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Fターム[5E346CC38]の内容

多層プリント配線板の製造 (97,916) | 多層の材料・材質 (18,988) | 導体材料 (7,671) | 金系 (763)

Fターム[5E346CC38]に分類される特許

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【課題】電子部品と、この電子部品を収容する基体の配線導体とを電気的に接続する接合部材に大きな圧力が加わる可能性があった。
【解決手段】内部に空間が形成されたグリーンシート積層体、およびグリーンシート積層体の表面に配設された第1の導電ペーストを備えた生積層体と、複数のセラミック層からなる積層体、および積層体の表面に配設された第2の入出力電極を備えた電子部品とを準備し、電子部品を上記の空間に収納するとともに導電性の接合部材となる第2の導電ペーストを介して第1の導電ペーストと第2の入出力電極とを接合するとともに生積層体を焼成する際に、上記の空間の容積が電子部品の体積よりも大きく、焼成する工程の後における接合部材の少なくとも一部がこの空間に露出することを特徴とする電子部品モジュールの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、パッドとビアとの間の電気的接続信頼性を十分に確保することのできる配線基板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】パッドは、配線基板から露出された金属層と、配線基板から露出された金属層とビアとの間に設けられ、ビアに含まれる金属の配線基板から露出された金属層への拡散を防止する第1の金属層と、ビアと前記第1の金属層との間に設けられ、第1の金属層よりも酸化されにくい第2の金属層とを有し、パッドを構成する金属層のうち、第2の金属層の上面が粗化処理され、パッドは、その側面、第2の金属層側の面が絶縁層により覆われ、配線基板から露出された金属層側の面が絶縁層より露出しており、絶縁層には、第2金属層の粗化処理された面を露出する開口部が形成され、開口部に第2の金属層の粗化処理された面に接続されるビアが形成され、絶縁層の上面にはビアと接続された配線が設けられている配線基板及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】 内部への水分浸入を抑制された信頼性の高い多層配線基板を提供する。
【解決手段】 本発明の多層配線基板は、少なくとも表面配線導体2に接続された貫通導体4が絶縁層11、12の厚さの中央となる位置に大径部41を有し、大径部41から表面配線導体2または内部配線導体3との接続端に向かって径が徐々に細くなるような形状となっており、表面配線導体2は、積層方向から見て表面配線導体2に接続された貫通導体4の大径部41の外周より内側となる領域A1の気孔率が5.3〜6.7%で、大径部41の外周より外側となる領域A2の気孔率よりも小さく、絶縁層12は、積層方向から見て貫通導体4の大径部41の外周より内側となる領域B1の気孔率が5.0〜5.5%で、大径部41の外周より外側となる領域B2の気孔率よりも小さいことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 室温で低圧結合処理を用いて、製造するのに高価でもなく扱いにくくもない堅い可撓性のあるケーブル組立品を形成するためのシステム及び方法を提供すること。
【解決手段】 本開示の1又はそれ以上の態様においては、堅い可撓性のあるケーブル組立品を製造する方法が開示される。本方法は、導電性の表面を有するポリイミド膜の1又はそれ以上の層を配置して1つのスタックにすること、上記ポリイミド膜の1又はそれ以上の層に接着剤を付与し、上記スタックの上部部分及び底部部分に上部ポリイミド膜及び下部ポリイミド膜を配置して、堅い可撓性のある回路基板を形成すること、上記ポリイミド膜の1又はそれ以上の層が製造の間に互いに関して移動しないように、上記堅い可撓性のある組立品を形成する適切な圧力及び温度を選択すること、を含む。 (もっと読む)


【課題】層間接続を安定させ、信頼性の高い配線板、電子部品内蔵基板、配線板の製造方法及び電子部品内蔵基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】配線板又は電子部品内蔵基板は、複数のフィラーを含有する樹脂を有する基板と、基板に設けられた少なくとも1つの配線と電気的に接続されるビアと、を含み、ビアは、基板よりも径方向内側に、複数のフィラー間に金属が設けられている混合領域を有する。そして、配線板又は電子部品内蔵基板の製造方法は、複数のフィラーを含有する樹脂を有する基板を準備する手順と、基板にビア形成穴を形成する手順と、少なくともビア形成穴の内壁をアッシング処理する手順と、ビア形成穴の内壁を無電解めっきする手順と、を有する。 (もっと読む)


【課題】基材除去後における製造工程数を低減することでき、かつ信頼性の高い多層配線基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】銅箔55を剥離可能な状態で積層配置してなる基材52を準備するとともに、ソルダーレジスト35を銅箔55上に形成する。ソルダーレジスト35に開口部36,37を形成するとともに、開口部36,37内に金属導体部58を形成する。金属導体部58の表面及びソルダーレジスト35の全面に異種金属層49をスパッタリングにより形成する。電解銅めっきを行い、異種金属層49上にて、接続端子41,42及び導体層26を形成する。ビルドアップ工程後、基材52を除去して銅箔55を露出させ、露出した銅箔55及び金属導体部58をエッチング除去して、接続端子41,42の表面を開口部36,37から露出させる。 (もっと読む)


