【課題】コンタミネーションの影響を低減した信頼性の高い磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板２上に、少なくとも磁性層４と保護層５を有し、起動停止機構がロードアンロード方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスク１であって、該磁気ディスク１のロードアンロード領域の保護層８が、光触媒機能を有する材料を含む。 （もっと読む）

【課題】近年の急速な高記録密度化に伴う磁気ヘッドの低浮上量のもとで、また用途の多様化に伴う非常に厳しい環境耐性のもとで、良好な信頼性特性を有する磁気ディスクを提供する。
【解決手段】基板上に少なくとも磁性層と保護層が設けられた磁気ディスクであって、カーボン６０（Ｃ６０）をエッチング用のガスとして用いたＥＳＣＡ（エスカ）にて測定される磁性層中のアルゴン（Ａｒ）含有量が許容値となるように磁性層の成膜条件、具体的には成膜時のガス圧を設定し、この設定した成膜条件により磁性層を形成する。 （もっと読む）

【課題】配向性改善による媒体特性の向上を図るとともに媒体の保磁力の向上を実現できる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】垂直磁気記録方式での情報記録に用いる垂直磁気記録媒体であって、基板上に少なくとも、非晶質の軟磁性層と、下地層と磁気記録層とを備える垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記軟磁性層の上に、あるいは、該軟磁性層の上に形成した非晶質のシード層の上に、結晶性のシード層を、まずバイアスを印加せずに成膜し、引き続いてバイアスを印加しながら成膜する多段階成膜により形成する。 （もっと読む）

【課題】比透磁率の低い磁気記録膜形成用Ｃｏ基焼結合金スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】原料粉末としてＣｒ：５０〜７０モル％を含有し、残部がＣｏからなるＣｒ−Ｃｏ合金粉末、Ｐｔ粉末、非磁性酸化物粉末、Ａ金属粉末（ただし、Ａ金属はＢ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅの内の少なくとも１種を示す）およびＣｏ粉末を用意し、これら原料粉末を非磁性酸化物：２〜１５モル％、Ｃｒ：３〜２０モル％、Ｐｔ：５〜３０モル％、Ａ：０．５〜８原子％を含有し、残部：Ｃｏからなる成分組成となるように配合し混合して得られた混合粉末を金属製缶体に充填し、金属製缶体内部を真空にして封入し、この混合粉末を真空封入した金属製缶体を温度：８００℃以下で熱間圧延する。 （もっと読む）

【課題】潤滑剤マイグレーションで移動する潤滑剤の量を抑制する。
【解決手段】以下の本体部２１０とボンド層２２２とフリー層２２１とを備えた磁気ディスク２００を製造する。本体部２１０は、円板形状を有し情報を記憶するものである。ボンド層２２２は、潤滑剤で形成され、本体部２１０の表裏両面に結合したものである。フリー層２２１は、ボンド層２２２を覆う、このボンド層２２２を形成している潤滑剤の流動性よりも高い流動性を有する潤滑剤で形成されたものである。そして、このボンド層２２２におけるボンド率の分布が、最外周から中央に向かう途中において極大となっている。 （もっと読む）

【課題】一方向からの測定によって対象物の位置情報を精度よく取得することを課題とする。
【解決手段】成膜装置１０００が有する位置測定装置１１００は、基板４００が有する測定対象平面４００ａ上の３つの測定点４００ａ１、４００ａ２、４００ａ３に対し、測定点までの水平方向の距離をそれぞれ測定する測距部を備える。測距部は、３つの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０を有する。これらの変位センサ１１１０、１１２０、１１３０は、垂直仮想平面６００に正対するように配置される。位置測定装置１１００は、水平方向から基板４００の測定対象平面４００ａの投影画像を撮像する撮像部を備えている。撮像部は、画像センサ１１５０と、この画像センサ１１５０が接続された画像取得部１１６０を備えている。 （もっと読む）

