凹部と凸部を有する所定のパターンを形成するパターニング工程と、レジスト層を介在させた状態で磁気記録層を含む複数の層にイオンを注入するイオン注入工程と、を含み、イオン注入工程において、イオンを注入するエネルギー量を調節してイオンを注入する層を決定し、そのエネルギー量を保持する時間を調節して各層へ注入されるイオンの総量を決定する。 （もっと読む）

【課題】 優れたパターンを有した磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 磁気記録層上に凹凸パターンを有するマスクを形成し、前記マスクの凹部に対応する前記磁気記録層の領域の磁性を失活することを含むパターンド媒体の製造方法であって、前記磁気記録層の上部に設けた注入深度調節層を介したイオンビームの照射によって、前記磁気記録層の磁性を失活することを含み、磁性の失活の進行に伴って、前記注入深度調節層の膜厚が減少し、イオンビーム侵入深さが深くなるパターンド媒体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低い保磁力を有する垂直磁気記録媒体用軟磁性合金およびこの合金の薄膜を作製するためのスパッタリングターゲット並びに磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 ａｔ．％で、Ｚｒ，Ｈｆの１種または２種を合計で６〜２０％、Ｂを１〜２０％含み、残部Ｃｏおよび不可避的不純物よりなり、かつ式（１）を満たすことを特徴とする磁気記録媒体用軟磁性合金。また、上記の磁気記録媒体用軟磁性合金を用いたスパッタリングターゲット材並びに磁気記録媒体。
６≦２×（Ｚｒ％＋Ｈｆ％）−Ｂ％≦１６ … （１） （もっと読む）

【課題】 本発明は、スパッタリングにより薄膜を形成するために用いられる化合物の生成を抑制したＣｒＴｉ系合金およびスパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】 Ｔｉを３５〜６５原子％含み、残部Ｃｒおよび不可避的不純物かなるＣｒＴｉ系合金において、Ｃｒ（１１０）のＸ線回折強度［Ｉ（Ｃｒ）］とＣｒ₂ Ｔｉ（３１１）のＸ線回折強度［Ｉ（Ｃｒ₂ Ｔｉ）］の強度比が［Ｉ（Ｃｒ₂ Ｔｉ）／Ｉ（Ｃｒ）］が０．５０以下であるＣｒＴｉ系合金およびＣｒＴｉ系スパッタリング用ターゲット材並びにそれを使用した垂直磁気記録媒体の製造方法。 （もっと読む）