【課題】半導体素子等の実装持における半導体素子等との接続信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板は、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インクを液滴吐出法により吐出して形成される導体パターンを備えた配線基板であって、セラミックス基板と、前記セラミックス基板に埋設され、露出面が湾曲凹面となっている導体パターンとを有することを特徴とする。湾曲凹面の曲率半径は、０．０２５ｃｍ以上３ｃｍ以下であることが好ましい。また、湾曲凹面の平均深さは、１μｍ以上３０μｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドから安定して吐出することができるとともに、形成される導体パターンに導通不良が発生するのを防止することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散する水系分散媒と、パンテノールとを含み、前記金属粒子を小さい粒径から粒度分布の測定をした場合において、累積体積にて全体の体積のＸ％の地点での粒径をＤ（Ｘ）としたとき、前記金属粒子のＤ（５０）が１０ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、粒径Ｄ（９０）が４０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】焼成後の金属又は金属酸化膜の微細化、及び作業性の向上。
【解決手段】ヘッド１から吐出された液滴状のインク２が飛翔中、または基板３に着弾した直後にレーザー光４を照射して液滴状のインク中の金属ナノ粒子を隣接する粒子同士を結合させ、一部の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子を肥大化させることで、基板上に印刷されたインクは元々含まれていた微小径の金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子と肥大化した金属ナノ粒子又は金属酸化物ナノ粒子とが混在した状態にする。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドから安定して吐出可能な導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散する水系分散媒と、下記式（Ｉ）で示される化合物と、塩基性のアミノ酸とを含むことを特徴とする。


（ただし、Ｒ、Ｒ’は、それぞれ、Ｈまたはアルキル基である。） （もっと読む）

【課題】従来の回路部品の製造方法では、コスト低減を図ることが困難である。
【解決手段】複数の種類の液状体のうちの少なくとも１つの種類の液状体で断面要素１６１を断面パターン１６５として描画してから、断面パターン１６５を硬化させることを、断面要素１６１ごとに複数の断面要素１６１にわたって順次に重ねて実施する造形工程と、造形工程の後に、複数の断面パターン１６５が重なった回路部品６'にメッキを施すメッキ工程と、を含み、液状体の種類には、断面パターン１６５を構成するための樹脂を含有する樹脂含有液状体と、樹脂及びメッキ触媒を含有する触媒含有液状体との２種類が含まれており、造形工程では、複数の断面パターン１６５のうちの少なくとも一部の断面パターン１６５を描画するときに、断面パターン１６５の少なくとも一部に触媒含有液状体を選択的に塗布する、ことを特徴とする回路部品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】液滴吐出ヘッドから安定して吐出することができるとともに、形成される導体パターンに導通不良が発生するのを防止することができる導体パターン形成用インクを提供すること、信頼性の高い導体パターンを提供すること、および、このような導体パターンを備え、信頼性の高い配線基板を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターン形成用インクは、液滴吐出法により、基材上に導体パターンを形成するための導体パターン形成用インクであって、金属粒子と、前記金属粒子が分散する水系分散媒と、下記式（Ｉ）で示される化合物と、下記式（ＩＩ）で示される化合物とを含むことを特徴とする。


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【課題】描画精度を維持したまま、コストおよび単位重量を低く抑えることができる液滴吐出装置を提供することである。
【解決手段】描画エリア３１において、ワークＷの移動に同期して、機能液滴吐出ヘッド５３を吐出駆動することで描画を行うと共に、描画エリア３１からワークＷの移動方向片側に外れた２つの除給材エリア３５，３６において、ワークＷの除給材を行う液滴吐出装置１であって、Ｘ軸スライダー２３を有すると共に、ワークＷがセットされる一対のワークステージ２１と、Ｘ軸スライダー２３を介して、一対のワークステージ２１の移動を描画エリアおよび２つの除給材エリア３５，３６に亘ってガイドするＸ軸移動ガイド２２と、を備え、Ｘ軸移動ガイド２２は、描画エリア３１と２つの除給材エリア３５，３６に対応して３分割されているものである。 （もっと読む）

