説明

Fターム[5E343CC01]の内容

Fターム[5E343CC01]の下位に属するFターム

Fターム[5E343CC01]に分類される特許

41 - 60 / 135


【課題】基材と配線パターンとの付着性を確保しつつ、製造工程における作業性の向上、及び、異物付着の低減を図ることが可能な配線基板及び配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】配線基板の製造方法は、基材2上の少なくとも配線パターン4aを形成する範囲を含む塗布範囲に、ポリビニルピロリドン系接着剤を塗布する接着剤塗布工程と、ポリビニルピロリドン系接着剤が塗布された前記配線パターン4aを形成する範囲に、溶媒に導電性粒子を分散させた導電性粒子溶液を配置する導電性粒子配置工程と、導電性粒子溶液が配置された基材2を、基材2の耐熱温度以下で加熱して導電性粒子溶液を焼成させる焼成工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】ウェットライン法を用いることなく、フレキシブル基板を製造する方法を提供する。
【解決手段】樹脂シート3上にパターンが開口されたマスキングテープ2を貼り付ける工程と、マスキングテープ2が貼り付けられた樹脂シート3上に、紫外線硬化型塗料を塗付して、密着層5を形成する工程と、密着層5上に金属導電膜を蒸着させて金属導電層8を形成する工程とを含むフレキシブル基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】基板上に複数の接合部材を狭隣接した状態で、各接合部材の加圧力を一定にしながら偏加重なく、安価に短時間で接合を行うことを可能にする。
【解決手段】複数の接合部材2の表面に弾性率Aの硬化性物質7を載置する。加圧治具5により硬化性物質7を変形または弾性変形して、各硬化性物質7と接触している面と反対の面(接合部材2側の面)を平面にする。硬化性物質7をUVあるいは熱などにより弾性率B(B>A)に硬化させた後、加圧治具5により各硬化性物質7と接触している面と反対の面を加圧加熱して基板1方向へ押し込み、基板1の接合部3と接合部材2とを接合させる。 (もっと読む)


【課題】特定の感紫外線化合物を用いて設計どおりの微細金属パターンを有する基板を容易に大量生産も可能に得ることができる金属パターンを有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】金属薄膜2を有する基板1表面に式(I)に示す感紫外線化合物3を吸着させ、該化合物上に熱可塑性高分子4により層を設け、紫外線を照射し、得られた熱可塑性高分子層上に熱ナノインプリント法によって凹凸を形成し、熱可塑性高分子の残膜を除去し、凹み部分に電気めっきにより金属層を形成し、熱可塑性高分子層を除去し、凹み部分における金属薄膜を除去して、金属パターンを形成する。
(もっと読む)


【課題】肉眼では認識できないほどの線幅が狭い配線回路を密着性よく形成してなる、カールの発生が少なく、かつ意匠性の高い配線回路部材を提供する。
【解決手段】耐熱性支持基材の少なくとも一方の面に、平均粒子径1〜100nmの導電性金属系粒子を含む分散液をインクジェット記録方式で印刷し、焼成することにより形成された幅200μm以下の配線からなる配線回路を有する配線回路部材である。 (もっと読む)


【課題】基板の表面粗さ(Ra)が0.1μm以上に粗化処理された基板であっても、その上層に金属めっき層を強い密着力で形成できる表面金属膜材料、および表面金属膜材料を製造する方法を提供することである。
【解決手段】基板と、めっき触媒又はその前駆体を受容するポリマー層と、めっきにより形成された金属膜とをこの順に有し、前記基板と前記ポリマー層との界面の表面粗さ(Ra)をxμmとし、前記ポリマー層と前記金属膜との界面の表面粗さ(Ra)をyμmとしたとき、x>yであり、且つ5μm>x>0.1μmである表面金属膜材料。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、金属超微粒子を含むインクあるいはペーストを用いて形成された導電性パターンの基材に対する密着性が高く、にじみが少なく、かつ優れた導電性が得られる導電性パターン形成用基材および導電性部材を提供するものである。
【解決手段】支持体上に微粒子と樹脂バインダーからなる多孔質層と該多孔質層の上に樹脂を主成分とする層を有する事を特徴とする導電性パターン形成用基材。 (もっと読む)


【課題】触媒に含まれる貴重な貴金属の省資源化ができると共に、基体を粗面化しないでも密着性に優れる精密な3次元的な導電性回路の形成方法を提供する。
【解決手段】第1の基体1に脱ドープ状態のポリピロールとバインダとを混合した接着層2を塗布し、ポリ乳酸等からなる被覆材3で部分的に被覆して、触媒5を付与する。疎水性の被覆材3に残存する触媒5aを水洗浄で除去し、被覆されていない部分の触媒5b部に、浴組成が酸性または中性の無電解めっきによる導電性回路を形成する。 (もっと読む)


