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Fターム[5E343GG11]の内容

プリント配線の製造 (50,760) | 目的、効果 (6,348) | 製造工程の簡素化 (1,328)

Fターム[5E343GG11]に分類される特許

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【課題】 良好な電気的特性を有する立体的回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 絶縁性フィルム1の片面に配線2が形成されたフィルム状回路基板3と表面に接着剤層5が形成された円筒形状の筺体4とを準備し、筺体4の表面全周にフィルム状回路基板3をその配線2が形成された面側が筐体4との貼付面側となるように接着剤層5を介して貼り付けた後、絶縁性フィルム1を除去して筺体4の表面の接着剤層5に配線2を残す。絶縁性フィルム1の除去は、エッチング処理による溶解除去であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】優れたスループットを実現できる配線構造体を提供する。
【解決手段】配線構造体は、微細ピッチで構造体が多数形成された第1の領域R1と、平面状に形成された第2の領域R2とを有する基体1と、第1の領域R1、および第2の領域R2のうち第2の領域R2に連続的に形成されて、配線パターンをなす金属層4とを備える。 (もっと読む)


【課題】高密度実装可能なスタックビア構造を有するビルドアップ型多層プリント配線板を安価かつ安定的に製造する方法を提供する。
【解決手段】可撓性の絶縁ベース材1と、その両面に形成された内層回路パターン11A,11Bと、絶縁ベース材1を貫通し、内層回路パターン11Aと11Bを電気的に接続する埋込みビア6と、内層回路パターン11A,11Bのうち埋込みビア6が露出した受けランド部を被覆し、表層が金、銀又はニッケルからなる蓋めっき層9とを有する両面コア基板16を備える。さらに、両面コア基板16の上に積層されたビルドアップ層を備える。このビルドアップ層は、表層の外層回路パターン23と、外層回路パターン23と内層回路パターン11Aを電気的に接続するブラインドビア22Aとを有する。ブラインドビア22Aは、埋込みビア6とともにスタックビア構造を構成する。 (もっと読む)


【課題】給電体のめっき皮膜を剥離しつつ、プリント配線板の生産効率を向上させる方法及び装置の提供。
【解決手段】電解めっき液3が収容されるめっき液浴11と、めっき液浴11内でFPC2(被めっき物)に対向するように配置された陽極板12と、めっき液浴11内でFPC2に電気的に接触する第1位置及び非接触となる第2位置に移動可能なように配置された一対の給電体13と、第1位置と第2位置との間において一対の給電体13のそれぞれを移動させる駆動機構と、記一対の給電体13及び陽極板12への印加電位をそれぞれ制御するコントローラと、を備え、コントローラは、第1位置に移動する給電体13に負の電位を印加するとともに、第2位置に移動する給電体13に負の電位を印加する。 (もっと読む)


【課題】マスク上にペーストを供給する場合であってもスキージによるペーストの転写動作の開始が遅れることのないスクリーン印刷機及びスクリーン印刷方法を提供することを目的とする。
【解決手段】搬入した基板2を一対のクランプ部材25aによりクランプした後、そのクランプした基板2をマスク15に接触させる前に、基板2をマスク15に接触させた場合にクランプ部材25aと接触することとなるマスク15上の領域RgにペーストPstを供給する。 (もっと読む)


【課題】アウトグロースが発生しても、電気的な特性が安定し、さらに基板表面の平坦化を向上することができ、厚銅のパターンを形成する場合であってもこれに合わせた高さのレジストが不要となるプリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板を提供する。
【解決手段】支持板上に金属層を形成し、金属層上にマスク層を形成し、マスク層高さまでめっきされた柄部7と、マスク層高さよりも高く盛り上げてめっきされ、一部がマスク層の表面にはみ出したアウトグロース8aを有する傘部8とを含むパターンめっき6を形成し、支持板、薄胴層及びパターンめっき6の三者からなる導電回路板に前記絶縁基材10を積層してパターンめっき6が前記絶縁基材10に埋設された基板中間体を形成し、前記支持板及び前記金属層を除去し、前記導電パターンの前記柄部7が除去されるまで機械的に研磨し、前記露出面上での前記導電パターンの線幅を増大させる。 (もっと読む)


【課題】 環境や作業員への負荷が大きく高コストである過マンガン酸塩等を用いた処理を行うことなく、また内層金属をエッチングすることなく、ビア等に発生したスミアを効果的に除去し、内層金属回路とめっき金属との密着性、接続信頼性を向上させるための表面処理方法及び表面処理剤を提供する。
【解決手段】 樹脂を含有するプリント配線基板に形成されたブライドビア、スルーホール、トレンチ等の穴部に残存するスミアを、内層金属をエッチングすることなく除去するプリント配線基板の表面処理方法であって、プリント配線基板を、少なくとも過酸化水素を含有し、弱酸性から弱アルカリである第1の処理液に浸漬し、その後、そのプリント配線基板を、少なくともアルカリ化合物と有機溶媒とを含有する第2の処理液に浸漬する。 (もっと読む)