【課題】回路基板上に密集して露出形成された回路配線に対して、補うように回路配線を形成可能なプリンタ装置を提供する。
【解決手段】プリンタ装置は、回路基板５０を支持するテーブルと、回路基板５０に向けてインクを吐出する絶縁プリンタヘッド、導電プリンタヘッドとを有し、コントローラにより、絶縁プリンタヘッドの移動およびインク吐出を制御されて、回路基板５０の表面における所定の回路形成領域を囲む外部領域に絶縁インクを吐出して回路形成領域を表面側に露出させて囲む絶縁パターン４５ａが形成されるとともに、導電プリンタヘッドの移動およびインク吐出を制御されて、絶縁パターン４５ａにおける回路形成領域に導電インクを付着させて回路配線５４が形成される。 （もっと読む）

【課題】耐酸化性、耐電食性を向上させた金属銅膜の製造方法及び金属銅パターンを提供する。
【解決手段】銅酸化物を含む銅系粒子から成る金属銅膜の製造方法において、銅酸化物を含む銅系粒子から成る層を基板表面に形成する工程と、前記銅系粒子から成る層をガス状のギ酸及び／又はホルムアルデヒドに接触させる工程とを有し、前記銅系粒子から成る層をギ酸、ホルムアルデヒドおよび酸素が存在しないガス中あるいは減圧下で１１０℃以上２５０℃以下で後加熱処理する工程、又は、前記銅系粒子から成る層を防錆作用のある薬剤の溶液あるいはガスに接触させる工程を有する、金属銅膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】クラック、断線、ショート等の発生が防止された、線幅の安定した信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を提供すること、また、前記配線基板の製造に好適に用いることのできるセラミックス成形体を提供すること。
【解決手段】本発明のセラミックス成形体は、金属粒子を含む導体パターン形成用インクが付与された後に焼結され、配線基板の製造に用いられるものであって、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコールを含むことを特徴とする。前記多価アルコールは、１，３−プロパンジオールであるのが好ましい。また、セラミックス成形体は、前記バインダーとして、ポリビニルブチラールを含むものであるのが好ましい。 （もっと読む）

【課題】銅フリの発生が少ない、金属銅膜の製造方法及び金属銅パターンを提供する。
【解決手段】金属銅膜となる層として銅酸化物粒子堆積層を基板表面に形成する工程と、０．１ｇ／Ｌ以上の高濃度のガス状のギ酸を含むガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を１４０℃以上で加熱処理する工程とを有する金属銅膜の製造方法であって、前記加熱処理工程の前に、ギ酸ガスを含まないガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を１４０℃以上で予備加熱する工程、及び／又は、０．０２ｇ／Ｌ以下の低濃度のガス状のギ酸を含むガス雰囲気中で前記銅酸化物粒子堆積層を１４０℃以上で予備加熱する工程を行う、金属銅膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板に対して優れた密着性が確保された金属配線を有する金属配線板の製造方法を提供すること。
【解決手段】本適用例の金属配線板の製造方法は、基板としての基材１上に絶縁層２をパターニング形成する絶縁層形成工程（ステップＳ１）と、基材１上に金属微粒子を含む機能液３０を塗布して金属配線の前駆体３ｐを形成する塗布工程（ステップＳ２）と、該前駆体３ｐを加熱して焼成し金属配線３を形成する焼成工程（ステップＳ３）と、絶縁層２と金属配線３とを覆うレジスト層４を形成するレジスト形成工程（ステップＳ４）とを備え、焼成工程（ステップＳ３）は、一対の電極４１，４２間に基材１を配置して、該前駆体３ｐを加熱焼成しながら、基材１および該前駆体３ｐに対して該前駆体３ｐの厚み方向に電界を印加する電界印加工程を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】パターンを形成するためのインクを画線部分のみに使用し、かつ高精細なパターニングが可能な描画パターンの形成方法を提供する。
【解決手段】描画パターン４が形成される領域を囲む隔壁２を印刷法によって形成し、隔壁２の内側にインクジェット法によりインク３を注入して描画パターン４を形成した後に隔壁２を除去する。隔壁２の形成に用いられるインクとしては、水またはアルカリ水に可溶の樹脂を含むレジストがあげられる。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線基板等の基板上に描画済の配線パターンの変更を簡易に行ない、生産性を向上すること。
【解決手段】 基板１０上に描画済の既設配線を修正する基板１０の配線修正装置１００であって、第１の既設配線１１を設定された切断位置においてレーザにより切断するレーザ切断装置１４０と、第１の既設配線１１における接続予定部と第２の既設配線１２における接続予定部とをつなぐ再配線３０を描画する配線用インクジェット塗布装置１５０を有するもの。 （もっと読む）