【課題】 特にポリイミドフィルムやガラス板等の基板上に設けられる膜であって、印刷法などにより配線形成を行う際に、基板との密着性、インクの印刷特性に優れ、また、配線形成プロセス中に使用される薬液に対して高耐性を有する上、高耐熱性を有する多孔質膜を提供する。
【解決手段】 走査型電子顕微鏡により測定したときの平均粒子径が2〜200nmの範囲内にあり、少なくとも1種の金属の酸化物からなる一次粒子が2個以上結合してなる、動的光散乱法により測定したときの平均粒子径が70〜3000nmの範囲内にある凝集体粒子を10〜100質量%含む凝集体粒子含有物(A)と、耐熱性高分子化合物および/またはその前駆体(B)とを含む塗工液から得られた薄膜の硬化物からなり、かつ走査型電子顕微鏡により測定したときに、前記凝集体粒子を構成する一次粒子の平均粒子径よりも大きな長径の平均値を有する細孔を表面に形成してなる多孔質膜である。 (もっと読む)


【課題】特に、一般的な配線材料や簡単な転写技術を用いて信号用及びパワー用に適した厚さの異なる導体層を同一基板に設けるのに好適な回路配線基板及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】回路配線基板は、第1主面1a及び第2主面1bを有する絶縁樹脂基板1と、前記絶縁樹脂基板1の第1主面側1aに埋設され互いに厚さの異なる第1及び第2導体層2、3とを備え、前記第1及び第2導体層2、3は、前記第1主面1aに沿う方向に互いに並置される関係でそれぞれパターン化され、前記第1主面側1aに位置する各外表面が相互に同一面となるように埋設されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れた被めっき層を形成し得る被めっき層形成用組成物等の提供。
【解決手段】ラジカル重合性基、10≦pKa≦16の炭素原子に直接結合した活性水素を有する官能基、及びイオン性吸着基を有するポリマーを含有する被めっき層形成用組成物等を提供する。 (もっと読む)


【課題】基材に導電体の配線パターンを一連の処理で高効率に形成し、且つ、高導電率で高精度の配線パターンを確実に形成するパターン形成装置等を提供する。
【解決手段】基材に導電体の配線パターンを形成するパターン形成装置1において、窒素ドープしたDLCの表面に電極13を対向して配設し、当該電極13を正電位として当該DLC薄膜との間に放電が生じる電位差未満の電位差による電界を印加する電圧印加部11と、電界が印加された状態で、前記電極13を前記DLC薄膜との間で所定の距離を保って走査させて当該DLC薄膜の表面に潜像を形成する移動制御部12と、潜像が形成されたDLC薄膜を含む潜像対象物2を銅イオンが含まれるめっき液6に浸漬する浸漬部21と、浸漬後に潜像が形成された面に、転写基材7を接着させて導電体を転写する転写部30とを備える。 (もっと読む)


【課題】金属画像を含む複数の層からなるシートを、高速で大量生産すること。
【解決手段】第一基材シート11と第二基材シート21上に粘着層を形成した第二連続フィルム20とをそれぞれ別々に供給する供給工程と、第一基材シート11上に所定パターンの剥離剤を印刷した剥離層12を形成する剥離層形成工程と、剥離層12の上に金属被膜層13を形成し第一連続フィルム10とする金属被膜形成工程と、第一連続フィルム10の金属被膜層13と第二連続フィルム20の粘着層22とを圧着する圧着工程と、第一連続フィルム10と第二連続フィルム20とを分離し剥離層12に対応した金属被膜層13を粘着層22に転写することにより、第一連続フィルム10若しくは第二連続フィルム20に所定の金属画像を形成する分離工程と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


導電性粒子がそのパターンに従って集まることが可能となるような所定のパターンを絶縁性平面基板上に形成するように構成された少なくとも1つのモジュールを備える装置、方法、絶縁性平面基板、及びチップセットを提示する。少なくとも1つの別のモジュールは、前記導電性粒子を前記絶縁性平面基板に転送するように構成され、前記導電性粒子が前記所定のパターンに従って集まるように配置されるようにする。焼結モジュールは、前記導電性粒子を前記絶縁性平面基板上に融着させるように構成され、前記導電性粒子が前記所定のパターンに従って融着して前記絶縁性平面基板上に導電性プレーンを形成するように配置されるようにする。本発明の実施形態は、繊維ウェブ上のプリンタブル・エレクトロニクス又はプリンティング・エレクトロニクスに関するものである。
(もっと読む)