【課題】基板上の垂直磁気記録媒体が開示される。
【解決手段】垂直磁気記録媒体が、記録層を有する。記録層が、第一粒状記録層及び第二粒状記録層を含む。第一粒状記録層と第二粒状記録層との間に交換層を含んでよい。付加的に、又は代替的に、第一粒状記録層と第二粒状記録層の飽和磁化比が、１より大きくてよく、及び／又は、第二粒状記録層の磁気異方性と比較して、第一粒状記録層が、相対的に高い磁気異方性を有してよい。その形成方法も開示される。 （もっと読む）

【課題】スパッタリング時のアーキングやスプラッシュの発生を効果的に防止することができ、とくにアーキングについては事実上皆無とすることができるスパッタリングターゲット材を提供すること。
【解決手段】本発明のスパッタリングターゲット材は、（Ａ）少なくともＣｏを含有する金属相、（Ｂ）長軸粒径１０μｍ以下の粒子を形成してなるセラミックス相、および（Ｃ）少なくともＣｏを含有してなるセラミックス−金属反応相を有し、前記（Ｂ）セラミックス相が前記（Ａ）金属相内に散在されてなり、かつ、前記（Ｂ）セラミックス相と前記（Ａ）金属相との間に、前記（Ｃ）セラミックス−金属反応相により形成される層が介在してなることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】２５０Ｇビット／平方インチ以上の記憶容量であってもノイズの少ない、グラニュラ磁気記録層を含む磁気ディスク及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の磁気ディスクは、ディスク基体１０上に直接又は中間層を介して形成され、グラニュラ柱状粒子間に非磁性領域を有してなるグラニュラ磁気記録層２０と、前記グラニュラ磁気記録層２０上に形成され、前記グラニュラ柱状粒子間で交換相互作用させる補助記録層２２と、を具備し、前記補助記録層２２は、０．１モル〜３モルの酸素を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性に優れた磁気記録媒体を、高い生産性で製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層２に、磁気記録パターン２０として、凸部からなる磁気記録領域２１と、該磁気記録領域２１の間の凹部からなる境界領域２２とを形成する磁気記録パターン形成工程と、次いで、非磁性基板１に負のバイアスを印加しながら、スパッタリング法を用いて非磁性膜１２を形成することで、磁気記録領域２１上の非磁性膜１２（１２ａ）を、境界領域２２上の非磁性膜１２（１２ｂ）よりも薄くする非磁性膜形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】表面の平滑性に優れた磁気記録媒体を、高い生産性で製造することが可能な磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】磁性層２に、磁気記録パターン２０として、凸部からなる磁気記録領域２１と、該磁気記録領域２１の間の凹部からなる境界領域２２とを形成する磁気記録パターン形成工程と、次いで、非磁性基板１に負のバイアスを印加しながら、高周波プラズマ化学蒸着法を用いてカーボン保護膜９を形成することにより、磁気記録領域２１上のカーボン保護膜９ａを、境界領域２２上のカーボン保護膜９ｂよりも薄くする保護膜形成工程とを備えた方法である。 （もっと読む）

【課題】２層以上の磁気記録層を有する磁気記録媒体の耐食性を向上させてコバルト溶出を抑制する。
【解決手段】非磁性体基板上に形成された２層以上の磁気記録層と、前記２層以上の磁気記録層上に形成されたカーボン系保護層とを有し、前記２層以上の磁気記録層のうち最上層の磁気記録層は、それより下層の磁気記録層より高い硬度を有することを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 スパッタリング膜のバラツキを抑制すべく、均一な組織を有するＮｉ合金ターゲット材を製造する方法を提供する。
【解決手段】 （Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ）から選ばれる１種または２種以上を１０〜３０質量％含み、残部Ｎｉおよび不可避的不純物からなるＮｉ合金ターゲット材の製造方法において、前記Ｎｉ合金を溶解鋳造したインゴットを温度８００〜１３００℃、圧下率５０％以上で塑性加工を施した後、８００〜１３００℃で０．５〜３時間の再結晶化熱処理を行うＮｉ合金ターゲット材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】大きな一軸磁気異方性を有する磁性薄膜を提供することにある。
【解決手段】原子が規則的に配列したＬ１₁型のＣｏ−Ｐｔ−Ｃ系合金を含有する。 （もっと読む）