【課題】多層配線基板のバンプとして用いた際、製造工程において高温で加熱された場合であっても抵抗値の低下を抑制し、多層配線基板に対し優れた信頼性を与えることができる導電性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】多層基板のバンプ形成に用いられる導電性樹脂組成物であって、(A)熱硬化性樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤および(D)充填剤を含んでおり、硬化物の175℃における弾性率が4000MPa以上であることを特徴とする導電性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】 パッドとソルダーレジスト層との密着性を確保しつつ、パッドと半田バンプとの間の電気抵抗が増大することを防止することができる多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 第1層間樹脂絶縁層と、上記第1層間樹脂絶縁層上に形成されて、電子部品を搭載するためのパッドと、上記第1層間樹脂絶縁層と上記パッドとの上に形成され、上記パッドに到達する開口部を有するソルダーレジスト層と、上記開口部の底部に位置し、上記パッド上に形成されている保護膜とを備える多層プリント配線板であって、上記パッドの表面に、Sn、Ni、Zn、Co、Ti、Pd、Ag、Pt及びAuのうちの少なくとも1種の金属を含む金属層が形成され、上記金属層上に、カップリング剤からなる被膜が形成され、上記保護膜の少なくとも一部は、上記開口部によって露出される上記パッドの露出面に直接形成されており、上記ソルダーレジスト層は、エポキシ樹脂からなることを特徴とする多層プリント配線板。 (もっと読む)


【課題】多層配線の層間導電路を、印刷工程により作製可能な多層配線体を提供する。
【解決手段】
本発明に関する多層配線体は、基材上に形成された第1配線と、第1配線と、第1配線の上層に形成された第2配線とを接続する層間接続部と、基材上に形成され層間接続部を中心として開口を設けた第1絶縁層と、層間接続部を中心として周囲に1つあるいは複数のパターンとして形成され、少なくとも一部を開口内に設けている第2絶縁層とを備え、第2配線は前記層間接続部と第1絶縁層上に形成されていることを特徴とする多層配線体。 (もっと読む)


【課題】デカップリングコンデンサを必要とすることなく、電源層間での電磁エネルギーの共振による電磁放射と電源電圧の変動を防止可能な電源構造体および回路基板を提供する。
【解決手段】2つの電源層11,13と、電源層11−13間に挟持された層間絶縁膜15とを備えた電源構造体1であり、電源層11,13のうちの少なくとも一方が、有機材料に導電性微粒子を分散させた導電性微粒子分散膜aからなることを特徴とている。また回路基板は、このような構成の電源構造体1を備えたものである。 (もっと読む)


【課題】本発明は、薄型化並びに小型化を実現しつつ、積層基板のエレクトロマイグレーションに起因する導電体間の短絡を防止することができ、磁性体を含む素子の電気的特性を向上することができる電子回路装置及びその製造方法を提供する。
【解決手段】電子回路装置において、第1の絶縁基材121(2)と、第1の絶縁基材121(2)の表面上に配設された第1の導電体128(1)と、第1の絶縁基材121(2)の裏面上に配設された第2の導電体126(1)と、第1の絶縁基材121(2)の裏面上に第2の導電体126(1)を介在し接着された第2の絶縁基材122(1)とを備えたトランス基板12と、トランス基板12に配設された磁性体と、基板12の第1の絶縁基材121(2)の端面から第2の絶縁基材122(1)の端面に渡って配設された絶縁性を有する樹脂被膜129とを備える。 (もっと読む)


【課題】絶縁層とフェライト層との間の接合強度をより向上させたガラスセラミック基板を提供する。
【解決手段】フェライト結晶を有するフェライト層2と、フェライト結晶と同じ結晶構造の第1結晶を含むガラスセラミックスを有する絶縁層1と、絶縁層1とフェライト層2との間に配置された第1結晶を含むガラスセラミックスおよびフェライト結晶を有する中間層3とが積層されたガラスセラミック基板において、中間層3の複数のフェライト結晶の一部が、絶縁層1側へ突出しているガラスセラミック基板である。絶縁層1側へ突出したフェライト結晶の一部と絶縁層1に含まれている第1結晶とが結合し、結合したフェライト結晶および第1結晶の周囲に非晶質のガラス成分があるので、結晶同士が結合し、絶縁層1と中間層3との界面での接合強度の高いガラスセラミック基板とすることができる。 (もっと読む)


【課題】信頼性を向上させる要求に応える配線基板を提供する。
【解決手段】配線基板3は、第2樹脂層10bと、第2樹脂層10b上に形成された無機絶縁層11とを備える。無機絶縁層11は、粒径が3nm以上110nm以下であるとともに互いに結合した第1無機絶縁粒子11aを含む。第2樹脂層10bは、無機絶縁層11に接着されており、熱膨張率が10ppm/℃以上50ppm/℃以下、弾性率が0.1GPa以上10GPa以下、ガラス転移温度が170℃以上である熱硬化性樹脂組成物からなる。 (もっと読む)