【課題】基板との密着性に優れた金属膜を有し、且つ、湿度変化による密着力の変動が少ない表面金属膜材料、及びその作製方法を提供すること。
【解決手段】(1)ポリマーを含有するポリマー溶液を調製する工程と、(2a)該ポリマー溶液に、ポリマーに対して30質量%以上200質量%以下の割合となるモノマーを混合して、混合液を調製する工程と、(3)基板上に、前記混合液を、塗布、乾燥させた後、得られた膜を硬化させ、該基板上に硬化層を形成する工程と、(4)該硬化層にめっき触媒又はその前駆体を付与する工程と、(5)該めっき触媒又はその前駆体に対してめっきを行う工程と、を有し、前記ポリマー及び前記モノマーの少なくとも一方が、めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する非解離性官能基を有することを特徴とする表面金属膜材料の作製方法、該作製方法により得られた表面金属膜材料。 (もっと読む)


【課題】樹脂表層に銅などのめっきと樹脂がナノメートルオーダーで混在する層を持ち、平滑樹脂上で非常に高いめっき密着性を有するに用いられる樹脂基板であって、平滑樹脂上に高密着強度のめっきを実施できるため、微細配線基板や高周波特性に優れたプリント配線基板を作製する。
【解決手段】シアネート系ビルトアップ樹脂を熱処理し樹脂中にトリアジン環を生成させる工程と、オゾン水により樹脂基体の表層を改質すると共に、貴金属錯イオンを含むキャタリスト液に浸漬し、樹脂マトリックス中に微細な金属粒子が均一に分散してなる樹脂−金属コンポジット層を一体的に形成し、貴金属をトリアジン環によって固定させる工程とによって樹脂基板を製造し、該貴金属を核として樹脂基板の表面に無電解めっきにより金属被膜を形成し、その後に該金属被膜を除去することを特徴とする回路基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】金属膜の密着性に優れ、湿度変化による密着力の変動が少なく、且つ、耐熱衝撃性に優れた表面金属膜材料、及びその作製方法を提供する。
【解決手段】(a1)基板上に、めっき触媒又はその前駆体と相互作用する官能基を有し、且つ、該基板と直接化学結合したポリマーからなるポリマー層を形成する工程と、(a2)エネルギーを付与して重合性基の残存率を5%〜60%とする工程と、(a3)該ポリマー層にめっき触媒又はその前駆体を付与し、該めっき触媒又はその前駆体に対してめっきを行って金属膜を形成する工程と、を有し、前記金属膜を形成してなるポリマー層の熱膨張係数(α)が120ppm以下であることを特徴とする表面金属膜材料の作製方法。 (もっと読む)


【課題】従来の製造方法と比べて、実質的に作業性を向上することができ、金属膜の厚膜形成時でも製造効率の優れたパターンの製造できる転写フィルム、およびパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】支持フィルム上に、(A)レジスト層、(B)金属層、および(C)粘着層が積層されていることを特徴とするパターン形成用転写フィルム。 (もっと読む)


【課題】経済性に優れ実用レベルの技術として適用可能なプリント基板用複合めっき材を提供する。シード層の除去を不要とすることで経済性に優れたファインパターン形成に対応できるプリント基板用複合めっき材を提供する。
【解決手段】樹脂フィルム11上にプライマー層12を形成するプライマー層形成工程と、前記プライマー層のゲル分率が0〜50%になるように前記プライマー層を加熱する第1加熱工程と、前記プライマー層上にシード層13を形成するシード層形成工程と、前記シード層上に導電層14を形成する導電層形成工程と、を備え、前記シード層を形成した後に、前記プライマー層のゲル分率が60〜100%になるように前記プライマー層を加熱する第2加熱工程を有する。 (もっと読む)


【課題】めっきにより形成される金属膜との密着性及び、樹脂−金属界面の平滑性に優れ、高い膜形成感度を有する製造適性が良好な、めっき触媒若しくはその前駆体受容性層を形成しうるめっき用感光性樹脂組成物、及び金属層と基板との密着性に優れた金属層付き基板を、低エネルギーで容易に形成することができる金属層付き基板の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき触媒若しくはその前駆体と配位結合性の相互作用を形成する官能基、及び重合性基を有するポリマー並びに分子内に少なくとも2つの重合性基を有する多官能モノマーを含有することを特徴とする、めっき触媒若しくはその前駆体受容性層を形成しうるめっき用感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


41 - 60 / 135