【課題】導電性ペーストの代わりにプリント基板との接着力が弱い導電性インクを用いることで、レジストと導電性インクを1工程で剥離することができる電解メッキ形成方法を提供する。
【解決手段】配線パターン3と配線パターン3とは電気的に独立して形成された島パターン4とを備えたプリント基板1上の島パターン4の表面に電解メッキ層7を形成する電解メッキ形成方法において、配線パターン3と島パターン4とを導電性インク5で電気的に接続し、導電性インク5上にレジスト6を形成し、電解メッキを施した後、レジスト6を導電性インク5と共に除去する方法である。 (もっと読む)


【課題】量産化により製造容易で低コスト化に有利な貫通導体を有する絶縁基板と配線部品を提案する。
【解決手段】金属薄板材21を部分的に切り抜いた櫛歯部分23を形成し、この櫛歯部分を垂直に折り曲げ、その先端を高温で軟化状態の絶縁基板材24に貫通挿入し、冷却後に、絶縁基板材の両面を研磨した貫通導体25を有する絶縁基板20が作製される。なお、金属薄板材の一部をエッチングにより切り抜きの櫛歯部分とこれと連結する薄肉の接続部分をハーフエッチングで形成し、金属薄板材の櫛歯部分を貫通導体に、また、肉薄の接続部分を配線材として用いる貫通導体を有する配線部品も提供される。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法を用いた場合でも高いスループットで微細な導電層を有する積層構造体を製造可能な積層構造体の製造方法、並びに積層構造体、多層配線基板、アクティブマトリクス基板及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】基板上に、同一パターンの高表面エネルギー部40を一定の間隔で周期的に配列しておき、インクジェット装置の主走査方向(X軸方向)における吐出ノズル1,2の間隔を、高表面エネルギー部40のパターン間隔と一致させて選択的に機能液の液滴dを滴下してソース電極230、ソース電極線290、ドレイン電極240となる導電層を形成する。 (もっと読む)


【課題】 触媒付与等の前処理工程や乾燥工程などが不要で、工程が少なく、配線基板を安価で生産性良く製造する方法を提供する。
【解決手段】 基板上に金属膜を形成する金属膜形成工程と、金属膜を所望形状の配線パターンとする配線パターン形成工程とを備え、前記金属膜形成工程において、基板と金属の前駆体と触媒成分と還元剤成分とを、超臨界または亜臨界流体中に共存させて処理することにより、前記基板に金属膜を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 (もっと読む)


【課題】めっき部形成時におけるレジストマスクの形成・剥離が不要であり、めっき漏れを抑制でき、めっき部の厚さのバラつきを低減し、かつ、めっきロスの少ない支持枠付回路基板の提供。
【解決手段】支持枠11の内部開口領域12で回路基板10および支持枠11が一体化している支持枠付回路基板であって、回路基板10は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された配線層3と、配線層3および絶縁層2を覆うカバー層4と、カバー層4に覆われていない配線層3の表面上に形成されためっき部6とを有し、上記支持枠11は、金属支持基板1と、金属支持基板1上に形成された絶縁層2と、絶縁層2上に形成された導体層7と、導体層7上に形成され、カバー層4と同一の材料から構成される保護層8とを有することを特徴とする支持枠付回路基板。 (もっと読む)


【課題】金属−セラミックス接合回路基板の断面形状を少ない工数または低コストで容易に制御することができ、且つ耐熱衝撃性または絶縁性に対してより高信頼性を有する金属−セラミックス接合回路基板を製造することができる、金属−セラミックス接合回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】セラミックス基板10の両面にろう材12を介してCu板14を接合した後、 Cu板14の表面の所定の部分にUV硬化アルカリ剥離型レジスト16を塗布してCu板14の不要部分をエッチングすることにより金属回路部を形成し、レジスト16を維持したまま、不要なろう材12およびろう材12とセラミックス基板10との反応生成物を除去し(あるいは、不要なろう材12およびろう材12とセラミックス基板10との反応生成物を除去し、金属回路部の側面部をエッチングし)、その後、レジスト16を剥離し、 Ni−P無電解メッキ18を施す。 (もっと読む)


【課題】信頼性の高い配線層を低コストで形成し得る配線層の形成方法を提供する。
【解決手段】基板10上に樹脂層12を形成する工程と、樹脂層12上にチタンを含む密着層14を形成する工程と、密着層14上にシード層16を形成する工程と、シード層16上に配線層22を形成する工程と、配線層22をマスクとしてシード層16をエッチングする工程と、一般式Ti(OR(O4−X(但し、R、Rはアルキル基又は水素であり、Xは1〜3の整数であり、Yは正の整数である)、又は、一般式Ti(OR(但し、Rはアルキル基である)で表されるチタン有機化合物が添加されたエッチング液を用い、前記配線層22をマスクとして、前記密着層14をエッチングする工程とを有している。 (もっと読む)