【課題】クラック、断線等の発生を防止し、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターンの形成方法は、液滴吐出法により基材上にインクの液滴を吐出し、乾燥して基材上にパッド部とパッド部に接続する配線部とを有する導体パターンの前駆体を形成する導体パターン前駆体形成工程と、焼成工程とを有し、パッド部形成領域は、配線部形成領域の延長線上に位置する第１の領域と、第１の領域を介して第１の領域の両側に位置する第２の領域と、各第２の領域の第１の領域と反対側の側部に位置する第３の領域とを有し、導体パターン前駆体形成工程では、パッド部形成領域内に、インクの液滴を付着させる付着点の密度が、第１の領域および第３の領域のいずれよりも第２の領域の方が低くなるようにインクの液滴を吐出する。 （もっと読む）

【課題】クラック、断線、短絡等の発生が防止された、信頼性の高い導体パターンを備えた信頼性の高い配線基板を効率よく製造することのできる製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の配線基板の製造方法は、セラミックス材料とバインダーとを含む材料で構成され、少なくとも表面付近の一部に多価アルコール１３を含むシート状のセラミックス成形体１９を用意するセラミックス成形体用意工程と、前記セラミックス成形体の前記多価アルコールを含む領域に、金属粒子と前記金属粒子が分散する分散媒とを含む導体パターン形成用インク２００を液滴吐出法により吐出して、導体パターン前駆体１０を形成する導体パターン前駆体形成工程と、複数の前記セラミックス成形体を積層して積層体１７を得る積層工程と、前記積層体を焼結して、導体パターンおよびセラミックス基板とを有する配線基板３０を得る焼成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】断線、ショート等の発生を防止し、信頼性の高い導体パターンを形成することができる導体パターンの形成方法等を提供すること。
【解決手段】本発明の導体パターンの形成方法は、ノズル検査工程、描画データ作成工程、導体パターン前駆体形成工程、焼成工程を有し、前記描画データ作成工程は、ビットマップデータ作成工程、仮描画データ作成工程、仮描画データを補正して描画データを得る描画データ補正工程を有し、前記描画データ補正工程では、前記描画データとして、前記ノズル検査工程で特定された不良ノズルの使用を禁止することを示す情報を付加すると共に、正常ノズルが補完対象ピクセルと同じ主走査方向のライン上に位置するときの主走査の際、前記補完対象ピクセルに対し、正常ノズルから導体パターン形成用インクの液滴を吐出することを示す情報を付加する。 （もっと読む）

【課題】ムラが目立たないようにパターンを形成すること。
【解決手段】基板に第１のパターンを塗布する第１パターン塗布部と、当該基板に第２のパターンを塗布する第２パターン塗布部と、を備え、第２パターン塗布部は、第１のパターンの一部分と第２のパターンの一部分とが基板の搬送方向に交差する方向に互いに重なるように、第２のパターンを塗布する。 （もっと読む）

【課題】導電性材料を硬化させる工程を不要にでき、導電性材料と絶縁性基材を強固に一体形成することを可能にした配線基材及び配線基材の製造装置並びに配線基材の製造方法を提供する。
【解決手段】転写ロール１２によって絶縁性基材２の他面２ｂ側を低温で維持しつつ、版胴ロール１１の内孔から微細孔を通じて導電性材料（溶融した導電性材料）３を外周面１１ｂ側に排出させ、この導電性材料３を絶縁性基材２の一面２ａに押し付ける。そして、絶縁性基材２を導電性材料３で溶かし、絶縁性基材２の一面２ａに一部を露出させた状態で導電性材料３を絶縁性基材２に埋設させ、導電性材料３と絶縁性基材２の接合界面を融合させて、導電性材料３と絶縁性基材２を一体形成するようにした。 （もっと読む）

【課題】半田喰われ現象を可及的に防止する機能を有する導電性中間層を、環境負荷が低く、かつ生産性良く形成することを目的とする。
【解決手段】絶縁基材２と、絶縁基材２の少なくとも一方の面に形成された配線回路パターン３と、配線回路パターン３の一部に形成された、電子部品７を実装するための電子部品実装ランド部３１と、電子部品実装ランド部３１上に、導電性インク膜の焼成体から構成される導電性中間層５とを備える。 （もっと読む）