【課題】磁気記録媒体及びその製造方法並びに記憶装置において、磁気記録層の磁性粒子の微細化と保磁力の向上を両立させることを目的とする。
【解決手段】基板の上方に軟磁性層、非磁性シード層、中間層及び磁気記録層が積層された磁気記録媒体において、非磁性シード層は、少なくともＷ又はＣｒの一方を含むＮｉ合金で形成されており、非磁性シード層の成膜時に使用し、且つ、非磁性シード層内に残留する反応ガスのイオンカウントは、成膜時に基板バイアス電圧を印加しないで形成された基準非磁性シード層のイオンカウントの１０倍以上であるように構成する。 （もっと読む）

【課題】軟磁性下地層の高い透磁率と反強磁性結合との両方を実現できる磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】少なくとも非磁性基板の上に、複数の軟磁性層を反強磁性結合させた軟磁性下地層と、磁化容易軸が前記非磁性基板に対して主に垂直に配向した垂直磁性層とが積層されてなる磁気記録媒体であって、軟磁性層は、Ｆｅを第１の主成分、Ｃｏを第２の主成分として、さらにＴａを含み、軟磁性下地層は、複数の軟磁性層の間に挟まれるスペーサ層の厚みによって変化する反強磁性結合力の２番目以降に現れるピークを用いて反強磁性結合されており、なお且つ、その透磁率が１０００Ｈ／ｍ以上である。 （もっと読む）

【課題】ビットパターンド型やディスクリート・トラック型等のタイプの磁気記憶媒体を製造可能な簡易な製造方法、そのような簡易な製造方法で製造可能な上記タイプの磁気記憶媒体および情報記憶装置を提供する。
【解決手段】基板６１上に、Ｓｍ−Ｃｏ合金で磁性膜６２を形成する製膜工程（Ａ）と、磁性膜６２の、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットとなる複数箇所を除いた他の箇所に局所的にイオンを注入して飽和磁化を低下させることで、磁性ドットの相互間に、磁性ドットの飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有するドット間分断帯を形成するイオン注入工程（Ｃ）とを有する製造方法で磁気ディスク１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】磁気記憶媒体を製造可能な簡易な製造方法、記録密度が高く簡易な製造方法で製造可能な磁気記憶媒体および情報記憶装置を提供する。
【解決手段】基板６１上に、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ合金で、厚さが１０ｎｍ未満の磁性膜６２を形成する製膜工程（Ａ）と、磁性膜６２の、各々に情報が磁気的に記録される磁性ドットとなる複数箇所を除いた他の箇所に局所的にイオンを注入して飽和磁化を低下させることで、磁性ドットの相互間に、磁性ドットの飽和磁化よりも小さい飽和磁化を有するドット間分断帯を形成するイオン注入工程（Ｃ）とを有する製造方法で磁気ディスク１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】反応性スパッタリングを行う際に、酸素ラジカル濃度分布の均一性を高め、磁性層中に取り込まれる酸素濃度を面方向において一様とし、磁気特性、記録再生特性が安定した磁性層の形成方法を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリングにより形成する磁性層の形成方法であって、反応容器内に、基板を配置するとともに、スパッタ電極と、該スパッタ電極の表面に配設された酸化物以外のクロムを含むターゲットとからなる電極ユニットを、一対、それぞれ前記ターゲットを前記基板側にして、前記基板の両面と対向するように配置し、アルゴン及び水を含む混合ガスを、前記一対の電極ユニットの各前記基板側の表面付近に供給し、前記ターゲットに含まれる酸化物以外のクロムを、反応性スパッタリングにより、グラニュラ構造を有する磁性層に含まれる酸化クロムとして形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ＦｅやＣｏを含有する材料を容易に腐食させない磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【解決手段】非磁性基板１０上に磁性層３０を形成する工程と、磁性層３０に凹部６５を形成する工程と、凹部６５の露出面を覆うように耐食性膜６０を形成する工程と、耐食性膜６０に覆われた凹部６５を埋めるように非磁性層４０を形成して、磁気的に分離された磁性層からなる磁気記録パターンを形成する工程と、を有する磁気記録媒体１２２の製造方法を用いることにより、上記課題を解決できる。 （もっと読む）