【課題】耐加熱変色性及びエッチング性に優れたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。
【解決手段】プリント配線板用銅箔は、銅箔基材と、該銅箔基材の表面の少なくとも一部を被覆し、且つ、Au、Pt及びPdのいずれか1種以上を含む被覆層とを備え、被覆層は、Au、Pt及びPdのいずれか1種以上の貴金属粒子と、貴金属粒子を覆うシランカップリング剤とで構成される。 (もっと読む)


【課題】インクジェット法により必要最小限の絶縁性の配線を形成し、絶縁性配線の断面形状を凹溝状に形成することで、高精度で正確な微細な線状の導電性配線を形成することができる配線パターン形成方法等を提供する。
【解決手段】インクジェット法により所定の物性値を満たす絶縁性の液滴を吐出し、断面凹溝状の絶縁性の配線を形成する絶縁配線工程と、絶縁配線工程で形成された断面凹溝状の溝内に導電性の配線を形成する導電配線工程とを含む。導電配線工程の前に断面凹溝状の溝内に無電解めっきの触媒となる液敵を吐出して触媒部を形成する触媒形成工程を含んでもよい。その場合、導電配線工程では無電解めっきが行われる。 (もっと読む)


【課題】膜厚を厚くして断面形状のアスペクト比が大きな回路パターンを形成して変換効率の向上を図ることができるとともに残留ペーストを効率よく除去することができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供する。
【解決手段】メタルマスク1における上面に対して所定長さのスキージ14を相対的に摺接させながら回路パターンとなるペーストをメタルマスク1の表面に供給するスキージヘッド13と、メタルマスク1の下面をクリーニングする所定長さを有するクリーニングノズル36と、を備え、メタルマスク1が、各開口部および架橋部が設けられたグリット部と、グリット部が複数、かつ、平行に配列され、各グリット部の長手方向端部の終端開口部に連続する帯状のバスバー部とを有し、クリーニングノズル36が、クリーニングノズル36の長手方向がバスバー部の長手方向に対して平行である。 (もっと読む)


【課題】膜厚を厚くして断面形状のアスペクト比が大きな回路パターンを形成して変換効率の向上を図ることができるスクリーン印刷装置およびスクリーン印刷方法を提供する。
【解決手段】メタルマスク1における上面に対して所定長さのスキージ14を相対的に摺接させながら回路パターンとなるペーストをメタルマスク1の表面に対して所定の圧力で供給するカートリッジ式のスキージヘッド13と、を備え、メタルマスク1が、回路パターンの長手方向に沿って各開口部が配列されているとともに、各開口部の間において回路パターンの長手方向に対して交差する方向に沿って架橋部が設けられ、スキージヘッド13が、各開口部および架橋部の配列方向に対して直交する方向にスキージ14の長手方向が沿うようにメタルマスク1に対して相対的に配置されるとともに、スキージ14が、各開口部および架橋部の配列方向に沿ってメタルマスク1に対して相対的に移動する。 (もっと読む)


【課題】 金属箔と基材との接着性に優れ、高温長時間での使用でも接着力が低下せず、柔軟性と、耐熱性に優れ、しかも、製造にあたっては作業能率がよく低コストで大量生産ができるフレキシブルプリント基板、及び補強フレキシブルプリント基板を提供する。
【解決手段】 絶縁性の基材11と、粘接着層13及び金属箔31とが積層されてなり、粘接着層13がアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、及び硬化剤を含むことを特徴とし、また粘接着層13がアクリル系樹脂とエポキシ系樹脂とが海島構造であり、さらに前記アクリル系樹脂がEA−BA−ANをもつモノマーをラジカル重合してなるアクリル酸エステル共重合体で、前記エポキシ系樹脂がNBR変性エポキシ樹脂と、bis−A型エポキシ樹脂からなり、前記硬化剤がジシアンジアミド系の化合物であることも特徴とする。 (もっと読む)


【課題】機能性薄膜を高品質かつ異物が少なく印刷する上で有利な機能性薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】基板定盤106上に、ガラス基板107を載置した後、印刷開始指示によって印刷動作が開始される。この間、アニロックスロール101上にはインキが供給されドクタリングが継続的に実施され平滑にドクタリングされた表面が常に保持されている。ドクタリングする際の速度は本発明に従って決定される。すなわち、ドクターロール102でアニロックスロール101上の余剰インキを掻き落とす際のアニロックスロール101表面の周速度をV1、インキの粘度をη、インキの表面張力をσとした時、Ca=ηV1/σであらわされる数値の範囲が0.002≦Ca≦0.03の範囲となるようにアニロックスロール101表面の周速度V1が設定される。 (もっと読む)


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