【課題】層間導通に用いるビアホールの底面における接続信頼性を向上させる。
【解決手段】プリント配線板は、可撓性を有する第1の絶縁層21aと、第1の絶縁層21aの第1の主表面に配置されたシード層22aと、シード層22aの上に配置された第1の導体回路23aと、第1の絶縁層21a及びシード層22aを貫通するビアホールの中に埋め込まれ、且つビアホールの底面に表出した第1の導体回路23aに接触する層間導通部24aとを備える。層間導通部24aと第1の導体回路23aとの親和性は、層間導通部24aとシード層22aとの親和性よりも高い。 (もっと読む)


【課題】 高密度実装化、多層配線化および低コスト化が容易な部品内蔵プリント配線板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 コア材11の一主面から他主面に貫通する開口12が形成され、開口12の側壁に圧接する機能素子13が取り付けられ、機能素子13の両端子13a、13bがコア材11の一主面と他主面とに向いて露出する。コア材11の一主面上に第1の層間絶縁層14が形成され、その第1の導体バンプ15が端子13aに接続し、第1の導体層16に電気的に取り出される。同様に、コア材11の他主面上に第2の層間絶縁層17が形成され、その第2の導体バンプ18が端子13bに接続し、第2の導体層19に取り出される。また、この第1の層間絶縁層14と第2の層間絶縁層17は、開口12と機能素子13の間に生じる空隙を埋める。 (もっと読む)


【課題】冷熱サイクルにおけるクラックの発生を効果的に防止することができるとともに、EIA規格で定められているような温度特性と静電容量を有するチップコンデンサを内蔵する多層配線基板を提供する。
【解決手段】複数のセラミック絶縁層1が積層されたセラミック絶縁基板の内部の空海内に、ビア導体11を介して接続されたコンデンサ7を内蔵してなり、前記セラミック絶縁層1と前記コンデンサ7とが、間隙を有して離間している。 (もっと読む)


【課題】微細で密着力のある外層回路が形成可能であり、歩留まりの向上および半導体素子との接続信頼性を確保可能な半導体素子搭載用パッケージ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】多層金属箔9と基材16とを積層してコア基板17を形成する工程と、多層金属箔9の第1キャリア金属箔10を物理的に剥離する工程と、第2キャリア金属箔上11にパターンめっき18を行い、絶縁層を積層して積層体を形成する工程と、積層体を第2キャリア金属箔11とともにコア基板17から分離する工程と、エッチングによりパターンめっき18の表面が絶縁層の表面に対して凹みを形成するようにする工程と、凹みに貴金属めっきを行い絶縁層の表面に対して平坦とする工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】ICチップや母基板との接続部分におけるクラックの発生を防止することにより、信頼性を向上させることができる多層配線基板を提供すること。
【解決手段】多層配線基板10は、樹脂絶縁層21〜27及び導体層28を交互に積層して多層化した積層構造体30を有する。樹脂絶縁層21〜27は、第1の樹脂絶縁層21,25,27と、第1の樹脂絶縁層21,25,27よりも多量の無機材料29を含有しかつ熱膨張係数が小さい第2の樹脂絶縁層22〜24,26とを含んでいる。そして、積層構造体30を厚さ方向に切断した切断面において、領域A2に占める第2の樹脂絶縁層22,23,24の厚さの比率が、領域A1に占める第2の樹脂絶縁層24,26の厚さの比率よりも大きくなっている。なお積層構造体30には、第2主面32側が凸となる反りが生じている。 (もっと読む)


【課題】より少ない工程でかつ安価に形成することができ、しかも貫通孔の深さ方向にわたり均一な厚みの金属膜を形成することができ、電気的接続の信頼性に優れたスルーホール電極の形成方法を提供することにある。
【解決手段】金属板2上に基板6が積層されている積層体1を用意し、積層体1の基板6側からレーザー光Aを照射し、貫通孔4a,5aを基板6に形成し、さらに貫通孔下部の金属板2にレーザー光を照射し続け、金属と金属を段階的にを飛散させ、貫通孔4a,5aの内周面に金属膜からなるスルーホール電極を形成する、スルーホール電極の形成方法。 (もっと読む)


【課題】半導体チップと電気的に接続される電極パッドのピッチの、所望のピッチからのずれを小さくすることができる配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップを構成する半導体基板と同等の熱膨張率を有する材料からなる支持基板11の上面に凹部を形成する工程、前記支持基板の上面に剥離層を形成する工程と、前記剥離層上に金属層を形成する工程と、前記金属層上に第1絶縁層16を形成する工程と、前記凹部に対応する位置の前記金属層が露出するように、前記第1絶縁層16を貫通する貫通穴を形成する工程と、前記金属層をシード層として、前記貫通穴内に露出した前記金属層上に第1配線層17を形成する第1配線層形成工程と、前記第1配線層17及び前記第1絶縁層16上に更に配線層及び絶縁層を積層する積層工程と、前記剥離層に所定の処理を施すことにより、前記支持基板11を除去する工程とを有する。 (もっと読む)


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